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Die Erfindung betrifft eine HF-Plasma-Zündkopf, einen HF-Plasma-Strahlerkopf und einen HF-Plasma-Strahler und ein Verfahren zum Betrieb eines HF-Plasma-Strahlers insbesondere zum Zünden und Betreiben eines Plasmas im MHz- und GHz-Bereich.
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Lichtbasierte Laser sind in vielen Anwendungsbereichen aus dem Stand der Technik bekannt.
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Auch Plasmaanlagen haben sich seit einigen Jahrzehnten in der Industrie etabliert. Hierbei ist sowohl eine Niederdruckanwendung als auch eine atmosphärische Anwendung möglich. Generell ist es bei der Generation von Plasmen notwendig, dass man für die Zündung eine Hochspannung generiert und für den Betrieb die optimale Anpassung für die Einspeisung der elektrischen Energie bereitstellt. Hierfür werden oft zwei unterschiedliche elektrische Ansteuerungsmodule zur Verfügung gestellt.
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Für Niederdruckanwendungen lassen sich Plasmen relativ einfach zünden. Hier ist der Einsatz von Magnetrons bereits Stand der Technik.
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In atmosphärischen Anwendungen wird ein deutlich höherer Aufwand für die Zündung benötigt. Etabliert sind hier Plasmaanlagen, die im DC-, kHz-Bereich und gegebenenfalls unterem MHz-Bereich betrieben werden. Diese basieren überwiegend auf einer Bogen- oder Koronaentladung. Zum Zünden wird eine sehr hohe Spannung erzeugt, die oft im zweistelligen kV-Bereich liegt.
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Seit kurzem gibt es in der Plasmatechnik Plasmaanlagen, die Leistungen bis 200 W erreichen. Sie basieren auf jüngsten HF-Zündkerzen und HF-Lampenerfindungen. Auch Plamsa-Strahler, die bei 2,45 GHz betrieben werden, sind bekannt. Diese verwenden ein sogenanntes Bi-Static-Matching, das heißt es wird bei einer Frequenz im IMS-Band eine Hochspannung erzeugt. Nach erfolgter Plasma-Zündung wird auf eine andere Frequenz umgeschaltet, die ca. 20 bis 70 MHz entfernt ist, jedoch ebenfalls im IMS-Band liegt. Für diese Umschaltung benötigt man eine spezielle Mess- und Regelelektronik sowie breitbandige Transistorverstärker oder teure Alternativen wie Klystrons oder Wanderfeldröhren.
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Ein Einsatz der preiswerten und sehr effizienten Magnetrons ist nicht möglich, da deren Frequenz sich nicht ausreichend regeln lässt. Die verfügbaren Anlagen, die zum Schweißen und zur Oberflächenbehandlung aber auch zur Luftreinigung eingesetzt werden, erfüllen bei weitem nicht alle Anforderungen der Anwender.
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Beispielsweise haben sich WIG-Anlagen ohne Elektronenabbrand und mit einem Plasma-Strahler als Energieübertragungsmedium zum Schweißen etabliert. Jedoch hat die Bogenentladung Probleme, wenn es Metalle mit dicker Oxidschicht zu Schweißen gilt. Für Kunststoffe sind diese Prozesse nicht einsetzbar. Daher werden meist Laserschweißverfahren eingesetzt. Das Laserschweißen weist jedoch einige Nachteile auf, da es eine hohe Sicherheitstechnik erfordert: Laserstrahlen sind extrem lang; um gefährliche Reflektionen zu vermeiden, findet die Arbeit mit Laser in abgeschlossenen Kammern statt. Laserschweißen ist zudem sehr teuer und kann nicht frei im Handbetrieb eingesetzt werden.
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Bei der Oberflächenbehandlung, beispielsweise beim Reinigen, Ätzen, Beschichten oder Aktivieren und vielen weiteren Anwendungen mittels Niederdruckplasmen ist bekannt, dass Mikrowellenplasmen Vorteile bieten. Niederdruckanlagen sind jedoch technisch sehr aufwendig und in der Prozesstechnik sehr langsam. Mikrowellenplasmen können daher aktuell nicht in Großanlagen mit atmosphärischen Plasmen genutzt werden, da die Generatoren wie bereits dargestellt sehr teuer sind.
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Für die Entkeimung der Luft in Krankenhäusern werden derzeit unter anderem Erdgasbrenner eingesetzt. Diese rußen jedoch häufig so stark, dass die nachgeschalteten Feinfilter verstopfen. Auch Reinräume benötigen sehr aufwändige Filteranlagen, damit Kleinstpartikel eliminiert werden können.
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Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, aus dem Stand der Technik bekannte Plasmaanlagen zu verbessern. Dadurch werden bereits bekannte Anwendungen verbessert und neue Anwendungsgebiete erschlossen.
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Diese Aufgabe wird gelöst durch eine HF-Plasma-Zündkopf mit einer Zuleitung, einer Betriebseinheit und einer Zündeinheit, wobei die Betriebseinheit eine elektrische Länge von Lambda/2 und die Zündeinheit im gezündeten Zustand eine hochohmige Eingangsimpedanz aufweist.
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Unter HF ist dabei ein in der Frequenz festes sinusförmiges Hochfrequenzsignal im MHz- oder GHz-Bereich, insbesondere im Bereich zwischen 100 MHz und 10 GHz insbesondere zwischen 868 MHz und 2,45 GHz, zu verstehen. Dies kann mit einem Leistungsoszillator oder einem Oszillator mit nachgeschaltetem Leistungsverstärker erzeugt werden. Der HF-Plasma-Zündkopf ist in einem Hochfrequenzleitungssystem realisiert.
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Unter Zündeinheit ist dabei der Bereich des Hochfrequenzleitungssystems zu verstehen, durch den im Moment der Zündung eine Hochspannung zur Zündung des Plasmas erzeugt wird. Unter der Betriebseinheit ist der Teil des Hochfrequenzleitungssystems zu verstehen, über den im Betriebsfall das HF-Signal in das Plasma eingekoppelt wird. Unter der Zuleitung ist die Zuleitung des HF-Signals zu verstehen, bevor sie sich in Zündeinheit und Betriebseinheit aufteilt. Unter der Zuführleitung ist der Teil des HF-Leitungssystems zu verstehen, der von dem Teilerpunkt zwischen Zündeinheit und Betriebseinheit zum Impedanztransformator führt. Unter dem Plasmabereich ist der Bereich zu verstehen, in dem das Plasma gezündet wird.
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Der HF-Plasma-Zündkopf mit dem Impedanztransformator hat den Vorteil, dass weder die Frequenz noch sonst eine Größe zwischen dem Zünden und dem Betrieb umgeschaltet werden muss. Der HF-Plasma-Zündkopf hat so den Vorteil, dass bei einer festen Frequenz eine Hochspannung erzeugt werden kann und sobald ein Plasma entsteht, in dieses bestens Energie eingespeist werden kann.
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Vorteilhafterweise kann der Wellenwiderstand der Zuleitung vor der Signalteilung in Betriebseinheit und Zündeinheit in der Größenordnung der Plasmafußpunktimpedanz liegen.
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Die die Zündeinheit kann eine elektrische Länge von ungefähr Lambda/4 aufweisen. So kann die hochohmige Eingangsimpedanz durch Lambda/4-Transformation erzielt werden.
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Der Impedanztransformator kann ein einstufiger oder ein mehrstufiger insbesondere ein zweistufiger Impedanztransformator sein. Für einen zweistufigen Impedanztransformator lässt sich als Ersatzschaltung ein Spartrafo, bestehend aus einem ersten Teil und einem zweiten Teil und einem sogenannten Gamma-Transformator, bestehend aus einem dritten Teil und der Endkapazität zwischen dem Ende der Zündeinheit und der Gehäusemasse, verwenden. Führt man zwischen der Zuführleitung und einem Teil des Impedanztransformators einen Spalt ein, entsprechend einem Serienkondensator, so erhält man am Eingang aus dem Kondensator und einem Teil des Impedanztransformators eine weitere Transformationsstufe in Form eines zweiten Gamma-Transformators.
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Von Vorteil kann weiter sein, wenn der HF-Plasma-Zündkopf, einen rohrförmigen metallischen Außenleiter aufweist, der koaxial um die Zündeinheit angeordnet ist. Neben einer solchen koaxialen Realisierungsform sind andere Ausgestaltungen des Hochfrequenzleitungssystems möglich. So lassen sich mittels Hohlleiter größte Leistungen ohne Elektrodenproblematik einsetzen. Hier sind insbesondere Strahler für Oberflächenbearbeitungen vorteilhaft umsetzbar. Mittels Koplanarleitungen und insbesondere Streifenleitungen lassen sich kleine druckdichte Zündeinheiten herstellen, die sich insbesondere in deutlich höheren Leistungsbereichen applizieren lassen. Im Fall einer koaxialen Ausgestaltung kann, ist nur eine Zündung erwünscht, der gesamte Innenraum oder ein Teil des Innenraums mittels eines Dielektrikums gegebenenfalls druckdicht gefüllt sein.
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Die Betriebseinheit kann mittels kapazitiver Isolation an eine niederfrequente Betriebsquelle angeschlossen sein Ein elektrisches Hybrid-Plasma wird aus den hochfrequenten und den niederfrequenten Energieanteilen erzeugt. Hierdurch lässt sich ein Hybrid-Plasma mit sehr hoher Leistungsdichte erzeugen. Es sind sogar höhere Energiedichten als beim Lichtlaser vorstellbar.
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Ein zweiter Aspekt der Erfindung betrifft einen HF-Plasma-Strahlerkopf mit einem erfindungsgemäßen HF-Plasma-Zündkopf, wobei dieser eine oder mehrere Gaszuleitungen aufweist. Durch eine durch die Gaszuleitung fließende Gasströmung wird ein Plasmastrahl erzeugt. Dabei ist zu beachten, dass das Prozessgas die Elektroden nicht angreifen darf. Als Prozessgas sind insbesondere Edelgase insbesondere argonhaltige Gase oder Umgebungsluft möglich. Auch fast alle sonstigen Gase sind verwendbar. Es entstehen jedoch bei der Plasmageneration eines verunreinigten Gases keine direkten Emissionen wie bei einer Verbrennung. Das macht den HF-Plasma-Strahlerkopf besonders für einen Einsatz in Krankenhäusern oder Laboren, in denen emissionsfreie Reinräume benötigt werden, geeignet.
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Vorteilhafterweise kann das zum Plasmabereich offene Ende der Gasleitung einen ellipsoiden Querschnitt aufweisen. Dies ist insbesondere für Oberflächenbehandlungen hilfreich. Besonders bevorzugt ist ein breiter ellipsoider Querschnitt. Hiermit können ähnliche Ergebnisse erzielt werden, wie bei aus dem Stand der Technik bekannten Vorrichtungen, bei denen für Oberflächenbehandlungen der Plasmastrahl durch einen weiteren Kopf geblasen wird, der am Ende eine Schlitzöffnung aufweist.
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Weist das zum Plasmabereich offene Ende der Gasleitung eine kleine Austrittsöffnung auf, insbesondere in einer Größenordnung von etwa 0,01 mm bis 4 mm insbesondere von etwa 0,05 mm bis 2 mm, kann ein dünner und somit sehr leistungsstarker Plasmastrahl geformt werden.
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Weiter vorteilhaft ist, wenn das zum Plasmabereich offene Ende der Gasleitung geradlinig verläuft.
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Besonders von Vorteil ist, wenn das zum Plasmabereich offene Ende der Gasleitung parallel zu einer Mittel-Achse des HF-Plasma-Strahlerkopfs in Strahlrichtung verläuft. So kann gesichert werden, dass der Plasmastrahl gerade aus dem Strahler heraustritt. Liegt das offene Ende der Gasleitung auf der Mittel-Achse des HF-Plasma-Strahlerkopfs tritt der Plasmastrahl mittig aus dem Strahler heraus.
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Besonders vorteilhaft ist, wenn die Betriebseinheit als Gaszuleitung ausgebildet ist. Hierfür ist die Betriebseinheit als Kanüle ausgestaltet. Dies hat den Vorteil, dass die Betriebseinheit durch den Gasfluss gekühlt wird. Durch die Kühlung kommt es länger nicht zur Überhitzung. Daher ist es bis zu größeren Leistungen möglich, Elektroden zu verwenden, die nicht aus Wolfram gefertigt sind. Dies erlaubt den Einsatz von Umgebungsluft als Prozessgas. Zudem kann der Gasverbrauch reduziert werden. Bei entsprechender Ausgestaltung des zum Plasmabereich offenen Endes durch entsprechende Querschnittsformgebung, das heißt entweder ellipsolid oder mit einer kleinen runden Austrittsöffnung sowie einem entsprechendem Verlauf, sodass das Plasma mittig und gerade aus dem Plasma-Strahlerkopf austritt, ist diese Ausgestaltung besonders vorteilhaft.
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Auch die Zuführungsleitung kann als Gaszuleitung ausgebildet sein. Auch hier ist eine Kühlung zu erreichen.
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Schließlich kann ein Teil des Impedanztransformators als Gaszuleitung ausgebildet sein. Hierdurch kann ein zusammenhängendes Kanülenrohr aus einem Teil des Impedanztransformators der Zuführungsleitung und der Betriebseinheit als alleinige Gaszuführung dienen. Am elektrischen Aufbau ändert sich nichts.
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Der Plasmastrahl wirkt als Antenne. Er kann daher mit einem Drahtgitter umgeben sein, um Störungen zu vermeiden. Das Drahtgitter ist vorteilhafterweise kürzer als der Strahl, damit der heißeste Punkt im Strahl genutzt werden kann. Von Vorteil ist, wenn die Maschen des Gitters kleiner als die elektrische Wellenlänge sind.
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Ein dritter Aspekt der Erfindung betrifft einen HF-Plasma-Strahler mit einem erfindungsgemäßen HF-Plasma-Strahlerkopf und einer HF-Betriebsquelle, wobei die HF-Betriebsquelle ein Signal im MHz- oder GHz-Bereich, insbesondere im Bereich zwischen 100 MHz und 10 GHz insbesondere zwischen 868 MHz und 2,45 GHz, erzeugt.
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Von Vorteil ist weiter, wenn die HF-Betriebsquelle ein Magnetron ist. Auch andere HF-Betriebsquellen, wie Transistorverstärker, Wanderfeldröhre, Twystron, Klystron, Kreuzfeldverstärker oder Gyrotron sind möglich. Das Magnetron hat jedoch den Vorteil, dass es standardmäßig und sehr preiswert im kW-Bereich zur Verfügung steht.
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Ein vierter Aspekt der Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betrieb eines HF-Plasma-Zündkopfes oder eines HF-Plasma-Strahlerkopfes oder eines HF-Plasma-Strahlers, wobei bei einer festen Frequenz über die Zündeinheit eine Hochspannung zur Zündung des Plasmas erzeugt wird und das HF-Signal über die parallel geschaltete Betriebseinheit zum Plasmabereich gekoppelt wird.
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Ein fünfter Aspekt der Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betrieb eines HF-Plasma-Strahlers, wobei als Prozessgas ein argonhaltiges Gas oder Umgebungsluft verwendet wird.
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Insgesamt können durch die verschiedenen vorteilhaften Ausgestaltungen viele Nachteile der bisherigen Verfahren beseitigt werden und neue Anwendungsgebiete erschlossen werden.
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Die insbesondere für Magnetronquellen bei 900 MHz und 2,45 GHz bestens geeignete Zündeinheit ermöglicht somit erstmals die Erzeugung von atmosphärischen Plasmen mittels Magnetrons, die im kW-Bereich verfügbar sind.
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Durch eine optimale Kanülenstrahlerkonstruktion werden die Elektroden gekühlt und der Plasmastrahl ähnlich wie beim Laser mit hoher Energieintensität auf einen kleinen Raum fokussiert. Der Plasma-Strahler kann zum Schneiden, Schweißen, Zünden, zur Oberflächenbehandlung oder Luftreinigung eingesetzt werden. In Verbindung mit dem Magnetron ist er potentiell preiswerter als die besten Alternativen, wie beispielsweise Laserschweißgeräte, und liegt im gleichen Kostenrahmen wie die etablierte und in der Masse eingesetzte Technik.
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Derzeit können durch die gebündelte Plasma-Emission Temperaturen über 3400 Grad Celsius bei nur 200 W Mikrowellenleistung erreicht werden – genug, um dünne Bleche zu zerschneiden.
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Der Plasmastrahl hat jedoch im Gegensatz zum Laserstrahl keine unendliche Länge. Es entfallen die aufwendigen Schutzvorkehrungen von Laseranlagen. Es gibt keinen Elektrodenabtrag, weshalb der Plasmastrahl nur reines ionisiertes Gas enthält. Durch eine optimale Kanülenrohrkonstruktion lassen sich bis zu recht großen Leistungen Elektroden verwenden, die nicht aus Wolfram gefertigt sind. Somit kann Sauerstoff im Prozess eingesetzt werden. Als Prozessgas ist Umgebungsluft möglich. Der Plasmastrahl benötigt wie ein Laserstrahl keine Gegenelektrode. Somit können auch Kunststoffe und sonstige Nichtleiter bestens bearbeitet werden. Durch die Mikrowellenanregung durchdringt der Energiefluss des Plasmastrahls auch Oxidschichten, was unter anderem die Bearbeitung von Aluminium vereinfacht. Der Gasverbrauch ist bei der Ausgestaltung, in der die Betriebseinheit als Gasleitung ausgebildet ist, deutlich geringer.
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Weitere typische Anwendungsbereiche sind die Reinigung von Oberflächen, etwa in industriellen Produktionsprozessen, aber auch Trenn- und Verbindungsschweißen, das Einbrennen von Lacken sowie die Desinfizierung und Sterilisation von medizinischen Instrumenten bis hin zu Wunden. Der Plasmalaser erreicht bereits ohne weitere Maßnahmen fast die Leistungsdichte des Lasers, ist dabei aber sicherer und günstiger.
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Ein solcher Plasma-Strahler könnte auch als Skalpellersatz in Operationen verwendet werden und böte eine echte Alternative zur Hochfrequenzchirurgie.
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Weitere Anwendungsbereiche sind überall dort denkbar, wo sehr hohe Arbeitstemperaturen und Emissionsfreiheit kombiniert werden sollen.
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Ein weiterer Vorteil des Plasma-Lasers ist seine geringe Größe. Der Plasma-Laser weist ungefähr die Größe eines Kugelschreibers auf, der Strahl ist etwa ein bis zwei Zentimeter lang und hat einen Durchmesser von einem Millimeter. Und auch das Steuergerät ist wesentlich kleiner als das des Lasers und damit transportabel und an jeder Steckdose zu betreiben. Dank einer eingebauten Kühlung erhitzt der Plasma-Laser sich kaum, er ist praktisch verschleißfrei und äußerst langlebig – allesamt Eigenschaften, die ihn von konventionellen Lasern oder Plasmastrahlern unterscheiden.
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Dieser Strahler unterscheidet sich von anderen Konstruktionen (zum Beispiel einer HF-Zündkerze nach
DE 10 2005 005 792.9 oder einer HF-Lampe nach
DE 10 2009 022 755.5 ) durch eine große Baulänge und eine verhältnismäßig komplexen Innenbaugruppenkonstruktion und ist deshalb für Massenprodukte wie HF-Zündkerze und HF-Lampe nicht besonders interessant.
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Nachfolgend wird die Erfindung anhand dreier Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.
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Hierbei zeigen
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1 ein Schnittbild eines HF-Plasma-Zündkopfes mit einem Zwei-Wege-Impedanztransformator in koaxialer Leitertechnik mit Gaszufuhr,
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2 ein Schnittbild eines HF-Plasma-Zündkopfes mit einem Zwei-Wege-Impedanztransformator in koaxialer Leitertechnik mit Gaskanülenelektrode und
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3 ein Schnittbild eines HF-Plasma-Strahlers mit einem Zwei-Wege-Impedanztransformator in koaxialer Leitertechnik mit Gaskanülenelektrode und Hybridkonstruktion.
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Der HF-Plasma-Strahlerkopf in 1 verdeutlicht das Grundprinzip der Erfindung. Ein kreisrunder metallischer Innenleiter 10 der koaxialen Zuleitung weist den Wellenwiderstand Zzu auf. Dieser ist von einem rohrförmigen metallischen Außenleiter 16 umschlossen. Eine Zündeinheit setzt sich aus Innenleiterbauelementen, nämlich einer Zuführungsleitung 11, einem ersten Teil eines Impedanztransformators 12 und einem zweiten Teil des Impedanztransformators 13, zusammen. Eine Betriebseinheit besteht aus einer Innenleiterbaugruppe 15.
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Der Innenleiter 15 weist eine elektrische Länge von 180° auf, das heißt, solange in einem Plasmabereich 14 noch kein Plasma gezündet wurde, wird der elektrische Abschluss an der Stelle 14 in Form eines Leerlaufs über die Lambda/2-Leitung 15 zum Teilerpunkt 19 in einen Leerlauf transformiert.
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Somit ist vor der Zündung der obere Teil 15 aus elektrischer Sicht als nicht vorhanden zu betrachten. Im unteren Bereich wird über die Zuführungsleitung 11, die im Bereich von knapp 90° elektrischer Länge liegt, ein Impedanztransformator, bestehend aus dem ersten Teil 12 und dem zweiten Teil 13, angekoppelt. Für diesen zweistufigen Impedanztransformator lasst sich als Ersatzschaltung ein Spartrafo, bestehend aus dem Teil 13 und einem Teil von 12 und einem sogenannten Gamma-Transformator, bestehend aus dem zweiten Teil von 12 und der Endkapazität zwischen 14 und der Gehäusemasse 16, verwenden.
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Fügt man zwischen der Zuführungsleitung 11 und dem Teil 13 einen Spalt entsprechend einem Serienkondensator ein, so erhält man am Eingang aus dem Kondensator und einem Teil von 13 eine weitere Transformationsstufe in Form des zweiten Gamma-Transformators.
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Wenn über die Zündeinheit in 14 ein Plasma entsteht, dann wird die Plasmaimpedanz über die Lambda/2-Leitung 15 zum Teilerpunkt 19 transformiert. Nun kann über diese Leitung 15 Energie in das Plasma eingekoppelt werden. Diese Energie vergrößert das Plasma, was dadurch elektrisch niederohmiger wird. Letztlich muss der Wellenwiderstand der Zuleitung 10 der Plasmaimpedanz im Punkt 14, der sogenannten Plasmafußpunktimpedanz, bei voller Leistungseinkopplung entsprechen, um Leistungsanpassung zu gewährleisten.
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Die Zündeinheit stört im Betriebsfall nicht mehr, da die Leitungslänge 11 so optimiert ist, dass die elektrische Länge zwischen dem Teilerpunkt 19 und dem Massepunkt der Leitung 13 90° bzw. Lambda/4 entspricht. Das heißt, dass der Kurzschluss des Massepunkts über diese beiden Leitersegmente zu einem Leerlauf im Teilerpunkt 19 transformiert wird.
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Zur Realisierung eines Strahlers gibt es eine Gaszuleitung 17. Im Falle einer reinen Zündung kann diese Zuleitung entfallen. In diesem Fall kann der gesamte Innenraum oder nur ein Teil des Innenraums mittels eines Dielektriukums gegebenenfalls druckdicht gefüllt sein.
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Auch der HF-Plasma-Strahlerkopf in 2 funktioniert dementsprechend. Hierbei haben die Bauelemente 20 bis 29 die gleiche Funktion wie die Bauelemente 10 bis 19 in der 1.
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Die zuvor stabförmigen Innenbauelemente 11, 13 und 15 sind jedoch durch rohrförmige Bauelemente 21, 23 und 25 ersetzt worden. Dies ändert elektrisch nichts. Das Rohr 23 ist jedoch verlängert worden und ersetzt als Kanülenrohr die Gaszuführung 17, die jedoch weiterhin optional enthalten sein kann (nicht abgebildet).
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Die Geometrie der Betriebseinheit, bestehend aus der Innenleiterbaustufe 25, ist hierbei an die angestrebte Funktion anzupassen: soll ein schmaler Plasmastrahl, beispielsweise für eine Schweiß- oder Schneideanwendung erzeugt werden so ist eine kleine runde Öffnung vorzuziehen, wohingegen in einem anderen Fall, in dem ein möglichst breiter Strahl von Vorteil ist, beispielsweise für eine Oberflächenbehandlungsanwendung eine breite ellipsenförmige Ausgestaltung vorzugswürdig ist.
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Sollen extrem große und energiereiche Plasmen generiert werden, so kann ein in 3 dargstellter HF-Plasma-Strahlerkopf verwendet werden. Das Kanülenrohr 23 stellt mittels einer kapazitiven Kopplung 30 für das HF-Signal einen Kurzschluss dar und ist durch ein Gehäuse 26 geführt. Da auch der Innenleiter 20 über einen Serienkondensator/Koppelstift zum restlichen HF-Generator entkoppelt ist, ist die gesamte Innenbaugruppe nach außen hin isoliert. Somit kann man über die Zuleitung 31 einen elektrischen Gleich- oder Wechselstrom einspeisen, der von einem niederfrequenten Generator 32 bereitgestellt wird. Somit wird in dem Plasma zwischen der Betriebselektrode an einem Punkt 24 und einem elektrisch leitfähigen Werkstück 33 eine deutlich größere Leistung eingespeist. Ein entsprechender Aufbau ist auch für den Grundaufbau in 1 möglich. Hier erfolgt ein Anschluss an das stabförmige Innenbauelement 13.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- DE 102005005792 [0043]
- DE 102009022755 [0043]
