DE102013013069B3 - Process for the accelerated degradation of low-OH quartz glasses for UV-VUV applications - Google Patents

Process for the accelerated degradation of low-OH quartz glasses for UV-VUV applications Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur quantitativen Bestimmung der Strahlenbeständigkeit von nicht-kristallinen und/oder kristallinen Proben mittels bekannter Absorptions-, Transmissions- und/oder Fluoreszenzmessverfahren gemäß der Patentansprüche.The invention relates to a method for the quantitative determination of the radiation resistance of non-crystalline and / or crystalline samples by means of known absorption, transmission and / or fluorescence measuring methods according to the claims.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur quantitativen Bestimmung der Strahlenbeständigkeit von nicht-kristallinen und/oder kristallinen Proben, insbesondere von OH-armen Quarzgläsern und/oder von CaF2-Kristallen mittels bekannter Absorptions-, Transmissions- und/oder Fluoreszenzmessverfahren gemäß der Patentansprüche.The invention relates to a method for the quantitative determination of the radiation stability of non-crystalline and / or crystalline samples, in particular low-OH quartz glasses and / or CaF 2 crystals by means of known absorption, transmission and / or fluorescence measurement method according to the claims.

Aus der DE 196 32 349 C1 ist ein Verfahren zur Bestimmung von Eigenschaftsänderungen einer einer künstlichen Bewitterung ausgesetzten Probe bekannt, welche insbesondere aus einem polymeren Werkstoff besteht. Auf die Probe wirkt eine Strahlung mit einer Spektralverteilung ein, die spektralbereichsweise der von Sonnenstrahlung entspricht. Dabei wird, um hohe Raffungsfaktoren zu erzielen, ohne dass eine unerwünschte Erwärmung der Probe erfolgt, die Probe in einem der Sonnenstrahlung entsprechenden Spektralbereich mit einer Bestrahlungsstärke bestrahlt, die zumindest in etwa 5-fach stärker als die der Sonnenstrahlung in dem entsprechenden Spektralbereich ist, wobei die Eigenschaftsänderung der Probe während der Einwirkung der Strahlung gemessen wird.From the DE 196 32 349 C1 is a method for determining changes in the properties of an artificial weathering exposed sample known, which consists in particular of a polymeric material. The sample is acted upon by a radiation having a spectral distribution which corresponds in spectral range to that of solar radiation. In this case, in order to achieve high gathering factors, without undesired heating of the sample, the sample is irradiated in a spectral range corresponding to the solar radiation with an irradiance which is at least approximately 5 times stronger than that of the solar radiation in the corresponding spectral range the property change of the sample is measured during exposure to the radiation.

Aus der DE 102 25 842 A1 ist ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Bestimmung der Strahlungsbeständigkeit eines optischen Materials bekannt. Dabei werden gleichzeitig mehrere Probenvolumina des optischen Materials mit Teststrahlung unterschiedlicher, ermittelter oder eingestellter Strahlungsenergiedichten bestrahlt. Die Strahlungsbeständigkeit wird dabei anhand eines funktionalen Zusammenhangs zwischen der Strahlungsbeständigkeits-Messgröße und der Strahlungsenergiedichte bestimmt, der mit Hilfe der an den verschiedenen Probenvolumina für die verschiedenen Strahlungsenergiedichten gemessenen Werte der Strahlungsbeständigkeits-Messgröße ermittelt wird.From the DE 102 25 842 A1 For example, a method and apparatus for determining the radiation resistance of an optical material is known. Several sample volumes of the optical material are simultaneously irradiated with test radiation of different, determined or set radiation energy densities. The radiation resistance is determined on the basis of a functional relationship between the radiation resistance measured value and the radiation energy density, which is determined with the aid of the values of the radiation resistance measured variable measured at the different sample volumes for the different radiation energy densities.

Aus dem Stand der Technik sind Langzeitstabilitätsbestimmungen von synthetischem Quarzglas bekannt, welche durch Langzeit- oder Marathonbestrahlungen bei gleichzeitiger Transmissionsmessung durchgeführt werden. Eine derartige Langzeit- oder Marathonmessung soll das Erreichen eines konstanten, akzeptablen Wertes für die Absorption nach einer langen Phase der Absorptionszunahme sowie Korrelationen zu Modellen der Langzeitalterung von synthetischem Quarzglas simulieren. Abhängig von der Fluenz sind hierzu Pulszahlen von mehreren 109 erforderlich. Bei einer entsprechenden Repetitionsrate und/oder Dauerbestrahlung sind dabei Bestrahlungszeiten von einigen Wochen bis zu mehreren Monaten erforderlich. Diese langen Bestrahlungszeiten haben sich als besonders nachteilig erwiesen, da hierbei hohe Betriebs- und Materialkosten für die Untersuchungen anfallen.Long-term stability determinations of synthetic quartz glass are known from the prior art, which are carried out by long-term or marathon irradiations with simultaneous transmission measurement. Such a long-term or marathon measurement is intended to simulate the attainment of a constant, acceptable level of absorption after a long phase of absorption increase, as well as correlations to models of long-term aging of synthetic silica glass. Depending on the fluence pulse numbers of several 10 9 are required. With a corresponding repetition rate and / or continuous irradiation, irradiation times of a few weeks to several months are required. These long irradiation times have proved to be particularly disadvantageous, since in this case high operating and material costs are incurred for the investigations.

Aus der DE 100 50 349 C2 ist ein Verfahren bekannt, welches zur Bestimmung der Strahlenbeständigkeit von Kristallen genutzt werden kann. Dabei wird der Kristall zur Ausbildung sämtlicher theoretisch möglicher Farbzentren mit einer energiereichen Strahlung bestrahlt. Vor bzw. nach der Bestrahlung wird ein Absorptionsspektrum bestimmt. Anschließend wird aus beiden Absorptionsspektren ein Differenzspektrum gebildet, aus dem anschließend das Flächenintegral berechnet wird und dieses wiederum durch die Kristalldicke dividiert wird.From the DE 100 50 349 C2 a method is known which can be used to determine the radiation resistance of crystals. In this case, the crystal is irradiated to form all theoretically possible color centers with a high-energy radiation. Before or after the irradiation, an absorption spectrum is determined. Subsequently, a difference spectrum is formed from both absorption spectra, from which the area integral is then calculated and this in turn is divided by the crystal thickness.

Dadurch wird für den späteren Gebrauch ein Absorptionskoeffizient bestimmt, welcher von einer bestimmten Arbeitswellenlänge induziert wird. Eine Pulslaserbeständigkeit von synthetischem Quarzglas lässt sich mit diesem Verfahren jedoch nicht feststellen.As a result, an absorption coefficient is determined for later use, which is induced by a certain operating wavelength. However, a pulse laser resistance of synthetic quartz glass can not be determined with this method.

Aus der DE 103 31 589 B3 ist bereits ein Verfahren zur quantitativen Bestimmung der Pulslaserbeständigkeit von synthetischem Quarzglas bekannt. Hierbei wird das Quarzglas bei unterschiedlichen Fluenzen bezüglich der Absorption vermessen und aus den gewonnenen Messwerten eine nicht-lineare Funktion ermittelt. Danach wird das Quarzglas mit einem höheren Fluenzwert bis zum Erreichen eines konstanten Absorptionswertes bestrahlt und im Folgenden bei unterschiedlichen Fluenzen bezüglich der Absorption vermessen und daraus ebenfalls eine nicht-lineare Funktion ermittelt. Aufgrund der Differenz beider nicht-linearer Funktionen wird dann die von der Fluenz abhängige Absorptionszunahme bestimmt. Eine günstigere Ausgestaltung erfährt das Verfahren, wenn die Dauerbestrahlung und damit die Pulslaserbeständigkeitsmessung der Probe im Bereich der tiefen Temperaturen (T < 200 K) vorgenommen wird.From the DE 103 31 589 B3 A method for the quantitative determination of the pulse laser resistance of synthetic quartz glass is already known. In this case, the quartz glass is measured with respect to the absorption at different fluences and a non-linear function is determined from the measured values obtained. Thereafter, the quartz glass is irradiated with a higher fluence value until a constant absorption value is reached, and subsequently measured with regard to the absorption at different fluences, and a non-linear function is likewise determined therefrom. Due to the difference between the two non-linear functions, the fluence-dependent absorption increase is then determined. A more favorable embodiment undergoes the method when the continuous irradiation and thus the pulse laser resistance measurement of the sample in the range of low temperatures (T <200 K) is made.

Quarzgläser, insbesondere OH-arme Quarzgläser, finden derzeit speziell Anwendung in sogenannten Projektionsobjektiven (kleinere Laserfluenzen insbesondere < 1 mJ/cm2), welche in der 193 bzw. 248 Nanometer-Lithographie eingesetzt werden. Da sie Materialeigenschaften aufweisen, welche bei vielen Lithographie-relevanten Anwendungen besser geeignet sind als die von OH-reichen Quarzgläser, ist eine Ausweitung ihres Einsatzes auch für Beleuchtungsobjektive (höhere Laserfluenzen insbesondere ≤ 10 mJ/cm2), wirtschaftlich sinnvoll. Problematisch ist jedoch, dass im Vergleich zu OH-reichen Quarzgläsern die OH-armen Quarzgläser typischerweise eine deutlich stärkere Degradation unter intensiver Laserbestrahlung zeigen. Für Anwendungen im tiefen UV konzentiert sich deshalb die Quarzglasentwicklung derzeit auf OH-arme Quarzgläser mit geringer Degradation. Zur Beurteilung der Materialentwicklung sind jedoch vorgenannte Degradationstests erforderlich. Eine Vielzahl von Experimenten hat gezeigt, dass für OH-reiche Quarzgläser eine signifikante Intensitätserhöhung praktisch keine Möglichkeit zur beschleunigten Degradation darstellt. Jedoch konnte, wie aus DE 103 31 589 B3 hervorgeht, durch eine Bestrahlung von OH-reichen Quarzgläsern bei tiefen Temperaturen (z. B. mit flüssigem Stickstoff gekühlte Kryostaten) eine Beschleunigung der Degradation erreicht werden.Quartz glasses, in particular low-OH quartz glasses, currently find particular application in so-called projection objectives (smaller laser fluences in particular <1 mJ / cm 2 ), which are used in 193 or 248 nanometer lithography. Since they have material properties which are more suitable for many lithography-relevant applications than those of OH-rich quartz glasses, an expansion of their use is also economically feasible for illumination objectives (higher laser fluences, in particular ≦ 10 mJ / cm 2 ). The problem, however, is that in comparison to OH-rich quartz glasses, the OH-poor quartz glasses typically show a significantly greater degradation under intense laser irradiation. For applications in deep UV, quartz glass development is therefore currently concentrating on low-OH quartz glasses with low degradation. To evaluate the material development, however, the aforementioned degradation tests are required. A variety of experiments have shown that for OH-rich quartz glasses a significant increase in intensity represents virtually no possibility for accelerated degradation. However, as could DE 103 31 589 B3 shows that an irradiation of OH-rich quartz glasses at low temperatures (eg cryostats cooled with liquid nitrogen) results in an acceleration of the degradation.

Die Erfindung hat daher zum Ziel, ein Verfahren zur quantitativen Bestimmung der Strahlenbeständigkeit von OH-armen Quarzgläsern anzugeben, was insbesondere die Untersuchungsdauer und -kosten gegenüber vergleichbaren Verfahren aus dem Stand der Technik erheblich reduziert.The invention therefore has the object of specifying a method for the quantitative determination of the radiation resistance of low-OH quartz glasses, which in particular considerably reduces the investigation time and costs compared to comparable methods from the prior art.

Diese Aufgabe wird durch ein erfindungsgemäßes Verfahren gemäß Anspruch 1 gelöst. In den Unteransprüchen sind vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung angegeben.This object is achieved by an inventive method according to claim 1. In the dependent claims advantageous developments of the invention are given.

Erfindungsgemäß wurde nämlich gefunden, dass ein Entstehen der Degradation und damit ihre Bestimmung verkürzt werden kann, wenn die SiO2-Probe (OH-armes Quarzglas) für die Messung mittels bekannter Absorptions-, Transmissions und/oder Fluoreszenzmessverfahren während der Bestrahlung erwärmt wird. Es hat sich nämlich überraschenderweise gezeigt, dass im Gegensatz zu OH-reichen Quarzgläsern eine Bestrahlung von OH-armen Quarzgläsern bei tiefen Temperaturen überraschender Weise nicht zu einer beschleunigten Degradation führt, sondern das Gegenteil der Fall ist und die Degradation hierdurch verlangsamt wird.In accordance with the invention, it has been found that the formation of degradation and thus its determination can be shortened when the SiO 2 sample (OH-poor quartz glass) is heated during the irradiation for the measurement by means of known absorption, transmission and / or fluorescence measurement methods. Surprisingly, it has been found that, in contrast to OH-rich quartz glasses, irradiation of OH-poor quartz glasses at low temperatures surprisingly does not lead to an accelerated degradation, but the opposite is the case and the degradation is thereby slowed down.

Gemäß einer vorteilhaften Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die Probe auf eine Maximaltemperatur von 200°C ± 5°C bzw. ± 15°C, bevorzugt von 300°C ± 5°C bzw. ± 15°C und besonders bevorzugt von 350°C ± 5°C bzw. ± 15°C, ggf. bis 380°C erwärmt. Dies hat den Vorteil, dass bei derartigen Temperaturen der noch in der Glasmatrix vorliegende Wasserstoff nicht entweichen kann.According to an advantageous embodiment of the method according to the invention, the sample is at a maximum temperature of 200 ° C ± 5 ° C or ± 15 ° C, preferably from 300 ° C ± 5 ° C and ± 15 ° C and particularly preferably from 350 ° C. ± 5 ° C or ± 15 ° C, if necessary heated to 380 ° C. This has the advantage that at such temperatures, the hydrogen still present in the glass matrix can not escape.

Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die Probe auf eine minimale Temperatur von 50°C ± 5°C bzw. ± 15°C, bevorzugt 100°C ± 5°C bzw. ± 15°C und besonders bevorzugt auf eine Temperatur von 120°C ± 5°C bzw. ± 15°C erwärmt.According to a further advantageous embodiment of the method according to the invention, the sample is at a minimum temperature of 50 ° C ± 5 ° C or ± 15 ° C, preferably 100 ° C ± 5 ° C or ± 15 ° C and particularly preferably to a temperature heated from 120 ° C ± 5 ° C or ± 15 ° C.

Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird zur Erzeugung einer Degradation bzw. von Defekten bzw. Degeneration im Kristall bzw. Quarz eine Bestrahlung mittels Laserstrahlung angewandt.According to a further advantageous embodiment of the method according to the invention, irradiation by means of laser radiation is used to produce a degradation or defects or degeneration in the crystal or quartz.

Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird zur beschleunigten Degenerationserzeugung mit einer im Vergleich zur späteren Anwendung höheren Fluenz bestrahlt. Vorteilhafterweise wird dabei eine Fluenz von mindestens 5 mJ/cm2 und eine Fluenz von maximal 20 mJ/cm2 angewandt.In accordance with a further advantageous embodiment of the method according to the invention, the accelerated generation of degeneration is irradiated with a higher fluence compared to the later application. Advantageously, a fluence of at least 5 mJ / cm 2 and a fluence of at most 20 mJ / cm 2 is used.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform wird die Probe vor der Degradation bzw. nach einer Degradationsbestrahlung charakterisiert. Dabei werden zweckmäßigerweise die gleichen Fluenzen gewählt, die den späteren Anwendungsbereich der Proben bzw. des verwendeten Materials abdecken bzw. entsprechen. Vorteilhafterweise wird dabei eine Fluenz von mindestens < 1 mJ/cm2 und eine Fluenz von maximal < 20 mJ/cm2 angewandt.In a further preferred embodiment, the sample is characterized before the degradation or after a degradation irradiation. The same fluences are expediently selected, which cover or correspond to the later field of application of the samples or of the material used. Advantageously, a fluence of at least <1 mJ / cm 2 and a fluence of at most <20 mJ / cm 2 is used.

Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird zur beschleunigten Erzeugung einer Degradation die Fluenz erhöht. Unter Fluenz wird im Sinne der Erfindung die Anzahl von Photonen, die durch eine Fläche hindurchgetreten sind, dividiert durch deren Flächeninhalt verstanden. Die Fluenz ist dabei das Integral einer Flussdichte über die Zeit.According to a further advantageous embodiment of the method according to the invention, the fluence is increased in order to accelerate the generation of a degradation. For the purposes of the invention, fluence means the number of photons that have passed through a surface divided by their surface area. The fluence is the integral of a flux density over time.

Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird als Probe ein OH-armes Quarzglas verwendet. Im Sinne der Erfindung wird unter einem OH-armen Quarzglas verstanden, dass dieses einen maximalen OH-Gehalt von < 100 ppm, bevorzugt < 80 ppm und besonders bevorzugt < 60 ppm aufweist.According to a further advantageous embodiment of the method according to the invention, an OH-poor quartz glass is used as the sample. For the purposes of the invention, an OH-poor quartz glass is understood to have a maximum OH content of <100 ppm, preferably <80 ppm and particularly preferably <60 ppm.

In Sinne der Erfindung können auch Quarzgläser verwendet werden, die keinen nachweisbaren bzw. nahezu keinen OH-Gehalt aufweisen. Dabei sind auch Materialien bzw. Quarzgläser mit umfasst welche einen OH-Gehalt von < 0,1 ppm aufweisen.For the purposes of the invention, it is also possible to use quartz glasses which have no detectable or virtually no OH content. In this case, materials or quartz glasses are also included which have an OH content of <0.1 ppm.

Im Sinne der Erfindung wird unter einem OH-reichen Quarzglas ein Glas verstanden, welches einen OH-Gehalt von maximal 1300 ppm und einen minimalen OH-Gehalt von mindestens 400 ppm, bevorzugt sogar 800 ppm aufweist.For the purposes of the invention, an OH-rich quartz glass is understood as meaning a glass which has an OH content of at most 1300 ppm and a minimum OH content of at least 400 ppm, preferably even 800 ppm.

Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird zur Bestimmung der Strahlenbeständigkeit der Probe ein bekanntes Absorptions-, Transmissions- und/oder Fluoreszenzmessverfahren angewandt. Vorteilhaft wird dabei eine Vorgehensweise angewandt, wie sie in der Patentschrift DE 103 31 589 B3 beschrieben ist. Dabei wird an einem Quarzglas bei unterschiedlichen Fluenzen die erzeugte Absorption vermessen und daraus eine nicht-lineare Funktion ermittelt. Anschließend wird das Quarzglas mit einem höheren als in typischen Anwendungen der optischen Lithographie üblichen Fluenzwert bis zum Erreichen eines konstanten Absorptionswertes bestrahlt und dann das Quarzglas bei unterschiedlichen Fluenzen bezüglich der Absorption vermessen und eine nicht-lineare Funktion ermittelt. Danach wird aus der Differenz der nicht-linearen Funktionen die von den Fluenzen abhängige Absorptionszunahme bestimmt. Das oben beschrienene Verfahren kann dabei auch mit weiteren unterschiedlichen Messverfahren durchgeführt werden. Neben photothermischen Verfahren wie LID (Laser induced deflection) oder dem Shack-Hartmann-Sensor (Messung der Wellenfrontdeformation durch thermische Linse) kann auch die Kalorimetrie (direkte Messung der Probenerwärmung durch die Absorption) angewandt werden.According to a further advantageous embodiment of the method according to the invention, a known absorption, transmission and / or fluorescence measurement method is used to determine the radiation resistance of the sample. Advantageously, a procedure is used, as described in the patent DE 103 31 589 B3 is described. In this case, the generated absorption is measured on a quartz glass at different fluences and a non-linear function is determined therefrom. Subsequently, the quartz glass is irradiated with a higher fluence value customary in typical applications of optical lithography until a constant absorption value is reached, and then the quartz glass is measured with regard to absorption at different fluences and a non-linear function is determined. The difference in the non-linear functions then determines the increase in absorption, which is dependent on the fluences. The above-mentioned method can also be carried out with further different measuring methods. In addition to photothermal methods such as LID (laser induced deflection) or the Shack-Hartmann sensor (measurement of wavefront deformation by thermal lens), calorimetry (direct measurement of sample heating by absorption) can also be used.

Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispieles mit Bezug auf die beigefügte Zeichnung erläutert. Die Ausführung ist beispielhaft und schränkt den allgemeinen Erfindungsgedanken nicht ein.The invention will be explained with reference to an embodiment with reference to the accompanying drawings. The embodiment is exemplary and does not limit the general inventive concept.

Es zeigt:It shows:

1 zeigt in Form eines Diagramms die Zunahme der Absorption (Degradation) für kommerziell erhältliche OH-arme Quarzglasgroben in Abhängigkeit von der Probentemperatur während der Degradationsbestrahlung mit 5 mJ/cm2. 1 shows in the form of a graph the increase in absorption (degradation) for commercially available low-OH fused quartz glass coarse depending on the sample temperature during the degradation irradiation with 5 mJ / cm 2 .

Beispielexample

Kommerziell erhältliche OH-arme Quarzglasproben mit einem OH-Gehalt von ca. 60 ppm wurden bei unterschiedlichen Temperaturen bestrahlt, um die temperaturabhängige Degradation zu untersuchen. Vorab wurden die Proben bzgl. des Anfangszustandes bei verschiedenen Fluenzen charakterisiert (Anfangswerte sind aus 1 ersichtlich). Die Bestrahlung zur Degradation wurde dabei immer mit derselben Fluenz (5 mJ/cm2) jedoch bei unterschiedlichen Laserpulszahlen durchgeführt. Nach jeder Degradationsbestrahlung wurden die Proben wieder analog zum Anfang bei verschiedenen Fluenzen charakterisiert. Bei allen Bestrahlungen trat noch keine Sättigung der Degradation auf, weshalb die Ergebnisse unterschiedlicher Pulszahlen linear aufeinander skalierbar sind. Aus 1 ist ersichtlich, dass eine Bestrahlung bei tiefer Temperatur von T = 78 K (beispielsweise mittels flüssigen Stickstoffs) nach 42 Mio. Pulsen zur selben Degradation wie bei einer Bestrahlung bei Raumtemperatur T = 293 K mit nur 20 Mio. Pulsen führt. Dies bedeutet, dass die Degradation bei tiefer Temperatur nur halb so schnell abläuft wie bei Raumtemperatur. Im Gegensatz dazu lieferte eine Bestrahlung bei T = 423 K nach nur 10 Mio. Pulsen eine Degradation, welche deutlich stärker war als die bei Raumtemperatur bzw. tiefer Temperatur. Im Vergleich zur Bestrahlung bei Raumtemperatur ergibt sich somit eine Verstärkung der Degradation um ca. den Faktor 5–6.Commercially available low-Q silica glass samples having an OH content of about 60 ppm were irradiated at different temperatures to examine the temperature-dependent degradation. In advance, the samples were characterized in terms of the initial state at different Fluenzen (initial values are out 1 visible). Irradiation for degradation was always carried out with the same fluence (5 mJ / cm 2 ) but with different numbers of laser pulses. After each degradation irradiation, the samples were again characterized analogously to the beginning at different fluences. For all irradiations, no saturation of the degradation occurred, which is why the results of different pulse numbers are linearly scalable to each other. Out 1 It can be seen that irradiation at low temperature of T = 78 K (for example by means of liquid nitrogen) after 42 million pulses leads to the same degradation as in the case of irradiation at room temperature T = 293 K with only 20 million pulses. This means that the degradation at low temperature is only half as fast as at room temperature. In contrast, irradiation at T = 423 K after only 10 million pulses produced a degradation which was significantly stronger than that at room temperature or low temperature. Compared to irradiation at room temperature, this results in an amplification of the degradation by about a factor of 5-6.

Claims (9)

Verfahren zur Bestimmung der Strahlenbeständigkeit von nicht-kristallinen und/oder kristallinen Proben, mittels bekannter Absorptions-, Transmissions- und/oder Fluoreszenzmessverfahren, dadurch gekennzeichnet, dass die Probe während der Bestrahlung erwärmt wird, wobei als nicht-kristalline Probe ein OH-armes Quarzglas und/oder als kristalline Probe ein CaF2-Kristall verwendet wird.Method for determining the radiation stability of non-crystalline and / or crystalline samples, by means of known absorption, transmission and / or fluorescence measuring methods, characterized in that the sample is heated during the irradiation, wherein as a non-crystalline sample, an OH-poor quartz glass and / or a CaF 2 crystal is used as the crystalline sample. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Probe auf eine maximale Temperatur von 380°C erwärmt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the sample is heated to a maximum temperature of 380 ° C. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Probe auf eine minimale Temperatur von 50°C ± 15°C erwärmt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the sample is heated to a minimum temperature of 50 ° C ± 15 ° C. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass eine Bestrahlung mittels Laserstrahlung zur Degenerationserzeugung angewandt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that irradiation by means of laser radiation is used to generate degeneration. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Probe mit einer Fluenz von mindestens 5 mJ/cm2 bestrahlt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the sample is irradiated with a fluence of at least 5 mJ / cm 2 . Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Probe mit einer Fluenz von maximal 20 mJ/cm2 bestrahlt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the sample is irradiated with a fluence of at most 20 mJ / cm 2 . Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass zur beschleunigten Degenerationserzeugung mit einer im Vergleich zur späteren Anwendung höheren Fluenz bestrahlt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the accelerated degeneration is irradiated with a higher fluence compared to the later application. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass als Probe ein Quarzglas mit einem OH-Gehalt von < 100 ppm verwendet wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that a quartz glass having an OH content of <100 ppm is used as a sample. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass ein Absorptionsmessverfahren angewandt wird, bei dem das Quarzglas bei unterschiedlichen Fluenzen bezüglich der Absorption vermessen und daraus eine nicht-lineare Funktion ermittelt wird, danach das Quarzglas mit einem höheren als in typischen Anwendungen der optischen Lithographie üblichen Fluenzwert bis zum Erreichen eines konstanten Absorptionswertes bestrahlt wird, danach das Quarzglas bei unterschiedlichen Fluenzen bezüglich der Absorption vermessen und daraus eine nicht-lineare Funktion ermittelt wird und danach aus der Differenz der nicht-linearen Funktionen die von den Fluenzen abhängige Absorptionszunahme bestimmt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that an absorption measurement method is used in which the quartz glass is measured at different fluences with respect to the absorption and a non-linear function is determined, then the quartz glass with a higher than usual in typical applications of optical lithography Fluence value is irradiated until reaching a constant absorption value, then measured the quartz glass at different fluences with respect to the absorption and from this a non-linear function is determined and then from the difference of the non- linear functions, the fluence dependent absorption increase is determined.
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