DE102012025567A1 - Konvexe Gitterstruktur und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents
Konvexe Gitterstruktur und Verfahren zu dessen Herstellung Download PDFInfo
- Publication number
- DE102012025567A1 DE102012025567A1 DE201210025567 DE102012025567A DE102012025567A1 DE 102012025567 A1 DE102012025567 A1 DE 102012025567A1 DE 201210025567 DE201210025567 DE 201210025567 DE 102012025567 A DE102012025567 A DE 102012025567A DE 102012025567 A1 DE102012025567 A1 DE 102012025567A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrode
- hollow body
- laser
- grid
- support grid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 title description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 2
- 238000013086 organic photovoltaic Methods 0.000 claims description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 claims 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 claims 1
- 238000004091 panning Methods 0.000 claims 1
- 230000002186 photoactivation Effects 0.000 claims 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000007704 wet chemistry method Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 3
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/81—Anodes
- H10K50/813—Anodes characterised by their shape
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21K—NON-ELECTRIC LIGHT SOURCES USING LUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING ELECTROCHEMILUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING CHARGES OF COMBUSTIBLE MATERIAL; LIGHT SOURCES USING SEMICONDUCTOR DEVICES AS LIGHT-GENERATING ELEMENTS; LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21K9/00—Light sources using semiconductor devices as light-generating elements, e.g. using light-emitting diodes [LED] or lasers
- F21K9/20—Light sources comprising attachment means
- F21K9/23—Retrofit light sources for lighting devices with a single fitting for each light source, e.g. for substitution of incandescent lamps with bayonet or threaded fittings
- F21K9/232—Retrofit light sources for lighting devices with a single fitting for each light source, e.g. for substitution of incandescent lamps with bayonet or threaded fittings specially adapted for generating an essentially omnidirectional light distribution, e.g. with a glass bulb
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21K—NON-ELECTRIC LIGHT SOURCES USING LUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING ELECTROCHEMILUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING CHARGES OF COMBUSTIBLE MATERIAL; LIGHT SOURCES USING SEMICONDUCTOR DEVICES AS LIGHT-GENERATING ELEMENTS; LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21K9/00—Light sources using semiconductor devices as light-generating elements, e.g. using light-emitting diodes [LED] or lasers
- F21K9/90—Methods of manufacture
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/81—Anodes
- H10K50/814—Anodes combined with auxiliary electrodes, e.g. ITO layer combined with metal lines
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21Y—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO THE FORM OR THE KIND OF THE LIGHT SOURCES OR OF THE COLOUR OF THE LIGHT EMITTED
- F21Y2105/00—Planar light sources
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21Y—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO THE FORM OR THE KIND OF THE LIGHT SOURCES OR OF THE COLOUR OF THE LIGHT EMITTED
- F21Y2115/00—Light-generating elements of semiconductor light sources
- F21Y2115/10—Light-emitting diodes [LED]
- F21Y2115/15—Organic light-emitting diodes [OLED]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/80—Constructional details
- H10K30/81—Electrodes
- H10K30/82—Transparent electrodes, e.g. indium tin oxide [ITO] electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft eine optisch (halb-)transparente Elektrode auf einem (halb-)transparenten Substrat, bestehend aus einem flächigen Anteil sowie einem elektrisch leitfähigen Stützgitter, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat eine rotationssymmetrische konvexe Geometrie besitzt und das Stützgitter eine Netzstruktur besitzt, die mindestens abschnittweise der Form einer geodätischen Kugel oder eines dazu dualen Körpers (Fußball) gleicht.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Gitterstruktur für eine flächige, konvexe, transparente Elektrode eines 3-dimensionalen Formkörpers, vorzugsweise eines abschnittsweise kugelförmigen Hohlkörpers für flächige, optoelektronische Anwendungen wie beispielsweise organische Leuchtdioden, organische Photovoltaik sowie Verfahren zu dessen Herstellung.
- Viele optoelektronische Anwendungen benötigen eine Schicht, die einerseits eine hohe elektrische Leitfähigkeit besitzt und andererseits eine möglichst hohe optische Transparenz in einem relevanten Wellenlängenbereich, beispielsweise dem sichtbaren Spektralbereich, besitzt. Typischerweise sind diese Anforderungen gegensätzliche Ziele, da eine hohe Leitfähigkeit die Präsenz freier Ladungsträger in der Schicht impliziert, die wiederum durch ihre Bewegungsfreiheit in Dipol-Wechselwirkung mit elektromagnetischer Strahlung treten können und deren Transmission damit unterbinden oder zumindest erschweren. Für den sichtbaren Spektralbereich haben die besten erreichbaren Schichten, beispielsweise aus einem transparenten leitfähigen Oxid (TCO) wie 100 nm ITO (In2O3:SnO2), typischerweise eine Transmission von 90% und einen Flächenwiderstand von 10 Ω/☐. In vielen Anwendungen, vor allem bei großflächigen Bauelementen, ist dieser Wert nicht ausreichend für eine homogene Stromdichteverteilung über die flächige, transparente Elektrode. Um die Homogenität zu verbessern, werden häufig Metallnetze oder regelmäßige Metallgitter in die Elektrode eingebaut. Diese werden dabei hinsichtlich Segmentform und Segmentgröße optimiert, um insgesamt eine möglichst homogene Stromverteilung zu erreichen.
- Stand der Technik
- Aus der
US000005293546A - Aus der
DE 10 2006 045 514 A1 ist ein weiteres Metallgitter bekannt, welches sogar ausschließlich, also ohne Kombination mit einer TCO-Schicht, als transparente Elektrode beschrieben ist. Dieses hat eine unregelmäßige Struktur, um der Aufmerksamkeit einer hindurchsehenden Person möglichst zu entgehen. - Die
DE 000019804314 A1 beschreibt dagegen ein flächiges Metallgitter zur Unterstützung der Anodenleitfähigkeit eines elektrochromen Displays, das sowohl eine periodische als auch eine aperiodische Struktur haben kann. - Nachteile des Standes der Technik
- Nachteilhaft an den beschriebenen unregelmäßigen Varianten dieser Gitter ist deren unsymmetrische Struktur innerhalb der durch die Netzlinien definierten Flächensegmente. Für eine homogene Charakteristik organischer, flächiger Bauelemente ist eine einheitliche Größe der Flächensegmente von großer Bedeutung. Diese sollten eine möglichst hohe Symmetrie aufweisen und gleichzeitig kongruent sein. Die im Stand der Technik dokumentierten regelmäßigen Varianten solcher Gitter, insbesondere die quadratische Struktur, erfüllen diese Bedingung nur für ebene Flächen. Die Beschränkung auf ebene Flächen hat jedoch den Nachteil eines hohen Raumbedarfes. Beispielsweise hat ein Quadrat von 10 cm × 10 cm eine maximale Dimension in Richtung der Diagonale von 14 cm bei einer Gesamtfläche von 100 cm2. Dieselbe Fläche hat als Oberfläche einer Kugel nur eine maximale Abmessung von 5,6 cm (Durchmesser). Die Transformation des quadratischen Gitters auf eine Kugel-Oberfläche würde jedoch beispielsweise zu einer extrem unregelmäßigen Ausführung der Segmente führen. In Äquatornähe wären die Segmente wesentlich größer als in Polnähe.
- Für die Herstellung eines Gitters in der Ebene existieren eine Vielzahl von Verfahren, wie bspw. Lithografie, Laser-Schreiben, Schattenmasken-Bedampfung, Druck- und Stempelverfahren. Es gibt jedoch kein etabliertes Verfahren, das problemlos in einem Hohlkörper angewendet werden kann. Neben der Beschränkung durch eine relativ kleine Arbeitsöffnung und den meist geringen Abstand der Seitenwände im Inneren erschwert die fehlende Planarität der Flächen eine fokussierte und verzerrungsfreie Abbildung.
- Aufgabe der Erfindung
- Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine konvexe oder sphärische transparente Elektrode mit einem Stützgitter bereitzustellen, dessen Gitterstruktur an die Krümmung der Fläche angepasst ist und damit die Nachteile des Standes der Technik vermeidet.
- Lösung der Aufgabe
- Erfindungsgemäß wird die Aufgabe mit den in den Hauptansprüchen genannten Merkmalen gelöst. Vorteilhafte Varianten ergeben sich aus in den Unteransprüchen genannten Merkmalen sowie aus der Beschreibung und den Ausführungsbeispielen.
- Eine augenscheinliche Realisierung bestünde aus zueinander senkrechten Längs- und Querstreifen (analog zu rechteckigen Gittern der Fläche, siehe Breiten-/Längengrade). Dabei werden jedoch die Flächenelemente, welche von den Gitterstegen eingeschlossen werden mit zunehmendem Abstand zur Roationsachse größer. Dem kann ein Stück weit gegengesteuert werden, indem bspw. der Abstand der Querstreifen zueinander so variiert wird, dass möglichst äquivalente Flächen entstehen (Reduzierung des Abstandes mit zunehmenden Abstand zur Rotationsachse). Eine Wabenstruktur, wie sie als alternatives flächiges Elektrodengitter bekannt ist, lässt sich nur mit Abwandlungen (s. u.) auf eine Kugel-Oberfläche abbilden. Deutlich besser geeignet sind stattdessen sphärische Gitter in Form konvexer Polyeder, die aus kongruenten, also deckungsgleichen Vielecken bestehen. Davon gibt es allerdings im dreidimensionalen Raum nur exakt 5 Stück:
- Das feinst-mögliche Gitter mit exakt identischen Segmenten ist damit der Ikosaeder. Wenn an das Gitter die Anforderung gestellt wird, dass der Mittelpunkt eines Segmentes eine maximal Entfernung ri von 5 mm (Inkreisradius eines Segmentes) zur nächsten (stromführenden) Gitterlinie haben sollte (um den Spannungs-/Helligkeitsabfall zu begrenzen), dann darf die Kantenlänge a auf Grund folgender Abhängigkeit des Inkreisradius ri von der Kantenlänge a: nur maximal 17 mm betragen. Mit dem Zusammenhang zwischen dem Umkugelradius R um einen Ikosaeder und der Kantenlänge a wäre mit dieser Anforderung eine kugelförmige transparente Elektrode mit einem Radius von 16 mm bzw. einem Durchmesser von 32 mm darstellbar. Für viele optoelektronische Anwendungen wie beispielsweise organische Leuchtdioden ist es jedoch wünschenswert, konvexe Elektroden mit einem deutlich größeren Krümmungsradius herstellen zu können.
- Eine Möglichkeit ist die Unterteilung der Ikosaeder-Segmente in Unterdreiecke (z. B.: Winkelhalbierende jedes Dreiecks). Der Inkreismittelpunkt eines Ikosaeder-Segments wird dadurch zu einer zusätzlichen Ecke. Dabei geht die 5-zählige Symmetrie des Ikosaeders (an jeder Ecke treffen sich 5 Kanten) verloren, da die Unterstruktur innerhalb eines Ikosaedersegmentes eine 6-zählige Symmetrie besitzt (an jeder neuen Ecke treffen sich nun 6 Kanten). Mit der weiterhin gültigen Bedingung, dass alle Ecken der Dreieck-Segmente auf der Umkugel liegen, ist dies nicht mehr mit exakt kongruenten Dreiecken möglich. Allerdings ist die Regelmäßigkeit immer noch ausreichend. Bei großen abzudeckenden Flächen muss das Unterteilungsverfahren mehrfach angewendet werden, um den gewünschten Abstand der Einzelflächen-Mittelpunkte zu den Gitterstegen zu erhalten.
- Regelmäßige Gitterstrukturen sind jedoch nicht einschränkend nur durch Unterstrukturierung des Ikosaeders herzustellen. So können beispielsweise auch andere Platonische Körper wie der Dodekaeder (Körper mit 12 5-Ecken) als Ausgangskörper zur Erzeugung nahezu regelmäßiger, kugelförmiger Gitter herangezogen werden. Durch Unterteilung in der Dodekaeder-Flächen in Dreiecke erhält man eine Unterteilung der Kugel in Teilflächen mit nahezu gleichem Inkreisradius. Allgemein handelt es sich bei den hier beschriebenen spärischen Gittern mit einer nahezu regelmäßigen Dreieckstruktur um so genannte geodätische Gitter oder auch geodätische Kugeln. Der große Vorteil dieser erfindungsgemäßen Ausführung des Elektrodengitters ist die bestmögliche gleichmäßige Segmentierung einer wenigstens abschnittsweise konvexen transparenten Elektrode. Die zweitbeste konvexe Segmentierung unter der Randbedingung möglichst identischer Segmente ist die Segmentierung einer Vollkugel in genau 12 regelmäßige 5-Ecke und einer Anzahl von 6-Ecken. Die kleinstmögliche Anzahl von 6-Ecken ist dabei 0 (Dodekaeder), gefolgt von 12 (z. B. Fußball oder C60-Fulleren). Es handelt sich bei diesen Körpern allgemein um die zu den geodätischen Kugeln dualen Polyeder im mathematischen Sinne des Begriffs der Dualität.
- Für die Erzeugung der Gittermuster bietet sich ein optisches Verfahren an, um die komplexen Muster mit Linienbreiten von wenigen 100 nm bis einigen mm effizient und reproduzierbar zu erzeugen. Dabei bietet sich der Einsatz von Laserquellen an, da deren Eigenschaften (monochromes Licht, hohe Energiedichte, sehr schnell schaltbar, gute Fokussierbarkeit) besonders gut für die Strukturbildung geeignet sind. Das Muster kann dabei in Positivtechnik (z. B.: Lithografie mit späterem Lift-off, Verbacken/Vernetzen von Monomeren oder äquivalentem feinkörnigen Rohmaterial/Suspensionen) sowie Negativtechnik (Abtragen von dünnen Schichten + Entfernung durch Spülgas-Strom) erzeugt werden.
- Bei den vorgestellten Verfahren wird ein an die begrenzten Platzverhältnisse angepasstes optisches Ablenksystem verwendet, das in den Hohlkörper eingeführt wird. Großvolumige Lichtquellen können so außerhalb des Hohlkörpers betrieben werden und ihr (gebündelter) Strahl über eine Öffnung des Hohlkörper zur steuerbaren Ablenkeinheit im Inneren des Körpers geführt werden. Damit lassen sich auch leistungsfähige Lasersysteme für hohe Strahldichten (z. B.: für abtragende Strukturierungen) einsetzen. Bei Laserquellen ist eine Freistrahloptik naheliegend, aber auch die abschnittsweise Leitung über Glasfasern oder selbst die Erzeugung des Laserstrahles über optisch aktive Fasern ist möglich.
- Auf der Hohlkörperinnenseite befindet sich eine foto(re-)aktive feste, flüssige oder pulverförmige Schicht, beispielsweise ein Fotolack, eine fotoreduktive Lösung, fotoaktivierbare Precursor-Moleküle oder lasersinterbare Pulver. Die Lichtstrahlablenkeinheit als Basiselement befindet sich bei den vorgestellten Verfahren auf der Spitze einer Art Lanze nahe des Zentrums des Hohlkörpers (
3 –4 ). Damit wird ein möglichst gleichmäßiger Fokus erhalten um Abbildungsverzerrungen bei der Ansteuerungen zu vermeiden. - Eine erste Variante (
3 ) sieht vor, einen einzelnen, steuerbaren Reflektor als Ablenkeinheit zu verwenden, was in den optischen Technologien i. A. als Scanner bezeichnet wird. Bei einer Einkopplung des Lasers entlang der senkrechten Symmetrieachse und anschließender Reflektion am beweglichen Reflektor kann damit jedoch nicht der Scheitel des Hohlkörpers erreicht werden. Aus diesem Grund wird die Ablenkeinheit (parallel) versetzt zur Drehachse ausgerichtet. Weiterhin kann ein 2. Laser unter einem Winkel eingekoppelt werden, um unausgeleuchtete Bereiche abzudecken. - Für eine weitere Ausführung der Ablenkeinheit (
5 ), wird über einen ersten fixen Spiegel (s. - Eine alternative technische Ausführung des Belichters sieht vor, die Lichtquelle selbst drehbar im Scheitel der Zuführung anzubringen. Dazu können Laserdioden bzw. Hochleistungs-LEDs eingesetzt werden. Eine zusätzliche Optikeinheit (Linsen, Lochblende) sorgt für das gewünschte Strahlprofil. Bei einer weiteren Variante, wird der Lichtstrahl mittels hochflexibler Lichtleitfaser(n) mit nachgeschalteter Optik ins Innere des Hohlkörpers gebracht. Durch eine drehbare Befestigung kann der entsprechende Bereich auf der Innenseite belichtet werden, aktuelle Wellenleiter sind für die dabei auftretenden geringen Biegeradien (wenige cm) geeignet. Ist die Transparenz des Substrates sowie darauf bereits abgeschiedener Schichten hoch genug, ist auch eine Einkopplung des Lichtes durch die Oberfläche möglich. Dazu wird der Lichtstrahl aufgeweitet/defokussiert (
6 ), so dass die Intensität deutlich unterhalb des Wertes liegt, bei der eine Reaktion/Abtrag des zu strukturierenden Filmes stattfindet. Nach dem Durchgang durch die Ablenkeinheit (die ggf. optische Elemente zur Fokussierung enthält – z. B.: gewölbter Spiegel) trifft der Strahl mit erhöhter Intensität auf die Oberfläche des Substrates. Um die Belichtungszeit bei der Eintrittsfläche zu reduzieren sowie grobe Abbildungsfehler zu vermeiden kann es erforderlich sein, die Lichtquelle synchron (in geringerer Auflösung) zur Spiegelbewegung nachzuführen, bzw. mehrere Quellen zu verwenden. - Der Mechanismus, mittels dessen bspw. Leiterbahnen in die Schicht „geschrieben” werden lässt sich im Allgemeinen durch ein Verfolgen einer oder mehrerer einzelner Pfad(e) beschrieben, die bspw. über eine Abfolge von Winkelkoordinaten nacheinander angesteuert werden. Algorithmen, um die zu erzeugenden Muster in Pfade umzusetzen, sind aus der Graphentheorie bekannt, wie etwa die Lösung des Briefträgerproblems, bei der es darum geht auf kürzestem Weg in einem Knotennetzwerk jede einzelne Verbindung mindestens einmal zurückzulegen.
- Die Erfindung wird nachfolgend in Ausführungsbeispielen an Hand der Zeichnungen näher erläutert.
- Fig. 1
- Organische Leuchtdiode in Form eines Hohlkörpers auf einem Edison-Sockel (
4 ), bestehend aus der transparenten Elektrode mit einem Stützgitter, welches nur aus regelmäßigen 5-Ecken und regelmäßigen 6-Ecken besteht (1 ). Weiterhin aus der Figur ersichtlich sind die organische Leuchtschicht (2 ), die aus mehreren organischen Schichten besteht, und die metallische Kathode (3 ). - Fig. 2
- Diese Figur ist analog zur
1 mit dem einzigen Unterschied, dass das metallische Stützgitter in diesem Fall aus dreieckigen Segmenten besteht. - Fig. 3
- Diese Figur zeigt eine Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Erzeugung des Stützgitters in dem Hohlkörper. Dabei wird eine Art Lanze (
5 ) mit einem beweglichen Ablenkspiegel (6 ) so durch die Öffnung in den Hohlkörper eingeführt, dass die Spiegelachse in der Nullposition weitgehend senkrecht zur Symmetrieachse (7 ) des Substrates (8 ) steht. Außerdem besteht eine geringe Exzentrizität zwischen dem Scannerspiegel und dem Substrat, damit auch der Schnittpunkt von Hohlkörper und dessen Symmetrieachse von den Strahlen noch erreicht werden kann. Zur Strukturierung werden nun in diesem Beispiel 2 Laserquellen (9 ) ebenfalls durch die Hohlkörperöffnung auf den Scannerspiegel gerichtet und von diesem auf jeweils eine definierte Position der Hohlkörperinnenfläche gelenkt (10 ,11 ). Dabei erfolgt die Strukturierung in vertikaler Richtung durch die Bewegung des Scannerspiegels und in horizontaler Richtung durch Rotation des Werkstückes. Durch die Exzentrizität des Scanners vom Hohlkörpermittelpunkt entstehen leicht unterschiedliche Laufwege der Strahlen, die jedoch durch eine entsprechend große Fokustiefe oder eine dynamische Fokusanpassung kompensiert werden kann. - Fig. 4:
-
4 zeigt eine Variante des Verfahrens (vgl.3 ), bei der direkt im Zentrum des Hohlkörpers die Ablenkeinheit (6 ) (z. B.: drehbarer Reflektor) an einer Lanze (5 ) angebracht ist, welche senkrecht dazu rotierbar ausgeführt ist. Der Lichtstrahl eines einzelnen Lasers (9 ) wird nun durch Verstellung der Ablenkeinheit auf einen möglichst großen Winkelbereich des Hohlkörpers (entlang eines Längengrades) abgebildet (10 ,11 ). Die senkrechte Rotation der Lanzeneinheit bzw. des Hohlkörpers erlaubt die Bewegung entlang eines Breitengrades. - Fig. 5:
- Die Figuren zeigen mögliche Ausführungsformen der Ablenkeinheit (
4 ), um einen großen Winkelbereich mit dem Strahl eines Lasers (9 ) abdecken zu können (Lanze zur Übersichtlichkeit nicht abgebildet): - a) Ein erster fester Ablenkspiegel (
12 ) bringt den Lichtstrahl aus der vertikalen Einkopplung in eine horizontale Ebene, anschließend kann er mittels eines zweiten drehbaren Spiegels (13 ) den gesamten Winkelbereich um die Drehachse abdecken. Statt einer unbeschränkten Rotation um eine Achse kann auch eine Drehschwingung zur Ablenkung verwendet werden (Mikrospiegel, Laserscanner). - b) Alternative Verwendung eines kleinen leistungsfähigen Lasermoduls (
14 ) (Laserdiode) sowie Optik (15 ) zur Fokussierung auf der drehbaren Achse. - c) Einsatz hochflexibler Glasfaser(abschnitte) (
16 ) zur Strahllenkung. - Fig. 6:
-
6 zeigt eine Variante des Verfahrens, bei dem der Lichtstrahl durch eine Optik (17 ) aufgeweitet (18 ) von außen durch das Substrat hindurch auf die Ablenkeinheit trifft. Durch die Einstellung der ortsabhängigen Strahlaufweitung bzw. unter Zuhilfename fokussierender Elemente (hier nicht dargestellt – z. B.: nicht-planare Reflektoren) an der Ablenkeinheit wird der Fokus auf der Innenfläche anschließend beim 2. Durchgang erzielt (19 ). Gegebenenfalls muss die äußere Lichtquelle nachgeführt werden oder es kommen mehrere Lichtquellen zum Einsatz. - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- US 000005293546 A [0003]
- DE 102006045514 A1 [0004]
- DE 000019804314 A1 [0005]
Claims (20)
- Optisch (halb-)transparente Elektrode auf einem (halb-)transparenten Substrat, bestehend aus einem flächigen Anteil sowie einem elektrisch leitfähigen Stützgitter, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat eine rotationssymmetrische konvexe Geometrie besitzt und das Stützgitter eine Netzstruktur besitzt, die mindestens abschnittweise der Form einer geodätischen Kugel oder eines dazu dualen Körpers (Fußball) gleicht.
- Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der flächige Anteil durch eine dünne Metallschicht, ein transparentes leitfähiges Oxid (TCO), ein leitfähiges Polymer, oder analoge (halb-)transparente Flächenleiter sowie Kombinationen davon gebildet ist.
- Elektrode nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der flächige Anteil einen Flächenwiderstand kleiner 50 Ω/☐, bevorzugt kleiner 25 Ω/☐, besonders bevorzugt kleiner 10 Ω/☐ aufweist, bei einer Transparenz höher 75%, bevorzugt höher 80%, besonders bevorzugt höher als 85%.
- Elektrode nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Stützgitter bedingt durch die Materialauswahl (z. B.: Metall) oder/und eine erhöhte Schichtdicke eine höhere Leitfähigkeit als der flächige Anteil aufweist.
- Elektrode nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat wenigstens abschnittsweise die Form einer Kugelfläche, Ellipsoidfläche oder dergleichen aufweist.
- Elektrode nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, das die Überstruktur in eine endliche Anzahl von zueinander ähnlichen Dreiecken unterteilbar ist.
- Elektrode nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die transparente Elektrode Teil einer (an-)organischen Leuchtdiode ist.
- Elektrode nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die transparente Elektrode Teil eines (an-)organischen photovoltaischen Bauelementes ist.
- Elektrode nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die transparente Elektrode Teil eines Bauelementes zur Detektion von Strahlung ist.
- Verfahren zur Herstellung eines leitfähigen Gitters und/oder einer flächigen Elektrode nach einem der Ansprüche 1 bis 9, gekennzeichnet durch mindestens einen der folgenden Verfahrensschritte: a) Herstellung einer abzutragenden (z. B.: Metall) oder fotoreaktiven Schicht (z. B.: Fotolack) im Inneren eines rotationssymmetrischen Hohlkörpers durch Sputtern, CVD, PVD, galvanische oder nasschemische Prozesse, Tauchbeschichtung, Schwenken, Sprühen, elektrostatische Bestäubung oder äquivalente Methoden, b) Einführen einer Art Lanze mit einer wenigstens in einer Achse beweglichen Ablenkeinheit zur Ablenkung eines Lasers/-strahles in den Hohlkörper durch eine Arbeitsöffnung, c) Führung eines Strukturier-Laserstrahles zur Ablenkeinheit über eine Freistrahloptik und/oder Lichtleitfaser(n) durch die Arbeitsöffnung des Hohlkörpers, d) Strukturierung der Saat- bzw. Aktivierungsschicht durch ein vorgegebenes Bewegungsmuster der Ablenkeinheit und einer dazu synchronisierten Modulation der Laserleistung, e) Abscheidung/Verstärkung des Gitters auf dem Substrat entlang der gewünschten Struktur f) Herstellung des flächigen Elektrodenteils.
- Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper bzw. die Lanzeneinheit um wenigstens eine Achse rotiert wird und die Rotation zur Ablenkeinheit und Modulation der Laserleistung synchronisiert ist.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Fokustiefe des Laserstrahls und/oder die Lichtintensität dynamisch variiert wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass während der Strukturierung ein Gasfluss u. a. zum Abtransport des durch die Lasereinwirkung abgetragenen Materials oder zur Kühlung erzeugt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens ein Lichtstrahl reduzierter Intensität (z. B.: defokussiert) das Substrat bis zur Ablenkeinheit durchquert und von dort auf eine definierte Position auf der Innenfläche des Hohlkörpers gelenkt wird, wobei diese im Fokus des Lichstrahls liegt, wobei der Unterschied der Leistungsdichte des wenigstens einen Lichtstrahles beim ersten und zweiten Durchgang durch die zu strukturierende Schicht dabei wenigstens so groß ist, dass die Schwelle zum Materialabtrag/Photoaktivierung erst beim 2. Durchgang des Lichts von innen nach außen erreicht wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Ablenkeinheit exzentrisch zum Mittelpunkt des Hohlkörpers positioniert wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass als Ablenkeinheit ein Spiegel um eine Achse drehbar gelagert ist und über einen steuerbaren Motor (z. B.: Schrittmotor, Servomotor) bewegt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass für die Ablenkung mindestens ein Galvanometerantrieb oder mindestens ein Mikrospiegelsystem verwendet wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass ein Laser direkt in der Ablenkeinheit integriert wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtlenkung statt über Spiegel mittels einer drehbaren Faseroptik erfolgt.
- Steuerungsverfahren zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 10–19, dadurch gekennzeichnet, dass der abgefahrene Lichtpfad wenigstens abschnittsweise einer Lösung des sogenannten Briefträgerproblems für die zu erzeugende Gitterstruktur entspricht.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201210025567 DE102012025567A1 (de) | 2012-12-19 | 2012-12-19 | Konvexe Gitterstruktur und Verfahren zu dessen Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201210025567 DE102012025567A1 (de) | 2012-12-19 | 2012-12-19 | Konvexe Gitterstruktur und Verfahren zu dessen Herstellung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102012025567A1 true DE102012025567A1 (de) | 2014-04-10 |
Family
ID=50336839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE201210025567 Withdrawn DE102012025567A1 (de) | 2012-12-19 | 2012-12-19 | Konvexe Gitterstruktur und Verfahren zu dessen Herstellung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102012025567A1 (de) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5293546A (en) | 1991-04-17 | 1994-03-08 | Martin Marietta Corporation | Oxide coated metal grid electrode structure in display devices |
DE19804314A1 (de) | 1998-02-04 | 1999-08-12 | Bayer Ag | Elektrochromes Display |
DE102006045514A1 (de) | 2006-08-16 | 2008-02-21 | Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg | Transparente Flächenelektrode |
WO2010022105A2 (en) * | 2008-08-19 | 2010-02-25 | Plextronics, Inc. | Organic light emitting diode products |
DE102008048829A1 (de) * | 2008-09-25 | 2010-04-01 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Organisches optoelektronisches Bauteil |
DE102009040329A1 (de) * | 2009-09-07 | 2011-03-10 | Emde Projects Gmbh | Leuchtmittel auf Basis nanoskaliger Strukturen |
-
2012
- 2012-12-19 DE DE201210025567 patent/DE102012025567A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5293546A (en) | 1991-04-17 | 1994-03-08 | Martin Marietta Corporation | Oxide coated metal grid electrode structure in display devices |
DE19804314A1 (de) | 1998-02-04 | 1999-08-12 | Bayer Ag | Elektrochromes Display |
DE102006045514A1 (de) | 2006-08-16 | 2008-02-21 | Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg | Transparente Flächenelektrode |
WO2010022105A2 (en) * | 2008-08-19 | 2010-02-25 | Plextronics, Inc. | Organic light emitting diode products |
DE102008048829A1 (de) * | 2008-09-25 | 2010-04-01 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Organisches optoelektronisches Bauteil |
DE102009040329A1 (de) * | 2009-09-07 | 2011-03-10 | Emde Projects Gmbh | Leuchtmittel auf Basis nanoskaliger Strukturen |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2217256A1 (de) | Elektrostatisch ablenkbarer Lichtventilaufbau für Projektionszwecke | |
DE112019006566T5 (de) | Linear polarisiertes lichtumwandlungselement, herstellungsverfahren und linear polarisiertes lichtumwandlungssystem | |
DE102011003928A1 (de) | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie | |
DE102012220597A1 (de) | Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie | |
AT519055A1 (de) | Fahrzeugscheinwerfer | |
DE102015213275A1 (de) | Spiegelanordnung für eine Lithographiebelichtungsanlage und Spiegelanordnung umfassendes optisches System | |
DE102016102591A1 (de) | Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung | |
DE102011101585A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Leuchtdioden oder photovoltaischen Elementen | |
DE102018216940A1 (de) | Laserbearbeitungssystem | |
DE102013219057A1 (de) | Facettenspiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102009000724A1 (de) | Vorrichtung zum Ablenken von Lichtstrahlen | |
EP0104685A2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Maske für die Musterzeugung in Lackschichten mittels Röntgenstrahllithographie | |
DE102012207866A1 (de) | Baugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie | |
DE102019208934A1 (de) | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage | |
EP2885677B1 (de) | Verfahren zur optischen übertragung einer struktur in ein aufnahmemedium | |
DE102012025567A1 (de) | Konvexe Gitterstruktur und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE2416186B2 (de) | Maske zur strukturierung duenner schichten | |
DE102013217269A1 (de) | Mikrospiegel-Array | |
DE3404673A1 (de) | Photolithographische einrichtung und damit hergestellte magnetische oberflaechenspeicher | |
DE102011112696B4 (de) | Solarzelle mit Folie zur Rückseitenkontaktierung, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung einer Folie als Rückseitenkontaktierung | |
DE102018217651A1 (de) | Lichtmodul für eine Beleuchtungsvorrichtung eines Kraftfahrzeugs | |
DE102019207073A1 (de) | Bilderzeugungseinrichtung für ein scannendes Projektionsverfahren mit Bessel-ähnlichen Strahlen | |
DE102016119623B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer optischen Vorrichtung | |
DE102018207146A1 (de) | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage | |
DE1299311B (de) | Speicherelektrode fuer Vidicon-Bildaufnahmeroehren |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R079 | Amendment of ipc main class |
Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: G02F0001155000 Ipc: H01L0051520000 |
|
R016 | Response to examination communication | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |