DE102013225936B4 - Vorrichtung und Verfahren zum Korrelieren von Abbildungen einer photolithographischen Maske - Google Patents
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
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Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102013225936.0A DE102013225936B4 (de) | 2013-12-13 | 2013-12-13 | Vorrichtung und Verfahren zum Korrelieren von Abbildungen einer photolithographischen Maske |
| JP2014252222A JP6249236B2 (ja) | 2013-12-13 | 2014-12-12 | フォトリソグラフィマスクの画像を相関させるための装置及び方法 |
| US14/568,681 US9990737B2 (en) | 2013-12-13 | 2014-12-12 | Apparatus and method for correlating images of a photolithographic mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102013225936.0A DE102013225936B4 (de) | 2013-12-13 | 2013-12-13 | Vorrichtung und Verfahren zum Korrelieren von Abbildungen einer photolithographischen Maske |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102013225936A1 DE102013225936A1 (de) | 2015-06-18 |
| DE102013225936B4 true DE102013225936B4 (de) | 2021-02-18 |
Family
ID=53192316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102013225936.0A Active DE102013225936B4 (de) | 2013-12-13 | 2013-12-13 | Vorrichtung und Verfahren zum Korrelieren von Abbildungen einer photolithographischen Maske |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9990737B2 (https=) |
| JP (1) | JP6249236B2 (https=) |
| DE (1) | DE102013225936B4 (https=) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10330581B2 (en) | 2007-09-17 | 2019-06-25 | Rave Llc | Debris removal from high aspect structures |
| US10384238B2 (en) | 2007-09-17 | 2019-08-20 | Rave Llc | Debris removal in high aspect structures |
| DE102015213045B4 (de) * | 2015-07-13 | 2018-05-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Positionsbestimmung von Strukturelementen einer photolithographischen Maske |
| DE102016205941B4 (de) | 2016-04-08 | 2020-11-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Analysieren eines Defekts einer fotolithographischen Maske oder eines Wafers |
| DE102017203879B4 (de) * | 2017-03-09 | 2023-06-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Analysieren einer defekten Stelle einer photolithographischen Maske |
| DE102017211957A1 (de) * | 2017-07-12 | 2019-01-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Untersuchen einer Messspitze eines Rastersondenmikroskops |
| DE102018210098B4 (de) * | 2018-06-21 | 2022-02-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Untersuchen und/oder zum Bearbeiten einer Probe |
| EP3627225A1 (en) * | 2018-09-19 | 2020-03-25 | ASML Netherlands B.V. | Particle beam apparatus, defect repair method, lithographic exposure process and lithographic system |
| DE102019209394B4 (de) * | 2019-06-27 | 2024-06-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Überlagern von zumindest zwei Bildern einer fotolithographischen Maske |
| US11366382B2 (en) * | 2020-02-24 | 2022-06-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method and apparatus for performing an aerial image simulation of a photolithographic mask |
| CN118043932A (zh) * | 2021-09-30 | 2024-05-14 | 株式会社日立高新技术 | 解析系统 |
| JP7828829B2 (ja) * | 2022-05-21 | 2026-03-12 | 株式会社ホロン | フォトマスク修復装置およびフォトマスク修復方法 |
| US11982684B1 (en) * | 2022-05-27 | 2024-05-14 | Ut-Battelle, Llc | Science-driven automated experiments |
| DE102022119752B4 (de) * | 2022-08-05 | 2024-11-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Charakterisierung einer Störung in einem Rasterelektronenmikroskop |
| DE102023130586A1 (de) * | 2023-11-06 | 2025-05-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Untersuchen eines Rohlings einer Photomaske für die Mikrolithographie |
| DE102024131676A1 (de) | 2024-10-30 | 2026-04-30 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Inspektion von mikrolithografischen Fotomasken, Computerprogrammprodukt, System zur Inspektion einer mikrolithografischen Fotomaske, Verfahren zum Reparieren einer mikrolithografischen Fotomaske und Verfahren zur Mikrolithografie |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102011079382A1 (de) * | 2011-07-19 | 2013-01-24 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Analysieren und zum Beseitigen eines Defekts einer EUV Maske |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69131528T2 (de) * | 1990-05-30 | 2000-05-04 | Hitachi, Ltd. | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung eines sehr kleinen Bereichs einer Probe |
| JP3331596B2 (ja) | 1990-05-30 | 2002-10-07 | 株式会社日立製作所 | 微小部処理方法及びその装置 |
| US6868175B1 (en) | 1999-08-26 | 2005-03-15 | Nanogeometry Research | Pattern inspection apparatus, pattern inspection method, and recording medium |
| US9721754B2 (en) | 2011-04-26 | 2017-08-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method and apparatus for processing a substrate with a focused particle beam |
-
2013
- 2013-12-13 DE DE102013225936.0A patent/DE102013225936B4/de active Active
-
2014
- 2014-12-12 JP JP2014252222A patent/JP6249236B2/ja active Active
- 2014-12-12 US US14/568,681 patent/US9990737B2/en active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102011079382A1 (de) * | 2011-07-19 | 2013-01-24 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Analysieren und zum Beseitigen eines Defekts einer EUV Maske |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015129928A (ja) | 2015-07-16 |
| US9990737B2 (en) | 2018-06-05 |
| US20150169997A1 (en) | 2015-06-18 |
| DE102013225936A1 (de) | 2015-06-18 |
| JP6249236B2 (ja) | 2017-12-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R012 | Request for examination validly filed | ||
| R079 | Amendment of ipc main class |
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|
| R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: CARL ZEISS SMT GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: CARL ZEISS SMS GMBH, 07745 JENA, DE |
|
| R082 | Change of representative |
Representative=s name: BARDEHLE PAGENBERG PARTNERSCHAFT MBB PATENTANW, DE |
|
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