DE102012214299A1 - Tilting and / or centering table for a measuring machine for setting a positional and / or angular position of a measured object in a measuring space - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft einen Kipp- und/oder Zentriertisch (200, 300) für eine Messmaschine (100) zur Einstellung einer Lage- und/oder Winkelposition eines Messobjektes (40 in einem Messraum (50). Die Lage- und Winkelposition des Messobjekts (40) relativ zum Messraum (50) ist dabei durch zumindest eine mittelbare Krafteinwirkung auf ein Zentrier- und/oder Kippelement (320, 310) durch zumindest ein Stellelement (331, 332) veränderbar ist. Ferner weist der Kipp- und/oder Zentriertisch (200, 300) zumindest einen ersten und einen zweiten Tischaufbau (11, 12) auf, die relativ zueinander beweglich sind. Auf dem ersten und/oder der zweiten Tischaufbau (11, 12) ist zumindest das eine Stellelement (331, 332) zur Einstellung der Lage- und/oder der Winkelposition des Messobjekts (40) angeordnet. Für eine Einstellphase der Lage- und/oder Winkelposition des Messobjektes (40) sind der erste und der zweite Tischaufbau (11, 12) über das zumindest eine Stellelement (331, 332) zumindest mittelbar elektrisch und/oder mechanisch miteinander gekoppelt. Für eine Vermessungsphase zur Erfassung einer Geometrie des Messobjektes (40) ist der Kipp- und/oder Zentriertisch (200, 300) zumindest bei einer Relativbewegung des ersten und des zweiten Tischaufbaus (11, 12) zueinander derart ausgebildet, dass die zumindest mittelbare elektrische und/oder mechanische Kopplung des ersten und des zweiten Tischaufbaus (11, 12) über das zumindest eine Stellelement (331, 332), wie sie in der Einstellphase vorliegt, aufgehoben wird.The invention relates to a tilting and / or centering table (200, 300) for a measuring machine (100) for setting a positional and / or angular position of a measuring object (40 in a measuring space (50). The positional and angular position of the measuring object (40 ) relative to the measuring space (50) can be changed by at least one indirect force action on a centering and / or tilting element (320, 310) by at least one adjusting element (331, 332). Furthermore, the tilting and / or centering table (200 , 300) at least a first and a second table structure (11, 12) which are movable relative to one another. On the first and / or the second table structure (11, 12) is at least one adjusting element (331, 332) for setting the Positional and / or angular position of the measuring object (40). For an adjustment phase of the positional and / or angular position of the measuring object (40), the first and second table structure (11, 12) are via the at least one adjusting element (331, 332 ) at least indirectly electr sch and / or mechanically coupled to one another. For a measurement phase to acquire a geometry of the object to be measured (40), the tilting and / or centering table (200, 300) is designed at least during a relative movement of the first and second table structure (11, 12) to one another in such a way that the at least indirect electrical and / or the mechanical coupling of the first and the second table structure (11, 12) via the at least one adjusting element (331, 332), as is present in the setting phase, is canceled.
Description
Die Erfindung betrifft einen Kipp- und/oder Zentriertisch für eine Messmaschine sowie ein Positionierverfahren für diesen gemäß den Oberbegriffen der unabhängigen Ansprüche.The invention relates to a tilting and / or centering table for a measuring machine and a positioning method for this according to the preambles of the independent claims.
Stand der TechnikState of the art
Funktionale Bauteile und Baugruppen eines technischen Gesamtsystems müssen für eine fehlerfreie Funktion definierte Maße innerhalb eines tolerierten Bereiches aufweisen. Diese Funktionsmaße müssen über geeignete Meßsysteme geprüft werden. Als Meßsystem kommen in vielen Fällen Formmessmaschinen zum Einsatz, insbesondere zur Überprüfung von rotationssymmetrischen Bauteilen. Derartige Messmaschinen weisen in der Regel einen Kipp- und oder Zentriertisch auf, auf welchem das zu prüfende Bauteil angeordnet wird. Vor der Vermessung des zu prüfenden Bauteils wird dieses mittels des Kipp- und oder Zentriertisches in eine definierte Lage- und Winkelposition innerhalb eines Messraums der Messmaschine gebracht. Eine derartige Ausrichtung, insbesondere gegenüber einem Messbezugssystem, ist wichtig, um beim Vermessen keine Messfehler zur erhalten.Functional components and assemblies of a complete technical system must have defined dimensions within a tolerated range for error-free operation. These functional dimensions must be checked by suitable measuring systems. Forming measuring machines are used in many cases as a measuring system, in particular for checking rotationally symmetrical components. Such measuring machines usually have a tilting and or centering table on which the component to be tested is arranged. Before measuring the component to be tested, it is brought into a defined positional and angular position within a measuring space of the measuring machine by means of the tilting and / or centering table. Such an orientation, in particular in relation to a measurement reference system, is important in order to obtain no measurement errors during the measurement.
Bekannt sind Messmaschinen, bei welchen der Kipp- und oder Zentriertisch elektrische Stellmotoren umfasst. Die Stellmotoren sind mechanisch mit einer Adaptionsplatte verbunden, auf welcher ein Messobjekt fest angeordnet wird. Die Adaptionsplatte lässt sich durch Ansteuern der Stellmotoren in ihrer Lage- und Winkelposition gegenüber einer Ausgangsposition heraus verändern. In einer Einstellphase für das Messobjekt werden die Stellmotoren über eine Steuerung der Messmaschine angesteuert. Zur präzisen Einstellung weisen die Stellmotoren Positionsgeber auf, welche zur Erfassung der momentanen Lage der Adaptionsplatte bzw. des Messobjektes durch die Steuerung mit berücksichtigt werden. Beim Vermessen von rotationssymmetrischen Messobjekten ist die Adaptionsplatte zusammen mit den Stellmotoren auf einem Teil des Kipp- und/oder Zentriertisch angeordnet, welcher beispielsweise als Drehtisch ausgebildet ist. Die Stellmotoren und die Positionsgeber benötigen eine Energieversorgung mittels eines elektrischen Kontakt, welcher über Schleifringe erfolgt. Nachteilig ist, dass die in mechanischen Kontakt stehenden Schleifringe kleinste Vibrationen verursachen, wenn beispielsweise der Drehtisch zum Vermessen des Messobjektes in Rotation versetzt wird. Derartige Vibrationen werden dann auch vom Meßsystem der Messmaschine erfasst. Diese führen dann in einer Vermessungsphase zur Erfassung einer Geometrie des Messobjektes zu Messdaten, welche mit Störgrößen überlagert sind. Zusätzlich wirkt der Schleifkontakt als Reibwiderstand, welcher in der Vermessungsphase dauerhaft überwunden werden muss. Die Schleifringe unterliegen des Weiteren einem zeitabhängigen mechanischen Verschleiß, wodurch Ausfälle verursacht werden und Wartungsarbeiten durchgeführt werden müssen.Measuring machines are known in which the tilting and / or centering table comprises electric servomotors. The servo motors are mechanically connected to an adaptation plate on which a measurement object is fixedly arranged. The adaptation plate can be changed by activating the servomotors in their position and angular position relative to a starting position. In a setting phase for the measurement object, the servomotors are controlled via a control of the measuring machine. For precise adjustment, the servomotors have position encoders, which are taken into account by the controller for detecting the current position of the adaptation plate or of the measurement object. When measuring rotationally symmetrical measuring objects, the adaptation plate is arranged together with the servomotors on a part of the tilting and / or centering table, which is designed, for example, as a turntable. The servomotors and the position sensor require a power supply by means of an electrical contact, which takes place via slip rings. The disadvantage is that the slip rings in mechanical contact cause the smallest vibrations, for example, when the turntable is set in rotation to measure the object to be measured. Such vibrations are then detected by the measuring system of the measuring machine. These then lead in a surveying phase for detecting a geometry of the measurement object to measurement data which are superimposed with disturbances. In addition, the sliding contact acts as a frictional resistance, which must be overcome permanently in the surveying phase. The slip rings are also subject to time-dependent mechanical wear, causing failures and requiring maintenance.
Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention
Vorteile der ErfindungAdvantages of the invention
Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, eine hohe Messpräzision beim Vermessen von Messobjekten auf einer Messmaschine zu erhalten. Hierbei sollen maschinenseitig bedingte Störeinflüsse in einer Vermessungsphase, beispielsweise zur Erfassung einer Außenkontur des Messobjektes, minimiert werden. Ferner ist eine weitere Aufgabe einen wartungsarmen Betrieb der Messmaschine sicherzustellen.The invention is based on the object of obtaining a high degree of precision in the measurement of measurement objects on a measuring machine. In this case, machine-related disturbing influences in a Vermessungsphase, for example, for detecting an outer contour of the measurement object to be minimized. Furthermore, a further object is to ensure a low-maintenance operation of the measuring machine.
Diese Aufgaben werden durch einen Kipp- und/oder Zentriertisch für eine Messmaschine zur Einstellung einer Lage- und/oder Winkelposition eines Messobjektes in einem Messraum mit den kennzeichnenden Merkmalen der unabhängigen Ansprüche gelöst.These objects are achieved by a tilting and / or centering table for a measuring machine for setting a positional and / or angular position of a measuring object in a measuring chamber with the characterizing features of the independent claims.
Dabei ist die Lage- und Winkelposition des Messobjekts relativ zum Messraum durch zumindest eine mittelbare Krafteinwirkung auf ein Zentrierelement und/oder ein Kippelement durch zumindest ein Stellelement veränderbar. Hierbei ist mittels des Zentrierelementes die Lageposition und mittels des Kippelementes die Winkelposition des Messobjektes einstellbar, wobei bevorzugt beide Einstellungen sich gegenseitig nicht beeinflussen. Unter Stellelement ist mindestens ein Bauteil oder eine Baugruppe des Kipp- und/oder Zentriertisch zu verstehen, welches in Zusammenwirken mit dem Zentrier- und/oder Kippelemente die vorgesehene Einstellung ermöglicht. Der Kipp- und/oder Zentriertisch weist ferner zumindest einen ersten und einen zweiten Tischaufbau auf, die relativ zueinander beweglich sind. Der erste und/oder der zweite Tischaufbau weisen dabei zumindest das eine Stellelement zur Einstellung der Lage- und/oder der Winkelposition des Messobjekts auf. Für eine Einstellphase der Lage- und/oder Winkelposition des Messobjektes sind der erste und der zweite Tischaufbau über das zumindest eine Stellelement zumindest mittelbar elektrisch und/oder mechanisch miteinander gekoppelt. Dies ist erforderlich, um trotz der relativen Bewegung zwischen dem ersten und dem zweiten Tischaufbau eine Krafteinwirkung auf das Zentrier- und/oder das Kippelelement durch das Stellelement zu ermöglichen. Im Falle einer elektrischen Kopplung ist an dem zumindest einen Stellelement zumindest mittelbar ein elektrischer Kontakt vorgesehen, welcher elektrisch mit einem Gegenkontakt kontaktiert ist. Der Gegenkontakt befindet sich dabei auf dem Tischaufbau, auf welchem das zumindest ein Stellelement mit dem zugehörigen elektrischen Kontakt nicht angeordnet ist. Eine elektrische Kopplung kann beispielsweise mittels eines Schleifringes erfolgen. Dadurch kann beispielsweise eine Energieversorgung der Stellelemente in Form von Stellmotoren sichergestellt werden.In this case, the positional and angular position of the test object relative to the measuring space can be changed by at least one indirect force acting on a centering element and / or a tilting element by at least one actuating element. Here, by means of the centering element, the position position and by means of the tilting element, the angular position of the measurement object adjustable, preferably both settings do not affect each other. Under control element is at least one component or assembly of the tilting and / or centering to understand, which allows in cooperation with the centering and / or tilting the intended setting. The tilting and / or centering table further comprises at least a first and a second table structure, which are movable relative to each other. The first and / or the second table structure have at least one adjusting element for adjusting the position and / or the angular position of the measurement object. For a setting phase of the positional and / or angular position of the measurement object, the first and second table structures are at least indirectly electrically and / or mechanically coupled to each other via the at least one actuating element. This is necessary in order to allow a force acting on the centering and / or the Kippelelement by the actuator despite the relative movement between the first and the second table structure. In the case of an electrical coupling, at least indirectly an electrical contact is provided on the at least one adjusting element, which is contacted electrically with a mating contact. The mating contact is on the table structure, on which the at least one control element with the associated electrical contact is not arranged. An electrical coupling can be done for example by means of a slip ring. As a result, for example, a power supply of the adjusting elements can be ensured in the form of servomotors.
Im Falle einer mechanischen Kopplung ist an dem zumindest einen Stellelement zumindest mittelbar ein mechanischer Kontakt vorgesehen, welcher mechanisch mit einem Gegenkontakt kontaktiert ist. Der Gegenkontakt befindet sich dabei auf dem Tischaufbau, auf welchem das zumindest ein Stellelement mit dem zugehörigen mechanischen Kontakt nicht angeordnet ist. Die mechanische Kopplung kann beispielsweise durch eine Zahnradpaarung erfolgen.In the case of a mechanical coupling, at least indirectly, a mechanical contact is provided on the at least one adjusting element, which is mechanically contacted with a mating contact. The mating contact is located on the table structure on which the at least one control element with the associated mechanical contact is not arranged. The mechanical coupling can be done for example by a gear pairing.
Kennzeichnend für die Erfindung ist, dass der Kipp- und/oder Zentriertisch für eine Vermessungsphase zur Erfassung einer Geometrie des Messobjektes zumindest bei einer Relativbewegung des ersten und des zweiten Tischaufbaus zueinander derart ausgebildet ist, dass die zumindest mittelbare elektrische und/oder mechanische Kopplung des ersten und des zweiten Tischaufbaus über das zumindest eine Stellelement, wie sie in der Einstellphase vorliegt, aufgehoben wird. Dadurch entfällt die Gefahr von störenden Einflüssen auf die Messung, welche durch die ansonsten vorliegende elektrische und/oder mechanische Kopplung des ersten und des zweiten Tischaufbaus über das zumindest eine Stellelement bedingt sind. Insbesondere werden auf diese Weise keine störenden Vibrationen erzeugt, welche durch das Meßsystem erfasst werden und zu fehlerhaften Messdaten führen. Ferner ist vorteilhaft, dass ein Verschleiß durch einen mechanischen Kontakt nur noch auf die Einstellphase beschränkt ist. Dadurch sind die Wartungsintervalle verlängert und ein schneller verschleißbedingter Ausfall der Messmaschine auszuschließen.Characteristic of the invention is that the tilting and / or centering table for a Vermessungsphase for detecting a geometry of the measurement object at least during a relative movement of the first and the second table structure to each other is formed such that the at least indirect electrical and / or mechanical coupling of the first and the second table structure over the at least one actuator, as it is present in the adjustment phase, is canceled. This eliminates the risk of disturbing influences on the measurement, which are due to the otherwise present electrical and / or mechanical coupling of the first and second table structure on the at least one control element. In particular, no disturbing vibrations are generated in this way, which are detected by the measuring system and lead to erroneous measurement data. Furthermore, it is advantageous that wear due to mechanical contact is limited only to the adjustment phase. As a result, the maintenance intervals are extended and preclude a faster wear-related failure of the measuring machine.
Durch die in den abhängigen Ansprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen des erfindungsgemäßen Kipp- und/oder Zentriertisches gegeben.The measures listed in the dependent claims advantageous refinements and improvements of the tilting and / or centering according to the invention are given.
Eine vorteilhafte Ausführungsform sieht vor, dass der erste Tischaufbau ein erstes Stellelement und mindestens eine Kontaktstelle enthält. Ferner umfasst der erste Tischaufbau zusätzlich das Zentrier- und/oder das Kippelement. Die mindestens eine Kontaktstelle ist dabei durch einen Gegenkontakt elektrisch und/oder mechanisch kontaktierbar. Der Gegenkontakt ist bevorzugt am zweiten Tischaufbau angeordnet. Zusätzlich ist der Gegenkontakt zur Ausbildung des elektrischen und/oder mechanischen Kontaktes relativ zur Kontaktstelle beweglich ausgebildet. Insbesondere ist eine Bewegung des Gegenkontaktes zwischen einer ersten und einer zweiten Betriebsposition vorgesehen. In der ersten Betriebsposition ist der Gegenkontakt mit der mindestens einen Kontaktstelle elektrisch und/oder mechanisch gekoppelt. Auf diese Weise wird in der Einstellphase der Lage- und/oder Winkelposition des Messobjektes eine Krafteinwirkung durch das erste Stellelement ermöglicht. Dagegen ist in der zweiten Betriebsposition des Gegenkontaktes dessen elektrische und/oder mechanische Kontaktierung mit der Kontaktstelle für eine Vermessungsphase aufgehoben. In vorteilhafter Weise können durch die Bewegung des Gegenkontaktes in die erste bzw. in die zweite Betriebsposition die Einstellphase und die Vermessungsphase des Messobjektes jeweils optimal betrieben werden.An advantageous embodiment provides that the first table structure includes a first control element and at least one contact point. Furthermore, the first table structure additionally comprises the centering and / or the tilting element. The at least one contact point is electrically and / or mechanically contacted by a mating contact. The mating contact is preferably arranged on the second table structure. In addition, the mating contact to form the electrical and / or mechanical contact is designed to be movable relative to the contact point. In particular, a movement of the mating contact between a first and a second operating position is provided. In the first operating position of the mating contact with the at least one contact point is electrically and / or mechanically coupled. In this way, in the adjustment phase of the positional and / or angular position of the measurement object, a force is allowed by the first control element. By contrast, in the second operating position of the mating contact whose electrical and / or mechanical contact with the contact point for a surveying phase is canceled. In an advantageous manner, the adjusting phase and the measuring phase of the measuring object can each be optimally operated by the movement of the mating contact into the first or the second operating position.
Bei einer weitergebildeten oder alternativen Ausführungsform enthält der zweite Tischaufbau ein zweites Stellelement. Ferner umfasst der erste Tischaufbau das Zentrier- und/oder das Kippelement. Das zweite Stellelement weist dabei mindestens einen Kontaktbereich auf, welcher relativ zu einem Krafteinwirkbereich beweglich ausgebildet ist. Über den Kontaktbereich wird die Krafteinwirkung auf den Krafteinwirkbereich eingeleitet. Der Krafteinwirkbereich ist dabei bevorzugt auf dem ersten Tischaufbau angeordnet. Insbesondere ist eine Bewegung des zumindest einen Kontaktbereiches zwischen einer ersten und einer zweiten Betriebsposition vorgesehen. In der ersten Betriebsposition ist der Kontaktbereich mit dem Krafteinwirkbereich in mechanischen Kontakt. Auf diese Weise erfolgt in der Einstellphase der Lage- und/oder Winkelposition des Messobjektes die zumindest mittelbare Krafteinwirkung auf das Zentrierelement und/oder das Kippelement. Dagegen ist in der zweiten Betriebsposition des Kontaktbereiches dessen mechanischer Kontakt mit dem Krafteinwirkbereich für eine Vermessungsphase aufgehoben. In vorteilhafter Weise können durch die Bewegung des Kontaktbereiches in die erste bzw. in die zweite Betriebsposition die Einstellphase und die Vermessungsphase des Messobjektes ebenfalls jeweils optimal betrieben werden.In a further developed or alternative embodiment, the second table structure includes a second actuator. Furthermore, the first table structure comprises the centering and / or the tilting element. The second control element has at least one contact region, which is designed to be movable relative to a force-acting region. Via the contact area, the force is applied to the force acting area. The force-acting region is preferably arranged on the first table structure. In particular, a movement of the at least one contact region between a first and a second operating position is provided. In the first operating position, the contact region is in mechanical contact with the force-acting region. In this way, in the adjustment phase of the positional and / or angular position of the measurement object, the at least indirect force is applied to the centering element and / or the tilting element. By contrast, in the second operating position of the contact region, its mechanical contact with the force-influencing region for a surveying phase is canceled. In an advantageous manner, the adjustment phase and the measurement phase of the measurement object can likewise be optimally operated by the movement of the contact region into the first or the second operating position.
In Weiterbildung der Erfindung ist es vorgesehen, dass das Kippelement mit einer ersten Fläche zumindest teilweise flächenbündig auf einer ersten Fläche des Zentrierelementes verschiebbar aufliegt. Dabei ist eine der beiden Flächen ballig und die andere Fläche dazu gegenballig oder dazu konisch ausgeführt. Um eine Winkellage des Messobjektes im Messraum zu verändern, sind beide Flächen derart ausgeführt, dass durch die zumindest mittelbare Krafteinwirkung auf das Kippelement durch das zumindest eine Stellelement eine Kippbewegung des Kippelementes relativ zum Zentrierelement erfolgt.In a further development of the invention, it is provided that the tilting element with a first surface at least partially rests flush on a first surface of the centering element. One of the two surfaces is crowned and the other surface counterbalanced or conical. In order to change an angular position of the measurement object in the measuring space, both surfaces are designed such that by the at least indirect force acting on the tilting element by the at least one actuating element is a tilting movement of the tilting element relative to the centering.
Ferner ist vorgesehen, dass das Zentrierelement mit einer zweiten Fläche zumindest teilweise flächenbündig auf einer Auflagefläche des ersten Tischaufbaus verschiebbar aufliegt. Dabei sind die zweite Fläche des Zentrierelementes und die Auflagefläche des ersten Tischaufbaus jeweils eben ausgeführt. Um eine Positionslage des Messobjektes im Messraum zu verändern, sind beider Flächen derart ausgeführt, dass durch die zumindest mittelbare Krafteinwirkung auf das Zentrierelement durch das zumindest eine Stellelement eine Bewegung des Zentrierelements relativ zur Auflagefläche des ersten Tischaufbaus erfolgt.It is further provided that the centering element with a second surface at least partially rests displaceable on a support surface of the first table structure. Here are the second surface of the centering and the Support surface of the first table structure each made flat. In order to change a positional position of the measurement object in the measuring space, both surfaces are designed such that the at least indirect force acting on the centering element by the at least one adjusting element, a movement of the centering relative to the support surface of the first table structure.
Eine alternative Ausführungsform sieht vor, dass das Zentrierelement mit einer ersten Fläche zumindest teilweise flächenbündig auf einer ersten Fläche des Kippelementes verschiebbar aufliegt. Dabei sind die erste Fläche des Zentrierelementes und die erste Fläche des Kippelementes jeweils eben ausgeführt. Um eine Positionslage des Messobjektes im Messraum zu verändern, sind beide Flächen derart ausgeführt, dass durch die zumindest mittelbare Krafteinwirkung auf das Zentrierelement durch das zumindest eine Stellelement eine Bewegung des Zentrierelements relativ zur ersten Fläche des Kippelementes erfolgt.An alternative embodiment provides that the centering element with a first surface at least partially rests flush on a first surface of the tilting element. In this case, the first surface of the centering element and the first surface of the tilting element are each made flat. In order to change a positional position of the measurement object in the measuring space, both surfaces are designed such that, due to the at least indirect force acting on the centering element by the at least one actuating element, the centering element moves relative to the first surface of the tilting element.
Ferner ist vorgesehen, dass das Kippelement mit einer zweiten Fläche zumindest teilweise flächenbündig auf einer Auflagefläche des ersten Tischaufbaus verschiebbar aufliegt. Dabei ist eine der beiden Flächen ballig und die andere Fläche dazu gegenballig oder dazu konisch ausgeführt. Um eine Winkellage des Messobjektes im Messraum zu verändern, sind beide Flächen derart ausgeführt, dass durch die zumindest mittelbare Krafteinwirkung auf das Kippelement durch das zumindest eine Stellelement eine Kippbewegung des Kippelementes relativ zur Auflagefläche des ersten Tischaufbaus erfolgt.It is further provided that the tilting element with a second surface at least partially rests displaceable on a support surface of the first table structure. One of the two surfaces is crowned and the other surface counterbalanced or conical. In order to change an angular position of the measurement object in the measuring space, both surfaces are designed such that by the at least indirect force acting on the tilting element by the at least one actuating element is a tilting movement of the tilting element relative to the support surface of the first table structure.
Grundsätzlich ist zur Überwindung des Stick-Slip-Effektes zwischen der ersten Fläche des Kippelementes und der ersten Fläche des Zentrierelementes bzw. zwischen der zweiten Fläche des Zentrierelementes und der Auflagefläche des ersten Tischaufbaus bzw. zwischen der ersten Fläche des Zentrierelementes und der ersten Fläche des Kippelementes bzw. zwischen der zweiten Fläche des Kippelementes und der Auflagefläche des ersten Tischaufbaus eine Mindestkraft erforderlich. Die Mindestkraft ist insbesondere durch die Reibwerte und Auflagekräfte in den jeweiligen Flächen bestimmt.Basically, to overcome the stick-slip effect between the first surface of the tilting element and the first surface of the centering or between the second surface of the centering and the support surface of the first table structure or between the first surface of the centering and the first surface of the tilting element or between the second surface of the tilting element and the support surface of the first table structure a minimum force required. The minimum force is determined in particular by the coefficients of friction and bearing forces in the respective surfaces.
In vorteilhafter Weise ist durch die vorgesehenen Ausführungen die Einstellung einer Lage- und/oder Winkelposition eines Messobjektes in einem Messraum durch einen sehr einfachen mechanischen Aufbau ermöglicht. Der Aufbau erfordert weder komplexe Übertragungsglieder noch zusätzliche Verbindungselemente zur Bewirkung einer Lage- und Winkeländerung des Messobjektes. Dadurch ist der Aufbau sehr kostengünstig, einfach in der Montage und sehr wartungsfreundlich.Advantageously, the setting provided a position and / or angular position of a measurement object in a measuring space by a very simple mechanical construction. The structure requires neither complex transmission elements nor additional connecting elements to effect a change in position and angle of the measurement object. As a result, the structure is very inexpensive, easy to install and very easy to maintain.
Allgemein kann das für die Krafteinwirkung auf das Zentrier- und/oder Kippelement vorgesehene mindestens eine Stellelement als kontinuierlicher Antrieb und/oder als Stossantrieb und/oder als Vibrationsantrieb ausgebildet sein. Insbesondere der Stoßantrieb oder der Vibrationsantrieb weisen den Vorteil auf, dass während der Einstellphase für die Krafteinwirkung auf das Zentrier- und/oder Kippelement nur eine zeitlich begrenzte mechanische Kopplung des Stellelementes ausgebildet wird. Daher besteht die Möglichkeit auch Störeinflüsse auf die Messwerterfassung auf Grund einer derartigen mechanischen Kopplung in der Einstellphase zu reduzieren oder auszuschließen.In general, the at least one adjusting element provided for the force acting on the centering and / or tilting element can be designed as a continuous drive and / or as a shock drive and / or as a vibration drive. In particular, the impact drive or the vibration drive have the advantage that only a time-limited mechanical coupling of the actuating element is formed during the adjustment phase for the action of force on the centering and / or tilting element. Therefore, there is also the possibility of reducing or excluding disturbances on the measured value detection due to such a mechanical coupling in the adjustment phase.
Der erfindungsgemäße Kipp- und/oder Zentriertisch ist bevorzugt in Messmaschinen, insbesondere zum Vermessen von rotationssymmetrischen Messobjekten, vorgesehen. Die Messmaschine weist bevorzugt eine Referenzachse zum Ausrichten einer Ausrichtachse des Messobjektes im Messraum auf. Auf diese Weise kann das Messobjekt über das messmaschineninterne Messbezugssystem vermessen werden. Hierzu umfasst die Messmaschine zur Erfassung einer Geometrie des Messobjektes ein Messsystem mit einem Messkopf, insbesondere mit einem taktilen oder optischen Messkopf. In vorteilhafter Weise wird demnach das Messobjekt in einer Einstellphase für eine Vermessung exakt ausgerichtet. Anschließend werden in einer Vermessungsphase die exakten Geometriedaten des Messobjektes messtechnisch erfasst. Hierbei sind erfindungsgemäß Maßnahmen vorgesehen, mittels welcher ansonsten vorliegenden Störgrößen nun in der Vermessungsphase ausgeschlossen werden können.The tilting and / or centering table according to the invention is preferably provided in measuring machines, in particular for measuring rotationally symmetrical measuring objects. The measuring machine preferably has a reference axis for aligning an alignment axis of the measurement object in the measurement space. In this way, the measurement object can be measured via the measuring machine internal measurement reference system. For this purpose, the measuring machine for detecting a geometry of the measuring object comprises a measuring system with a measuring head, in particular with a tactile or optical measuring head. Advantageously, therefore, the measurement object is precisely aligned in a setting phase for a measurement. Subsequently, in a survey phase, the exact geometry data of the measurement object are measured. In this case, measures are provided according to the invention, by means of which otherwise present disturbance variables can now be excluded in the surveying phase.
Ein weitere Vorteil ergibt sich, wenn eine zur Erfassung der Geometrie des Messobjektes definierte Messebene des Messsystems deckungsgleich ist mit einer Ebene, in welcher die Krafteinwirkung des zumindest einen Stellelements erfolgt. Die Messebene des Messsystems entspricht der Ebene, in welcher das Messsystem Messdaten bezogen auf das vorliegende Messbezugssystems erfasst. Mittels dieser Vorsehung kann die Änderung der Lage- und/oder Winkelposition des Messobjektes direkt durch das Messsystem im vorliegenden Messbezugssystem erfasst werden. Optional kann die Messebene des Messsystems auch beliebig in Bezug zu der Ebene angeordnet werden, in welcher die Krafteinwirkung des zumindest einen Stellelements erfolgt. In diesem Falle ist jedoch zur Bestimmung einer Positions- und/oder Winkeländerung aufgrund einer Krafteinwirkung des zumindest einen Stellelementes eine Umrechnung auf das Messbezugssystem erforderlich. Dies stellt eine zusätzliche Forderung an die Ausführung beispielsweise der Ansteuervorrichtung der Messmaschine dar.A further advantage results if a measuring plane of the measuring system defined for detecting the geometry of the measuring object is congruent with a plane in which the force of the at least one adjusting element takes place. The measuring level of the measuring system corresponds to the level in which the measuring system records measured data related to the present measuring reference system. By means of this provision, the change in the positional and / or angular position of the measurement object can be detected directly by the measurement system in the present measurement reference system. Optionally, the measuring plane of the measuring system can also be arranged arbitrarily in relation to the plane in which the force of the at least one actuating element takes place. In this case, however, a conversion to the measurement reference system is required to determine a change in position and / or angle due to a force of the at least one control element. This represents an additional requirement for the execution of, for example, the drive device of the measuring machine.
Die Erfindung betrifft auch ein Positionierverfahren für einen Kipp- und/oder Zentriertisch in einer Messmaschine mit einem Messsystem. Für das Positionierverfahren eignen sich insbesondere der zuvor bereits oben ausgeführte erfindungsgemäße Kipp- und/oder Zentriertisch, sowie die ebenfalls bereits beschriebene Messmaschine. Das erfindungsgemäße Verfahren geht von einer Einstellung einer Lage- und/oder Winkelposition eines rotationssymmetrischen Messobjektes in einem Messraum aus. Ferner geht das erfindungsgemäße Verfahren davon aus, dass die Lage- und Winkelposition des rotationssymmetrischen Messobjekts relativ zum Messraum durch zumindest eine mittelbare Krafteinwirkung auf ein Zentrier- und/oder ein Kippelement durch zumindest ein Stellelement verändert wird. Dabei weist der Kipp- und/oder Zentriertisch zumindest einen ersten und einen zweiten Tischaufbau auf, die relativ zueinander bewegt werden. Des Weiteren weist der erste und/oder der zweite Tischaufbau das zumindest eine Stellelement zur Einstellung der Lage- und/oder Winkelposition des rotationssymmetrischen Messobjekts auf. Für eine Einstellphase der Lage- und/oder Winkelposition des rotationssymmetrischen Messobjektes werden der erste und der zweite Tischaufbau über das zumindest eine Stellelement zumindest mittelbar elektrisch und/oder mechanisch miteinander gekoppelt. Die Stellelemente können beispielsweise als Stellmotoren vorgesehen werden, welche mittels eines Schleifkontaktes mit Energie versorgt werden. Kennzeichnend für das erfindungsgemäße Positionierverfahren ist, dass für eine Vermessungsphase zur Erfassung einer Geometrie des rotationssymmetrischen Messobjektes zumindest bei einer Relativbewegung des ersten und des zweiten Tischaufbaus zueinander, die zumindest mittelbare elektrische und/oder mechanische Kopplung des ersten und des zweiten Tischaufbaus über das zumindest eine Stellelement, wie sie in der Einstellphase vorliegt, aufgehoben wird. Ferner sieht das erfindungsgemäße Verfahren vor, dass in der Einstellphase eine Ausrichtachse des rotationssymmetrischen Messobjektes zu einer Referenzachse der Messmaschine ausgerichtet wird. Zuerst wird zumindest ein Messkopf des Messsystems in einer Einstellposition relativ zum rotationssymmetrischen Messobjekt positioniert, um die Geometrie des rotationssymmetrischen Messobjektes zu erfassen. Daraufhin wird eine Drehung des ersten Tischaufbaus um die Referenzachse ausgeführt. Dabei wird bei zumindest einer vollständigen Drehung des ersten Tischaufbaus die Lage- und Winkelposition der Ausrichtachse des rotationssymmetrischen Messobjekts relativ zur Referenzachse erfasst. Konkret erfolgt dies dadurch, dass beispielsweise Abstandswerte einer Außen- oder Innenkontur des rotationssymmetrischen Messobjektes relativ zur Einstellposition des Messkopfes erfasst werden. Ergeben sich hierbei bei einer vollständigen Drehung des ersten Tischaufbaus unterschiedliche Abstandwerte, kann daraus geschlossen werden, dass die Ausrichtachse des Messobjektes nicht zur Referenzachse der Messmaschine ausgerichtet ist. In diesem Falle wird durch die zumindest mittelbare Krafteinwirkung auf das Zentrier- und/oder das Kippelement die Lage- und Winkelposition des rotationssymmetrischen Messobjekts solange verändert, bis die Abstandswerte bei einer vollständigen Umdrehung gleich sind oder in einem definierten Toleranzband liegen. Erst dann ist die Ausrichtachse des Messobjektes zur Referenzachse der Messmaschine ausgerichtet. Unter diesen Bedingungen kann dann in einer Vermessungsphase die Geometrie des rotationssymmetrischen Messobjektes erfasst werden. The invention also relates to a positioning method for a tilting and / or centering table in a measuring machine with a measuring system. Particularly suitable for the positioning method are the tilting and / or centering table according to the invention, which has already been described above, and the measuring machine also already described. The inventive method is based on an adjustment of a positional and / or angular position of a rotationally symmetrical measurement object in a measurement space. Furthermore, the method according to the invention assumes that the positional and angular position of the rotationally symmetrical measurement object relative to the measurement space is changed by at least one indirect force acting on a centering and / or a tilting element by at least one control element. In this case, the tilting and / or centering table at least a first and a second table structure, which are moved relative to each other. Furthermore, the first and / or the second table structure has the at least one adjusting element for adjusting the positional and / or angular position of the rotationally symmetrical measuring object. For an adjustment phase of the positional and / or angular position of the rotationally symmetrical measurement object, the first and second table structures are electrically and / or mechanically coupled to one another at least indirectly via the at least one actuating element. The adjusting elements can be provided for example as servomotors, which are supplied by means of a sliding contact with energy. Characteristic of the positioning method according to the invention is that, for a surveying phase for detecting a geometry of the rotationally symmetric measurement object, the at least indirect electrical and / or mechanical coupling of the first and the second table structure via the at least one control element at least during a relative movement of the first and the second table structure , as it is in the adjustment phase, is canceled. Furthermore, the method according to the invention provides that in the adjustment phase an alignment axis of the rotationally symmetrical measurement object is aligned to a reference axis of the measuring machine. First, at least one measuring head of the measuring system is positioned in a setting position relative to the rotationally symmetrical measuring object in order to detect the geometry of the rotationally symmetrical measuring object. Thereafter, a rotation of the first table structure about the reference axis is performed. In this case, during at least one complete rotation of the first table structure, the positional and angular position of the alignment axis of the rotationally symmetric measurement object is detected relative to the reference axis. Specifically, this takes place in that, for example, distance values of an outer or inner contour of the rotationally symmetrical measurement object are detected relative to the setting position of the measuring head. If different distance values result during a complete rotation of the first table structure, it can be concluded that the alignment axis of the measurement object is not aligned with the reference axis of the measuring machine. In this case, the positional and angular position of the rotationally symmetrical measurement object is changed by the at least indirect force acting on the centering and / or the tilting element until the distance values are the same for a complete revolution or lie within a defined tolerance band. Only then is the alignment axis of the measurement object aligned with the reference axis of the measurement machine. Under these conditions, the geometry of the rotationally symmetric measurement object can then be recorded in a surveying phase.
In vorteilhafter Weise erfolgt die Einstellung der Lage- und Winkelposition in der Einstellphase als auch die Erfassung der Geometrie des rotationssymmetrischen Messobjektes in der Vermessungsphase mittels des gleichen Messsystems. Des Weiteren ist in der Vermessungsphase ein Störeinfluss von Seiten der Messmaschine reduziert, indem die zumindest mittelbare elektrische und/oder mechanische Kopplung des ersten und des zweiten Tischaufbaus über das zumindest eine Stellelement, wie sie in der Einstellphase vorliegt, aufgehoben wird. Auf diese Weise werden genauere Messdaten erhalten.Advantageously, the adjustment of the position and angular position in the adjustment phase as well as the detection of the geometry of the rotationally symmetrical measurement object in the Vermessungsphase by means of the same measuring system. Furthermore, in the surveying phase, a disturbing influence on the part of the measuring machine is reduced by canceling out the at least indirect electrical and / or mechanical coupling of the first and second table structures via the at least one adjusting element, as present in the setting phase. In this way, more accurate measurement data is obtained.
Erfindungsgemäß kann eine sehr schnelle Ausrichtung des rotationssymmetrischen Messobjektes gegenüber der Referenzachse des Meßsystems erfolgen.According to the invention, a very fast alignment of the rotationally symmetrical measurement object with respect to the reference axis of the measurement system can take place.
Dabei wird auf das Zentrier- und/oder das Kippelement eine derartige Krafteinwirkung durch zumindest ein Stellelement vorgesehen, dass der Abstandswert, beispielsweise an der Stelle der Außenkontur des zuvor erfassten maximalen Abstandswertes, vermindert wird. Besonders vorteilhaft ist es, wenn die zumindest mittelbare Krafteinwirkung in einer Ebene vorgesehen wird, die deckungsgleich ist mit der zur Erfassung der Geometrie des Messobjektes definierten Messebene des Messsystems. Auf diese Weise ist die für eine Ausrichtung noch notwendige Lage- und Winkeländerung des rotationssymmetrischen Messobjektes sehr einfach zu bestimmen.In this case, such a force is provided by at least one adjusting element on the centering and / or the tilting element that the distance value, for example, at the location of the outer contour of the previously detected maximum distance value, is reduced. It is particularly advantageous if the at least indirect application of force is provided in a plane which is congruent with the measuring plane of the measuring system defined for detecting the geometry of the measurement object. In this way it is very easy to determine the position and angle change of the rotationally symmetric measurement object which is still necessary for alignment.
Eine weitere Verbesserung des erfindungsgemäßen Verfahrens ergibt sich dadurch, dass die Krafteinwirkung auf das Zentrier- und/oder das Kippelement während der Drehung bezogen auf ihre Kraftstärke und/oder ihre zeitliche Wirkdauer verändert wird. Zusätzlich oder alternativ ist es von Vorteil, wenn die Krafteinwirkung auf das Zentrierelement zu einem anderen Zeitpunkt erfolgt als die Krafteinwirkung auf das Kippelement. Dadurch ergeben sich vielfältige Möglichkeiten die Steuerung der Messmaschine mit einem Ausrichtalgorithmus vorzusehen, mittels welchem eine schnelle und sehr exakte Einstellung der Lage- und Winkelposition des rotationssymmetrischen Messobjektes erreicht werden kann. Der Ausrichtalgorithmus berücksichtigt hierbei beispielsweise den Zeitpunkt einer Messwerterfassung, die Einstellposition des Messsystems und die Höhe des erfassten Messwertes sowie beispielsweise den Zeitpunkt der Krafteinwirkung, den Krafteinwirkbereich auf das Zentrier- und/oder Kippelement und die Stärke der Krafteinwirkung. Insbesondere erfolgt dies in einer solchen Weise, dass durch die Krafteinwirkung auf das Zentrier- und/oder Kippelement der parallele Versatz und die Verkippung der Ausrichtachse des rotationssymmetrischen Messobjektes zur Referenzachse des Messsystems vermindert wird, insbesondere bis die Ausrichtachse zur Referenzachse – zumindest innerhalb eines Toleranzbereiches – ausgerichtet ist.A further improvement of the method according to the invention results from the fact that the force acting on the centering and / or the tilting element is changed during the rotation relative to their strength and / or their temporal duration of action. Additionally or alternatively, it is advantageous if the force is applied to the centering element at a different time than the force acting on the tilting element. This results in a variety of ways to provide the control of the measuring machine with an alignment algorithm, by means of which a fast and very precise adjustment of the position and angular position of the rotationally symmetric object to be measured can be achieved. The alignment algorithm takes into account, for example, the time of a measured value detection, the setting position of the measuring system and the height of the detected measured value and, for example, the time of the force, the force acting on the centering and / or tilting element and the strength of the force. In particular, this is done in such a manner that is reduced by the force acting on the centering and / or tilting element of the parallel offset and the tilting of the alignment axis of the rotationally symmetric object to the measurement axis of the measuring system, in particular to the alignment axis to the reference axis - at least within a tolerance range - is aligned.
Kurze Beschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings
Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele sowie anhand der Zeichnung. Diese zeigt in:Further advantages, features and details of the invention will become apparent from the following description of preferred embodiments and from the drawing. This shows in:
Ausführungsformen der ErfindungEmbodiments of the invention
In den Figuren sind funktional gleiche Bauteile jeweils mit gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet.In the figures, functionally identical components are each identified by the same reference numerals.
In einem Teilbereich des Grundsockels
Die Messmaschine
In der ersten Betriebsposition P1 wird der Gegenkontakt
Dagegen ist in der zweiten Betriebsposition P2 des Gegenkontaktes
Das Kippelement
Das Zentrierelement
Bestandteil des Kipp- und Zentriertisch
Eine Krafteinwirkung auf das Kippelement
Eine Krafteinwirkung auf das Zentrierelement
Eine Veränderung der Positionslage bzw. der Winkellage des Messobjektes
Die Verkippeinheit
Grundsätzlich können zur Einstellung eines Reibwertes in einer Ruheposition und/oder zur Einstellung eines Gleitwertes für die relative Bewegung des Zentrierelementes
Für zumindest eine Vermessungsphase ist der mechanische Kontakt zwischen dem Kippstift
Für eine Einstellphase ist in
Grundsätzlich kann eine Veränderung der Lage- und/oder Winkelposition des rotationssymmetrischen Messobjektes
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