DE102012001721A1 - Method for rinsing of workpiece e.g. carrier of wafer used in e.g. solar cell, involves providing rinsing spacers in nozzle to pump out rinsing fluid from fluid tank and to drip off the rinsing fluid to workpiece - Google Patents
Method for rinsing of workpiece e.g. carrier of wafer used in e.g. solar cell, involves providing rinsing spacers in nozzle to pump out rinsing fluid from fluid tank and to drip off the rinsing fluid to workpiece Download PDFInfo
- Publication number
- DE102012001721A1 DE102012001721A1 DE201210001721 DE102012001721A DE102012001721A1 DE 102012001721 A1 DE102012001721 A1 DE 102012001721A1 DE 201210001721 DE201210001721 DE 201210001721 DE 102012001721 A DE102012001721 A DE 102012001721A DE 102012001721 A1 DE102012001721 A1 DE 102012001721A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- rinsing
- flushing
- fluid
- workpiece
- flushing fluid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
Abstract
Description
Einleitungintroduction
Die Erfindung betrifft das Gebiet nasschemischer Behandlungsanlagen. Insbesondere betrifft die Erfindung eine Spüleinrichtung zum Abspülen von in solchen Anlagen herabtropfender Behandlungsflüssigkeit, und ein Verfahren dazu.The invention relates to the field of wet chemical treatment plants. In particular, the invention relates to a rinsing device for rinsing treatment solution dripping down in such systems, and to a method for doing so.
Stand der Technik und NachteileState of the art and disadvantages
Halbleiterprodukte wie beispielsweise Solarzellen oder elektronische Bauteile werden typischerweise auf Substraten aufgebaut. Diese Substrate, die auch Wafer genannt werden, bestehen häufig aus Silizium. Sie können aber auch aus Kunststoffen, harzhaltigen Materialien, Keramiken, Gläsern oder Metallen bestehen oder diese Materialien umfassen.Semiconductor products such as solar cells or electronic components are typically built on substrates. These substrates, which are also called wafers, often consist of silicon. But they can also consist of plastics, resinous materials, ceramics, glasses or metals or include these materials.
Die Substrate werden, insbesondere wenn es sich um Siliziumsubstrate handelt, aus Stangen oder Blöcken gesägt. Nach dem Sägen werden sie vereinzelt und in Tragebehältnisse, so genannte „Carrier”, verbracht. Diese Carrier dienen dem Transport und der sicheren Handhabung der oft bruchgefährdeten Substrate. Die Substrate werden entweder auf ihrem äußersten Randbereich liegend, oder auf ihren Kanten stehend gelagert, wobei die Oberflächen der Substrate parallel zueinander orientiert sind. Dabei wird durch einen Spalt zwischen den Substraten sichergestellt, dass die Oberflächen der Substrate zugänglich bleiben. So kann eine Behandlung, wie beispielsweise eine nasschemische Behandlung (Modifizieren, Beschichten, Abtragen, Reinigen) der Substratoberflächen erfolgen.The substrates, especially if they are silicon substrates, are sawn from rods or blocks. After sawing, they are isolated and placed in carrying cases, so-called "carriers". These carriers serve the transport and the safe handling of the often fragile substrates. The substrates are either lying on their outermost edge region, or stored standing on their edges, wherein the surfaces of the substrates are oriented parallel to each other. It is ensured by a gap between the substrates that the surfaces of the substrates remain accessible. Thus, a treatment, such as a wet chemical treatment (modification, coating, ablation, cleaning) of the substrate surfaces can take place.
Die Fertigung der eigentlichen Produkte erfolgt entweder im Nutzen, d. h., die Bauteile werden in größerer Anzahl auf einem Substrat aufgebaut, bevor dieses in eine Vielzahl einzelner „Chips” zerteilt wird, oder jedes Substrat trägt jeweils ein einzelnes Produkt (z. B. Solarzellen). In beiden Fällen werden zumeist eine größere Anzahl nasschemischer Behandlungsschritte durchgeführt, bevor ein Substrat schließlich fertig behandelt und ggf. zerteilt wird. Für die Behandlung umfassen die nasschemischen Behandlungsanlagen typischerweise eine entsprechende Anzahl von nasschemischen Behandlungsstationen mit Behandlungsbecken. Diese Stationen sind mittels geeigneter Transportvorrichtungen (Umsetzer) für Carrier miteinander verknüpft.The production of the actual products takes place either in use, d. That is, the devices are assembled in larger numbers on a substrate before it is divided into a plurality of individual "chips," or each substrate carries a single product (eg, solar cells). In both cases, a larger number of wet-chemical treatment steps are usually carried out before a substrate is finally finished and, if necessary, cut up. For the treatment, the wet chemical treatment plants typically comprise a corresponding number of wet chemical treatment stations with treatment tanks. These stations are linked together by means of suitable carriers (converters) for carriers.
Problematisch bei nasschemischen Behandlungen ist die Tatsache, dass sich während der Prozessierung häufig gesundheitsschädliche Dämpfe oder Gase entwickeln. Diese sollen, auch aus ökonomischen Gründen, in den die Behandlungsflüssigkeiten) haltenden Behandlungsbecken zurückgehalten oder zumindest an einem Übertritt in die Umgebung gehindert werden. Neben Absaugungen werden daher auch Abdeckungen (z. B. Deckel) verwendet, welche sich nach einem Einbringen des Carriers in das Behandlungsbecken und dem damit einhergehenden Benetzen der Substrate über dem Becken schließen. Nach erfolgter Behandlung öffnet sich die Abdeckung, und der Carrier wird, beispielsweise mittels einer passenden Transportvorrichtung, und besonders bevorzugt automatisiert, entnommen. Schließlich wird er zur ggf. nächsten Behandlungsstation innerhalb der Behandlungsanlage, oder auch von einer Behandlungsanlage zur nächsten, verbracht.The problem with wet chemical treatments is the fact that harmful vapors or gases often develop during processing. These should, also for economic reasons, in the treatment liquids holding) holding treatment pool or at least prevented from passing into the environment. In addition to suction, covers (eg covers) are therefore used, which close after an introduction of the carrier into the treatment basin and the associated wetting of the substrates above the basin. After the treatment, the cover opens, and the carrier is removed, for example by means of a suitable transport device, and more preferably automatically. Finally, he is taken to the possibly next treatment station within the treatment plant, or from one treatment plant to the next.
Da die Carrier beim Verlassen des Beckens tropfnass sind, verlieren sie eine nicht unerhebliche Menge an Behandlungsflüssigkeit, während sie aus dem Becken gehoben und forttransportiert werden. Dabei lässt es sich praktisch nicht vermeiden, dass insbesondere die Abdeckung des Beckens mit herabtropfender Behandlungsflüssigkeit in Kontakt kommt, sofern sie nicht vollständig aus der Transportbahn des Carriers gebracht wird, was jedoch konstruktiv oft nicht ohne größeren Aufwand möglich ist. Gleiches gilt auch für die Umgebung solcher Deckel, wie beispielsweise für Abdeckplatten, die lediglich zu Wartungszwecken geöffnet werden, ansonsten jedoch „immobil” sind.Since the carriers are dripping wet when they leave the basin, they lose a considerable amount of treatment liquid while they are lifted out of the basin and transported away. In this case, it is practically unavoidable that, in particular, the covering of the basin comes into contact with dripping treatment liquid, provided that it is not brought completely out of the transport path of the carrier, which, however, is often not possible without great effort. The same applies to the environment of such covers, such as for cover plates, which are opened only for maintenance purposes, but otherwise are "immobile".
Eine solche Benetzung ist jedoch unerwünscht, da die Kontamination zugänglicher Flächen mit Behandlungsflüssigkeit ein Gesundheitsrisiko darstellt, denn sowohl eine Berührung der Flüssigkeit, als auch ein Einatmen der Dämpfe kann für Bedienpersonal gefährlich sein. Zudem schaden die Flüssigkeiten den benetzten Bauteilen, da sie ihre Oberflächen angreifen und ggf. auch bewegte Teile wie Gelenke oder dergleichen erreichen, die dadurch Schaden nehmen können.However, such wetting is undesirable since the contamination of accessible surfaces with treating liquid poses a health risk, since both contact of the liquid and inhalation of the vapors can be hazardous to operating personnel. In addition, the liquids damage the wetted components, as they attack their surfaces and possibly also reach moving parts such as joints or the like, which can thereby be damaged.
Zur Lösung dieses Problems wurde versucht, ein ausreichendes Abtropfen der Carrier nach der Entnahme und vor dem Abtransport abzuwarten. Es stellte sich jedoch heraus, dass die Wartezeit bis zum ausreichenden Abtropfen eines Carriers lang ist und zu unwirtschaftlichen Durchlaufzeiten führt. Zudem wurde festgestellt, dass sich bei der schließlich einsetzenden Transportbewegung trotzdem noch verbliebene Rest-Tropfen von Carrier und Substraten lösten. Zudem ist ein Antrocknen der Behandlungsflüssigkeit auf den Substraten unerwünscht, da dies zu Beeinträchtigungen weiterer Behandlungsschritte und somit des Herstellungsergebnisses führen kann. Die Verwendung widerstandsfähigerer Materialien für die Abdeckungen und Gelenke ist teuer und löst das Problem der Verletzungsgefahr des Personals nicht.To solve this problem, an attempt was made to wait for sufficient dripping of the carrier after the removal and before the removal. However, it has turned out that the waiting time until the carrier drips sufficiently is long and leads to uneconomical throughput times. In addition, it was found that still remaining residual droplets of carrier and substrates were released during the transport movement that finally started. In addition, a drying of the treatment liquid on the substrates is undesirable, since this can lead to impairment of further treatment steps and thus the production result. The use of more resilient materials for the covers and hinges is expensive and does not solve the problem of personal injury.
Um die Problematik herabtropfender Behandlungsflüssigkeit zu entschärfen, sehen bekannte Bedienanweisungen für derartige Anlagen daher vor, dass die Abdeckungen und ggf. weitere, mit der Behandlungsflüssigkeit kontaminierte Flächen in regelmäßigen Abständen, bevorzugt nach jeder Entnahme eines tropfenden Carriers, mit DI-Wasser oder einer anderen, neutralen Flüssigkeit abgespült werden. In der Praxis hat sich jedoch gezeigt, dass solche Anweisungen häufig nur unzureichend befolgt werden. Zudem benötigt ein solcher Reinigungsschritt Zeit, und der Wasserverbrauch ist aufgrund des manuell durchgeführten „Gießkannenprinzips” hoch. Eine weiterer Nachteil ergibt sich durch Reinigungsflüssigkeit, die beim manuellen Spülen häufig auch in das Becken läuft, da dies die Zusammensetzung der Behandlungsflüssigkeit verändert.In order to defuse the problem of dripping treatment liquid, known operating instructions for such systems therefore provide in that the covers and, if appropriate, further surfaces contaminated with the treatment liquid are rinsed off at regular intervals, preferably after each removal of a dropping carrier, with DI water or another, neutral liquid. In practice, however, it has been shown that such instructions are often followed inadequately. In addition, such a cleaning step requires time, and the water consumption is high due to the manual "watering can" principle. A further disadvantage results from cleaning liquid, which frequently also runs into the basin during manual rinsing, since this changes the composition of the treatment liquid.
Aufgabe der Erfindung und LösungObject of the invention and solution
Die Aufgabe der Erfindung besteht demnach in der Vermeidung der beschriebenen Nachteile aufgrund herabtropfender Behandlungsflüssigkeit. Demnach soll die Erfindung eine Einrichtung bereitstellen, welche eine Beschädigung durch Benetzung der Abdeckungen nasschemischer Behandlungsanlagen und anderer Beckenbereiche, die der abtropfenden Behandlungsflüssigkeit potenziell ausgesetzt sind, zuverlässig verhindert, sowie ein diesen Schutz bereitstellendes Verfahren. Die bestimmungsgemäße Benutzung der Einrichtung und die Durchführung des Verfahrens sollen keine oder nur wenig zusätzliche Zeit benötigen, wobei ferner möglichst ressourcenschonend vorgegangen werden soll.The object of the invention is therefore to avoid the disadvantages described by dripping treatment liquid. Accordingly, the invention is intended to provide a device which reliably prevents damage by wetting the covers of wet chemical treatment equipment and other pelvic areas potentially exposed to the dripping treatment liquid, as well as a method providing this protection. The intended use of the device and the implementation of the method should require little or no additional time, which should also be as resource-friendly as possible.
Die Aufgabe wird durch eine Verfahren nach Anspruch 1 sowie eine Einrichtung nach Anspruch 8 gelöst. Weitere vorteilhafte Ausführungsformen sind den Unteransprüchen, der Beschreibung sowie den Figuren zu entnehmen.The object is achieved by a method according to
Beschreibungdescription
Zunächst wird das erfindungsgemäße Verfahren detailliert beschrieben, bevor die erfindungsgemäße Einrichtung näher erläutert wird. Zur Vermeidung von Wiederholungen wird dabei auf eine erneute Erläuterung bereits zuvor dargelegter Sachverhalte verzichtet.First, the method according to the invention will be described in detail before the device according to the invention is explained in more detail. In order to avoid repetition, a further explanation of previously stated facts is dispensed with.
Wenngleich sich die in der Einleitung verwendeten Begriffe wie Substrat oder Carrier auf eine bevorzugte Verwendung der Einrichtung im Gebiet der Behandlung von Halbleitersubstraten beziehen, ist die Erfindung auch in anderen Gebieten einsetzbar. Daher wird im Folgenden allgemeiner von einem nasschemisch zu behandelnden „Werkstück” gesprochen. Dabei erstreckt sich die „nasschemische Behandlung” definitionsgemäß auch auf solche Behandlungsschritte, bei denen keine Veränderung des Werkstücks oder dessen Oberfläche erzielt werden soll, sondern beispielsweise lediglich eine Manipulation desselben erfolgt (z. B. Transport unter Kontakt mit einer das Werkstück benetzenden Flüssigkeit).Although the terms such as substrate or carrier used in the introduction refer to a preferred use of the device in the field of semiconductor substrate processing, the invention can be used in other fields as well. Therefore, the following is more generally spoken of a "workpiece" to be treated wet-chemically. By definition, the "wet-chemical treatment" also extends to those treatment steps in which no change in the workpiece or its surface is to be achieved but, for example, only a manipulation thereof takes place (eg transport under contact with a liquid wetting the workpiece).
Das erfindungsgemäße Verfahren dient dem Abspülen einer von einem Werkstück im Rahmen seiner nasschemischen Behandlung abtropfenden Behandlungsflüssigkeit von Beckenbereichen, die der abtropfenden Behandlungsflüssigkeit „potenziell” ausgesetzt sind (nachfolgend kurz mit „Beckenbereichen” bezeichnet). „Potenziell” bedeutet in diesem Zusammenhang, dass die Beckenbereiche nicht zwingend mit herabtropfender Behandlungsflüssigkeit benetzt sein müssen, sondern dass eine Benetzung grundsätzlich möglich und im Rahmen der vorstehend beschriebenen Behandlung und dem Abtransport zu erwarten ist.The method according to the invention serves to rinse off a treatment liquid dripping from a workpiece as part of its wet-chemical treatment of pelvic areas which are "potentially" exposed to the dripping treatment liquid (hereinafter referred to as "pelvic areas" for short). "Potential" in this context means that the pelvic areas do not necessarily have to be wetted with dripping treatment liquid, but that wetting is fundamentally possible and to be expected in the context of the above-described treatment and removal.
Die Behandlungsflüssigkeit tropft beim Herausheben des Werkstücks aus einem mit einer Behandlungsflüssigkeit gefüllten und mit einem Deckel verschließbaren Becken vom Werkstück ab. Als Beckenbereiche kommen daher sowohl ein das Becken abschließender Deckel als auch ihn umgebende Bereiche in Betracht.The treatment liquid drips when lifting the workpiece from a filled with a treatment liquid and closable with a lid basin from the workpiece. As pelvic areas, therefore, both a cover closing off the pelvis and areas surrounding it are possible.
Das Werkstück ist beispielsweise ein mit Substraten beladener Carrier, oder eine mit einem solchen substratbeladenen Carrier bestückte Transportvorrichtung. Die Behandlungsflüssigkeit ist beispielsweise eine Ätz- oder Reinigungslösung, oder sie dient dem bloßen Transport des Werkstücks. Der Deckel kann definitionsgemäß auch Bereiche umfassen, welche die von ihm verschließbare Öffnung umgeben, wie beispielsweise zu Wartungszwecken abnehmbare Abdeckplatten, aber auch der vom übrigen Transportweg überstrichene Bereich der Anlage.The workpiece is, for example, a carrier loaded with substrates, or a transport device equipped with such a substrate-loaded carrier. The treatment liquid is, for example, an etching or cleaning solution, or it serves for the mere transport of the workpiece. By definition, the lid may also comprise areas which surround the opening which can be closed by it, such as cover plates which can be removed for maintenance purposes, but also the area of the system swept over by the remainder of the transport path.
Erfindungsgemäß erfolgt das Abspülen unter Verwendung einer automatisierten Spüleinrichtung, mit welcher auf die oben genannten Beckenbereiche durch in Düsen mündende Spülleitungen ein (erstes) Spülfluid ausgegeben wird.According to the invention, the rinsing takes place using an automated rinsing device, with which a (first) rinsing fluid is dispensed onto the above-mentioned pelvic areas through flushing lines opening into the nozzles.
Das erste Spülfluid kann definitionsgemäß ein Gas, eine Flüssigkeit, oder ein Gemisch aus Beidem sein. Das Spülen erfolgt dabei im noch geöffneten, teil- oder wieder vollständig geschlossenen Zustand des Deckels. „Automatisiert” bedeutet in diesem Zusammenhang wahlweise orts-, mengen- oder zeitgesteuert, und besonders bevorzugt eine Kombination dieser Alternativen.By definition, the first flushing fluid may be a gas, a liquid, or a mixture of both. The rinsing takes place in the still open, partially or fully closed state of the lid. "Automated" means in this context optionally location, quantity or time-controlled, and particularly preferably a combination of these alternatives.
Das erfindungsgemäße Verfahren verhindert zuverlässig Beschädigungen und Beeinträchtigungen, die durch von einem Werkstück herabtropfender Behandlungsflüssigkeit ausgehen. Aufgrund des automatisierten Abspülens ist der Erfolg des Verfahrens nicht mehr von der Zuverlässigkeit oder Erfahrung des Bedienpersonals abhängig. Entsprechend optimiert, spart das erfindungsgemäße Verfahren Zeit, da es schneller als ein manueller Spülvorgang abläuft, und Kosten, da anstelle einer manuellen „Gießkannenmethode” eine ressourcenschonend-gezielte Abgabe des Spülfluids möglich ist.The method according to the invention reliably prevents damage and impairments emanating from treatment fluid dripping from a workpiece. Due to automated rinsing, the success of the process is no longer dependent on the reliability or experience of the operator. Optimized accordingly, the method according to the invention saves time, because it runs faster than a manual rinsing process, and costs, because instead of a manual "watering can method" a resource-friendly targeted dispensing of flushing fluid is possible.
Nach einer bevorzugten Ausführungsform werden nicht nur die oben erwähnten Beckenbereiche gespült, sondern auch auf das aus dem Becken herausgehobene und oberhalb des Beckens positionierte Werkstück, und/oder auf mit Behandlungsflüssigkeit benetzte Teile einer Transportvorrichtung desselben, wird ein (zweites) Spülfluid derart ausgegeben, das es, ggf. beladen mit abgespülter Behandlungsflüssigkeit, in das Becken abtropft. Dabei ist klar, dass dieser Schritt erst nach dem Herausheben des Werkstücks erfolgen kann.According to a preferred embodiment, not only the above-mentioned pelvic regions are rinsed, but also the workpiece lifted out of the pelvis and positioned above the pelvis, and / or parts of a transporting device wetted with treatment liquid, a (second) rinsing fluid is dispensed in such a way it, possibly laden with rinsed treatment liquid, dripped into the basin. It is clear that this step can be done only after the lifting of the workpiece.
Mit anderen Worten, Werkstück und besonders bevorzugt auch der benetzte Teil einer ggf. vorhandenen, das Werkstück transportierenden Vorrichtung, werden von Behandlungsflüssigkeit gereinigt, also abgespült. Auf diese Weise wird die schädliche Wirkung herabtropfender Behandlungsflüssigkeit verringert, da nach dem vorstehend beschriebenen Schritt nur noch eine geringe oder – im besten Fall – überhaupt keine Behandlungsflüssigkeit mehr an Werkstück und ggf. Transportvorrichtung haftet, so dass auch nur noch wenig oder überhaupt keine Behandlungsflüssigkeit herabtropfen kann.In other words, workpiece, and more preferably also the wetted part of a possibly existing, the workpiece transporting device are cleaned of treatment liquid, so rinsed. In this way, the detrimental effect of dripping treatment liquid is reduced because after the step described above only a small or - in the best case - no more treatment liquid adheres to the workpiece and possibly transport device, so that even little or no treatment liquid dripping can.
Es ist daher klar, dass der eingangs beschriebene Schritt des Spülens der Beckenbereiche vorteilhafterweise mit dem Schritt des Spülens des Werkstücks kombiniert werden kann. Es ist auch klar, dass in Sonderfällen auch alleine der zweitgenannte Schritt den gewünschten Effekt der Verhinderung des Herabtropfens auf die Beckenbereiche erzielen kann. Zwar wird Behandlungsflüssigkeit herabtropfen; sie tut dies jedoch oberhalb des Beckens, und somit an unproblematischer Stelle. Tatsächlich erlaubt dieser Schritt das Einsparen der Ressource „Behandlungsflüssigkeit”, da dieselbe nach dem Aufsammeln durch das Becken sofort wieder verwendet werden kann.It is therefore clear that the step of rinsing the pelvic regions described at the outset can advantageously be combined with the step of rinsing the workpiece. It is also clear that in special cases alone, the second-mentioned step can achieve the desired effect of preventing the dripping on the pelvic areas. Although treatment liquid will drip off; However, it does so above the pelvis, and thus at an unproblematic point. In fact, this step allows saving the resource "treatment liquid" as it can be used immediately after collection by the pool.
Ferner ist klar, dass zunächst die Ausgabe des zweiten Spülfluids auf das Werkstück, und dann des ersten Spülfluids auf die Beckenbereiche erfolgt. Ebenfalls ist klar, dass zum Herausnehmen des Werkstücks aus dem Becken der Deckel geöffnet werden muss. Optional kann der Deckel zwischen der Ausgabe des zweiten und des ersten Spülfluids wieder geschlossen werden, sofern er nicht auch in der geöffneten Position (oder einer speziellen Reinigungsposition) abgespült werden kann oder soll.Furthermore, it is clear that first the output of the second flushing fluid to the workpiece, and then the first flushing fluid is carried out on the pool areas. It is also clear that to remove the workpiece from the basin, the lid must be opened. Optionally, the lid can be closed again between the output of the second and the first flushing fluid, unless it can or should be rinsed off in the open position (or a special cleaning position).
Bevorzugt ist das erste Spülfluid Wasser wie insbesondere DI-Wasser, und das ggf. vorhandene zweite Spülfluid Gas wie insbesondere Reinluft (CDA, Clean Dry Air). Alternativ können auch beide Spülfluide ein Gas wie z. B. Luft sein, wobei dann durch eine hydrophobe Oberfläche der Beckenbereiche sichergestellt werden sollte, dass dort vorhandene Behandlungsflüssigkeits-Tropfen mit einem Gasstrom abblasbar sind. Für den Fall, dass beide Spülfluide eine Flüssigkeit sind, darf entweder herabtropfendes zweites Spülfluid die Behandlungsflüssigkeit im Becken nicht schädigen, oder der Deckel muss vor der Ausgabe des zweiten Spülfluids geschlossen werden. Aufgrund des dann nachfolgenden Spülens des Deckels und der Beckenbereiche wird problematische Behandlungsflüssigkeit schließlich auch von dort entfernt.Preferably, the first flushing fluid is water such as in particular DI water, and the optionally present second flushing fluid gas such as in particular clean air (CDA, Clean Dry Air). Alternatively, both rinsing fluids can be a gas such. B. air, in which case should be ensured by a hydrophobic surface of the pelvic areas that there existing treatment liquid drops are blown with a gas stream. In the event that both rinsing fluids are a liquid, either dripping second rinse fluid must not damage the treatment liquid in the basin, or the lid must be closed before the second rinse fluid is dispensed. Due to the then subsequent rinsing of the lid and the pelvic areas, problematic treatment liquid is finally removed from there as well.
Ebenfalls bevorzugt ist, dass die Ausgabe des ersten und/oder ggf. zweiten Spülfluids unter Druck erfolgt. „Druck” meint in diesem Zusammenhang einen gegenüber der Umgebung wirkenden (Über-)Druck von 0,5 bar oder mehr. Es ist klar, dass eine Ausgabe von Spülflüssigkeit ganz ohne Druck, beispielsweise aufgrund schwerkraftvermittelten Auslaufens, wenig praktikabel ist. Die Ausgabe unter Druck verbessert die Spülwirkung, und es können größere, auch aufwärts gerichtete, Entfernungen zwischen den Spülfluid ausgebenden Komponenten (Düsen) der Spüleinrichtung und den Beckenbereichen bzw. dem Werkstück überbrückt werden.Likewise preferred is that the output of the first and / or optionally second rinsing fluid takes place under pressure. In this context, "pressure" means a (over) pressure of 0.5 bar or more acting against the environment. It is clear that dispensing of rinsing fluid without pressure, for example, due to gravity-mediated leakage, is not practical. The pressurized delivery improves the scavenging action, and larger, also upwards, distances between the purge fluid dispensing components (nozzles) of the purge device and the pelvic regions or workpiece can be bridged.
Nach einer weiteren bevorzugten Ausführungsform wird das erste Spülfluid aus der Spüleinrichtung orientiert auf die Beckenbereiche ausgegeben, so dass es nicht in das Becken gelangt. Im Gegensatz zu einer Ausgabe nach dem „Gießkannenprinzip” erfolgt demnach ein gerichtetes Ausgeben des ersten Spülfluids auf die Beckenbereiche, was nicht nur Ressourcen spart, sondern auch den Effekt hat, dass das (bevorzugt flüssige) Spülfluid nicht (oder zumindest weitgehend nicht) in das Becken mit Behandlungsflüssigkeit spritzt.According to a further preferred embodiment, the first flushing fluid is discharged from the flushing device oriented to the pelvic areas, so that it does not enter the pool. In contrast to an output according to the "watering can principle" is thus a directed output of the first flushing fluid to the pelvic areas, which not only saves resources, but also has the effect that the (preferably liquid) flushing fluid not (or at least largely) in the Cymbal with treatment liquid injected.
Nach einer weiteren und ebenfalls bevorzugten Ausführungsform wird das zweite Spülfluid aus der Spüleinrichtung orientiert auf das Werkstück und die ggf. weiteren, das Werkstück haltenden, benetzten Komponenten ausgegeben, so dass die dort anhaftende Behandlungsflüssigkeit zurück in das Becken, jedoch nicht auf die o. g. Beckenbereiche gelangt. Auch hier ist demnach eine gerichtete Ausgabe des zweiten Spülfluids vorteilhaft gegenüber einer (im wesentlichen) ungerichteten Ausgabe.According to a further and also preferred embodiment, the second rinsing fluid from the rinsing device oriented to the workpiece and possibly further, the workpiece holding, wetted components output, so that the adhering there treatment liquid back into the basin, but not the o. Reaches pelvic areas. Again, therefore, a directed output of the second flushing fluid is advantageous over a (substantially) undirected output.
Für den Fall, dass das erste und das zweite Spülfluid aus ein- und denselben fluidführenden Komponenten der Spüleinrichtung ausgegeben werden, kann es zu Problemen führen, wenn das erste Spülfluid eine Flüssigkeit und das zweite Spülfluid ein Gas ist, und die Spüleinrichtung wiederholt benutzt wird. Dann nämlich kann beim Ausgeben des Gases zunächst noch in der Spüleinrichtung verbliebenes erstes, flüssiges Spülfluid nachströmen und zu einer unerwünschten Befeuchtung des Werkstücks führen. Daher ist nach einer anderen Ausführungsform bevorzugt, dass vor dem Ausgeben des zweiten Spülfluids das erste Spülfluid aus der Spüleinrichtung mittels eines sie durchströmenden Reinigungsgases verdrängt wird, ohne dass dabei eine Benetzung des bereits aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehobenen Werkstücks mit erstem Spülfluid erfolgt.In the event that the first and second flushing fluids are dispensed from one and the same fluid-carrying components of the flushing device, problems may arise if the first flushing fluid is a liquid and the second flushing fluid is a gas and the flushing device is used repeatedly. In that case, when the gas is initially dispensed, first liquid washing fluid remaining in the rinsing device can subsequently flow in and cause unwanted moistening of the workpiece to lead. Therefore, according to another embodiment, it is preferred that prior to the dispensing of the second flushing fluid, the first flushing fluid is displaced from the flushing device by means of a cleaning gas flowing through it, without any wetting of the workpiece already lifted out of the treatment fluid with the first flushing fluid.
Das Reinigungsgas ist in diesem Fall besonders bevorzugt das zweite (gasförmige) Spülfluid. Mit andere Worten, nach dem (typischerweise im Rahmen des vorhergehenden Reinigungsdurchgangs erfolgten) Abspülen der Beckenbereiche mit Flüssigkeit (erstes Spülfluid) wird diese durch Ausgabe des Gases (zweites Spülfluid) aus den fluidführenden Komponenten der Spüleinrichtung ausgetrieben, bevor die Spüleinrichtung (erneut, im Rahmen des nun folgenden, neu beginnenden Reinigungsdurchgangs) zum (gasbasierten) Abspülen des Werkstücks verwendet wird.The cleaning gas in this case is particularly preferably the second (gaseous) flushing fluid. In other words, after the rinsing of the pelvic areas with liquid (first rinsing fluid) (typically in the course of the previous cleaning cycle), the latter is expelled by discharging the gas (second rinsing fluid) from the fluid-carrying components of the rinsing device before the rinsing device (again, in the frame the now following, new cleaning passage) for (gas-based) rinsing of the workpiece is used.
Nach einer weiteren Ausführungsform verfährt und/oder rotiert die Spüleinrichtung zur Aufnahme (Initiierung) und/oder während des Spülvorgangs, ist also beweglich ausgestaltet. Selbstverständlich ist es dabei ausreichend, wenn lediglich die fluidausgebenden Komponenten wie insbesondere die in Düsen mündenden Spülleitungen verfahren und/oder rotieren. Insbesondere verfährt die Spüleinrichtung (beispielsweise) vertikal aus einer optionalen Ruheposition in eine erste und ggf. zweite Spülposition. Die beiden Spülpositionen sind so ausgewählt, dass ein optimales Spülen der Beckenbereiche und ggf. des Werkstücks möglich ist. Die Rotation erfolgt bevorzugt entlang der Längsachse von in Düsen mündenden Spülleitungen, die horizontal verlaufen und seitlich, und bevorzugt beidseitig, der Beckenbereiche und ggf. des Werkstücks angeordnet sind. Auf diese Weise kann die Spüleinrichtung mit einer minimalen Anzahl fluidausgebender Komponenten (z. B. Düsen, Spülleitungen) auskommen.According to a further embodiment, the flushing device moves and / or rotates for the purpose of receiving (initiating) and / or during the flushing process, ie it is designed to be movable. Of course, it is sufficient in this case if only the fluid-emitting components, in particular the flushing lines opening into the nozzles, move and / or rotate. In particular, the purging device moves (for example) vertically from an optional rest position into a first and possibly second purging position. The two rinsing positions are selected so that an optimal rinsing of the pelvic areas and possibly the workpiece is possible. The rotation preferably takes place along the longitudinal axis of flushing lines opening into the nozzles, which run horizontally and are arranged laterally, and preferably on both sides, of the pelvic areas and possibly of the workpiece. In this way, the flushing device can manage with a minimum number of fluid-emitting components (eg nozzles, flushing lines).
Nachfolgend wird die erfindungsgemäße Einrichtung im Detail erläutert.The device according to the invention will be explained in detail below.
Die erfindungsgemäße Spüleinrichtung dient dem Abspülen einer von einem Werkstück abtropfenden Behandlungsflüssigkeit, wobei das Abtropfen im Rahmen der nasschemischen Behandlung des Werkstücks beim Herausheben desselben aus einem mit der Behandlungsflüssigkeit gefüllten und mit einem Deckel verschließbaren Becken auftritt. Dabei dient die erfindungsgemäße Einrichtung dem Abspülen von Beckenbereichen, die der abtropfenden Behandlungsflüssigkeit potenziell ausgesetzt sind, wobei mittels der Spüleinrichtung auf die Beckenbereiche aus in Düsen mündenden Spülleitungen ein erstes Spülfluid automatisiert ausgebbar ist.The rinsing device according to the invention serves for rinsing off a treatment liquid dripping from a workpiece, the dripping occurring as part of the wet-chemical treatment of the workpiece when lifting it out of a basin filled with the treatment liquid and closable with a lid. In this case, the device according to the invention serves for rinsing off pelvic areas which are potentially exposed to the dripping treatment liquid, wherein a first rinsing fluid can be automatically output by means of the rinsing device to the pelvic areas from rinsing lines opening in the nozzles.
”Potenziell” meint auch hier die grundsätzliche Möglichkeit der Benetzung durch vom Werkstück herabtropfende Behandlungsflüssigkeit. Der Begriff „Düsen” umfasst definitionsgemäß jegliche Öffnungen, die zur Ausgabe eines Fluids geeignet sind, neben Bohrungen also auch einzelne, große Öffnungen wie insbesondere (z. B. Längs-)Schlitze. Um das Spülfluid an die Düsen zu bringen sind diese an „Spülleitungen” angeordnet, von denen sie speisbar sind. Typischerweise verlaufen diese horizontal und sind seitlich, und bevorzugt beidseitig, der Beckenbereiche und ggf. des Werkstücks angeordnet. Es ist klar, dass zum Betrieb der erfindungsgemäßen Einrichtung auch weitere fluidausgebende Komponenten wie weitere Leitungen, Ventile, mindestens eine Pumpe etc. benötigt werden, die jedoch nicht zwingend Bestandteil der Einrichtung, sondern ihr lediglich zugeordnet sind."Potential" here also means the basic possibility of wetting by the treatment solution dripping from the workpiece. By definition, the term "nozzles" encompasses any openings which are suitable for dispensing a fluid, and therefore also individual, large openings, such as in particular (for example, longitudinal) slots, in addition to boreholes. In order to bring the flushing fluid to the nozzles, these are arranged on "flushing lines", of which they are fed. Typically, these run horizontally and are arranged laterally, and preferably on both sides of the pelvic areas and possibly the workpiece. It is clear that the operation of the device according to the invention, further fluid-emitting components such as other lines, valves, at least one pump, etc. are needed, but they are not necessarily part of the device, but their only assigned.
Um Wiederholungen zu vermeiden wird im Übrigen auf die vorstehenden Erläuterungen zum erfindungsgemäßen Verfahren verwiesen, insbesondere auf die Ausführungen zu den Vorteilen desselben, die sinngemäß auch Vorteile der erfindungsgemäßen Einrichtung sind.To avoid repetition, reference is made to the above explanations of the method according to the invention, in particular to the comments on the advantages thereof, which are mutatis mutandis advantages of the device according to the invention.
Besonders bevorzugt dient die erfindungsgemäße Einrichtung auch dazu, nicht nur die o. g. Beckenbereiche, sondern auch das Werkstück sowie ggf. vorhandene, dem Werkstücktransport dienende Komponenten abzuspülen. Für diesen Fall weist die Einrichtung auf das Werkstück ausrichtbare oder zusätzliche, auf das Werkstück ausgerichtete Düsen auf, die jeweils zur Ausgabe eines zweiten Spülfluids geeignet sind.Particularly preferably, the device according to the invention also serves, not only the o. G. Basin areas, but also the workpiece and any existing, the workpiece transport serving components to rinse. In this case, the device has alignable or additional, aligned on the workpiece nozzles on the workpiece, which are each suitable for dispensing a second flushing fluid.
Nach einer Ausführungsform sind hierfür zwei separate, jeweils in Düsen mündende Spülleitungen vorhanden, welche dann bevorzugt bereits in einer zur Ausgabe des jeweiligen Spülfluids optimalen Position und Ausrichtung angeordnet sind. Auf diese Weise kann auf ein Verfahren (Bewegen) und/oder Rotieren verzichtet werden, was die Einrichtung unter Umständen konstruktiv einfacher macht.According to one embodiment, for this purpose two separate flushing lines each opening into the nozzles are present, which are then preferably already arranged in an optimum position and orientation for dispensing the respective flushing fluid. In this way, can be dispensed with a method (moving) and / or rotating, which makes the device under certain circumstances constructively easier.
Nach einer anderen Ausführungsform sind hingegen die Düsen der Spüleinrichtung (mitsamt den in ihnen mündenden Spülleitungen) verfahrbar und/oder rotierbar.According to another embodiment, however, the nozzles of the purging device (together with the flushing lines opening into them) are movable and / or rotatable.
In diesem Fall kann mittels der Düsen, die für das erste Spülfluid vorgesehen sind, auch das zweite Spülfluid ausgebbar sein. Somit können die Düsen die für beide Spülsituationen typischerweise unterschiedlichen Ausgabepositionen und Ausgabewinkel optimal einnehmen.In this case, by means of the nozzles, which are provided for the first flushing fluid, and the second flushing fluid can be output. As a result, the nozzles can optimally assume the output positions and output angles that are typically different for both rinsing situations.
Ferner ist bevorzugt, dass die Düsen der Spüleinrichtung mehrseitig, und bevorzugt beidseitig, der Beckenbereiche und ggf. des Werkstücks angeordnet sind. Auf diese Weise ist ein besonders effektives und gründliches Spülen der Deckelbereiche und ggf. des Werkstücks möglich. Zudem ist diese Ausführungsform auch für den Fall eines zweiteiligen Deckels (s. o.) besonders gut geeignet.Furthermore, it is preferred that the nozzles of the rinsing device on several sides, and preferably on both sides, of the pelvic areas and possibly of the workpiece are arranged. In this way, a particularly effective and thorough rinsing of the lid areas and possibly the workpiece is possible. In addition, this embodiment is particularly well suited for the case of a two-piece lid (see above).
Wie bereits oben erwähnt ist das erste Spülfluid bevorzugt eine Flüssigkeit wie insbesondere Wasser, und das ggf. vorgesehene zweite Spülfluid bevorzugt ein Gas wie insbesondere Luft. Auch hier wird zur Vermeidung von Wiederholungen auf die obenstehenden Ausführungen verwiesen.As already mentioned above, the first rinsing fluid is preferably a liquid such as, in particular, water, and the optionally provided second rinsing fluid preferably a gas, in particular air. Again, reference is made to avoid repetition of the above statements.
Wie ebenfalls bereits oben erwähnt kann es nachteilig sein, wenn – im Falle der Verwendung einer Flüssigkeit als erstem, und einem Gas als zweitem Spülfluid – Restflüssigkeit in den fluidführenden Komponenten der Spüleinrichtung verbleibt, bevor das Gas ausgegeben wird. Daher ist bevorzugt, dass die Spülfluid führenden Komponenten wie insbesondere Düsen und Spülleitungen mittels eines in sie einleitbaren Reinigungsgases durchströmbar, und somit von einem flüssigen (wie dem bevorzugten ersten) Spülfluid reinigbar sind. Es ist klar, dass die Einrichtung hierzu geeignete Ventile, Pumpen und dergleichen umfassen oder daran angeschlossen sein muss.As also already mentioned above, it may be disadvantageous if - in the case of using a liquid as the first, and a gas as the second flushing fluid - residual liquid remains in the fluid-carrying components of the flushing device before the gas is dispensed. Therefore, it is preferred that the flushing fluid-carrying components such as in particular nozzles and flushing lines can be flowed through by means of a cleaning gas which can be introduced into them, and thus can be cleaned by a liquid (such as the preferred first) flushing fluid. It will be understood that the device must include or be connected to suitable valves, pumps, and the like.
Nach einer anderen Ausführungsform sind der Spüleinrichtung Abführöffnungen im Umgebungsbereich des Beckens zugeordnet, durch welche des Spülfluid, optional über Ablaufflächen oder Ablaufrinnen, abführbar ist. Bevorzugt sind diese Abführöffnungen mit Abluftkanälen für Prozessgase identisch. Solche Abluftkanäle sind in Behandlungsanlagen, für welche die erfindungsgemäße Spüleinrichtung vorgesehen ist, typischerweise vorhanden. Dann ist klar, dass nach dem Abführen jedenfalls des flüssigen Spülfluids eine Separation desselben von den ebenfalls durch diese Abluftkanäle abgeführten Prozessgasen erfolgen sollte.According to another embodiment of the flushing device discharge openings are assigned in the surrounding area of the basin, through which the flushing fluid, optionally via drainage surfaces or gutters, can be discharged. Preferably, these discharge openings are identical with exhaust air ducts for process gases. Such exhaust air ducts are typically present in treatment plants for which the rinsing device according to the invention is provided. Then it is clear that, after the removal of at least the liquid rinsing fluid, it should be separated from the process gases likewise discharged through these exhaust air ducts.
Nach einer weiteren und bevorzugten Ausführungsform ist der oben angesprochene Deckel, der nicht zwingender Bestandteil der Spüleinrichtung ist, aber mit ihr vorteilhaft zusammenwirkt, ein ein- oder zweiteiliger und/oder faltbarer Deckel. Ein solcher zweiteiliger (also nach zwei Seiten aufklappbarer) und faltbarer Deckel ist in der
Ferner ist bevorzugt, dass – im aufgeklappten Zustand – das mindestens eine Element des Deckels einen Öffnungswinkel von mehr als 90 Grad zur Horizontalen aufweist. Auch hier sei auf die Figurenbeschreibung verwiesen.Furthermore, it is preferred that - in the unfolded state - the at least one element of the lid has an opening angle of more than 90 degrees to the horizontal. Again, reference is made to the description of the figures.
Das beschriebene Verfahren und die beschriebene Einrichtung erlauben, wie dargelegt, eine wirkungsvolle Vermeidung der sich aufgrund herabtropfender Behandlungsflüssigkeit ergebenden Nachteile. Die Beschädigung durch Benetzung der Abdeckungen nasschemischer Behandlungsanlagen und anderer Beckenbereiche, die der abtropfenden Behandlungsflüssigkeit potenziell ausgesetzt sind, wird zuverlässig verhindert. Die Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens benötigt im Vergleich zu manuellen Verfahren weniger Zeit, und es werden Ressourcen wie Spülfluid und Behandlungsflüssigkeit geschont.The method described and the device described allow, as explained, an effective avoidance of the resulting due to dripping treatment liquid disadvantages. The damage caused by wetting the covers of wet chemical treatment equipment and other pelvic areas potentially exposed to the dripping treatment liquid is reliably prevented. The application of the method according to the invention requires less time compared to manual methods, and resources such as flushing fluid and treatment fluid are spared.
Figurenbeschreibungfigure description
In der
Die Düsen sind derart ausgerichtet, dass mit ihnen ein erster, vorliegend vertikal verlaufender Spülfluidstrahl F1 in Richtung des Beckens (nicht sichtbar) ausgegeben werden kann, und dass mit ihnen ein zweiter, vorliegend schräg verlaufender Spülfluidstrahl F2 in Richtung des Werkstücks
Bevorzugt können die Spülleitungen
In der
Der gezeigte Teil der Spüleinrichtung
Der Deckel
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 11
- Spüleinrichtungflushing
- 2A, 2B2A, 2B
- Spülleitungflushing line
- 33
- Düsejet
- 44
- Zuleitungsupply
- 55
- Werkstückworkpiece
- 66
- CarrierCarrier
- 77
- Transportvorrichtungtransport device
- 88th
- Deckelcover
- 8A, 8B8A, 8B
- Elemente des DeckelsElements of the lid
- 8C8C
- Scharnierhinge
- 9A, 9B9A, 9B
- Öffnungswinkelopening angle
- 1010
- Ablaufflächedrainage area
- 1111
- Abführöffnungdischarge opening
- 1212
- Beckenpool
- FF
- Spülfluidflushing fluid
- FAFA
- erstes Spülfluidfirst flushing fluid
- FBFB
- zweites Spülfluidsecond rinse fluid
- F1F1
- erster Spülfluidstrahlfirst rinse fluid jet
- F2F2
- zweiter Spülfluidstrahlsecond rinse fluid jet
- HH
- Horizontalehorizontal
Claims (13)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201210001721 DE102012001721A1 (en) | 2012-01-31 | 2012-01-31 | Method for rinsing of workpiece e.g. carrier of wafer used in e.g. solar cell, involves providing rinsing spacers in nozzle to pump out rinsing fluid from fluid tank and to drip off the rinsing fluid to workpiece |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201210001721 DE102012001721A1 (en) | 2012-01-31 | 2012-01-31 | Method for rinsing of workpiece e.g. carrier of wafer used in e.g. solar cell, involves providing rinsing spacers in nozzle to pump out rinsing fluid from fluid tank and to drip off the rinsing fluid to workpiece |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102012001721A1 true DE102012001721A1 (en) | 2013-08-01 |
Family
ID=48783500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE201210001721 Withdrawn DE102012001721A1 (en) | 2012-01-31 | 2012-01-31 | Method for rinsing of workpiece e.g. carrier of wafer used in e.g. solar cell, involves providing rinsing spacers in nozzle to pump out rinsing fluid from fluid tank and to drip off the rinsing fluid to workpiece |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102012001721A1 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040074600A1 (en) * | 2002-10-22 | 2004-04-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Wet etch system with overflow particle removing feature |
DE102006059810A1 (en) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Rena Sondermaschinen Gmbh | Apparatus and method for cleaning objects, in particular thin disks |
US20090120466A1 (en) * | 2005-06-30 | 2009-05-14 | Kazuyoshi Eshima | Washing Device and Washing Method |
-
2012
- 2012-01-31 DE DE201210001721 patent/DE102012001721A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040074600A1 (en) * | 2002-10-22 | 2004-04-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Wet etch system with overflow particle removing feature |
US20090120466A1 (en) * | 2005-06-30 | 2009-05-14 | Kazuyoshi Eshima | Washing Device and Washing Method |
DE102006059810A1 (en) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Rena Sondermaschinen Gmbh | Apparatus and method for cleaning objects, in particular thin disks |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69838273T2 (en) | Method for cleaning and drying objects to be processed | |
EP2246129B1 (en) | Cleaning assembly | |
EP0801814B1 (en) | Wet chemical treatment installation | |
DE10020523A1 (en) | Processing device consists of several moving containers arranged so that they are in an ambience position to surround the objects to be treated as well as in a stand-by position in which they do not surround the object | |
WO2022096658A1 (en) | Device and method for handling pot-shaped hollow bodies, more particularly transport containers for semiconductor wafers or for euv lithography masks | |
DE10207499A1 (en) | Pipette tip or dispensing unit cleansing system, involves introducing pipette tip into a cleaning chamber, and spraying with a cleaning fluid | |
WO2010043596A1 (en) | Method for separating wafers from a wafer support and device therefor | |
EP2584298B1 (en) | Drying device for container and method for cleaning such a drying device | |
DE3930880A1 (en) | Cleaning appts. for small parts - where cleaning fluid is allowed to enter container from below and overflow together with dirt particles | |
DE10118167A1 (en) | Cleaning apparatus for semiconductor wafers includes movable marangoni dryer having hood for moving the wafers from loader into inner bath | |
WO2000002234A2 (en) | Method and device for cleaning substrates | |
DE102012001721A1 (en) | Method for rinsing of workpiece e.g. carrier of wafer used in e.g. solar cell, involves providing rinsing spacers in nozzle to pump out rinsing fluid from fluid tank and to drip off the rinsing fluid to workpiece | |
DE3611387A1 (en) | Installation and method for producing integrated circuits or the like from silicon or from gallium arsenide wafers or the like | |
DE102007063169A1 (en) | Method and system for processing or cleaning Si blocks | |
DE102008053596A1 (en) | Method for cleaning wafer block, involves dissecting wafer block in individual thin wafers, where wafer block has wafers held on carrier device, where wafer block is driven in cleaning device, and wafer block is moved on transport level | |
DE102016002329B4 (en) | Surface treatment system, in particular series immersion system, for industrial cleaning technology | |
DE102016100597B4 (en) | Apparatus and method for cleaning brushes | |
DE10007439C2 (en) | Device and method for cleaning substrates | |
DE102006015694A1 (en) | Cleaning assembly, especially for dental tooth implants, moves them by a conveyor with carrier plates to form a processing zone when covered by a hood at the cleaning station | |
DE3720311C2 (en) | ||
EP0613733B1 (en) | Processing tank for industrial cleaning installations | |
DE3319094A1 (en) | Method and device for treating a plate-shaped article | |
DE102014206355A1 (en) | FLUID NOZZLE DEVICE AND METHOD FOR CLEANING A SUBSTRATE THEREWITH | |
EP4015060A1 (en) | Device and method for cleaning filter plates of a filter pack, filter systems and method for upgrading filter systems | |
EP2364935A2 (en) | Belt cleaning device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R120 | Application withdrawn or ip right abandoned |
Effective date: 20130820 |