DE102011120479A1

DE102011120479A1 - Verfahren zur Wärmerückgewinnung in Vinylchlorid-Monomeranlagen oder im Anlagenverbund Vinylchlorid / Polyvinylchlorid und dafür geeignete Vorrichtung

Info

Publication number: DE102011120479A1
Application number: DE102011120479A
Authority: DE
Inventors: Michael Benje; Peter Kammerhofer
Original assignee: Vinnolit GmbH and Co KG; ThyssenKrupp Uhde GmbH
Current assignee: ThyssenKrupp Industrial Solutions AG; Westlake Vinnolit GmbH and Co KG
Priority date: 2011-12-08
Filing date: 2011-12-08
Publication date: 2013-06-13

Abstract

Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorid durch thermische Spaltung von 1,2-Dichlorethan in einem Vinylchlorid-Komplex mit einer darin enthaltenen destillativen Reinigung von 1,2-Dichlorethan umfassend mindestens eine Hochsiederkolonne, in der höher als 1,2-Dichlorethan siedende Substanzen abgetrennt werden und einer gegebenenfalls daran angeschlossenen Polyvinylchlorid-Teilanlage. Das Verfahren umfasst die Maßnahmen a) Betrieb der Hochsiederkolonne bei Kopftemperaturen zwischen 120–150°C, und b) Verwendung zumindestens eines Teils des Kopfstromes der Hochsieder-kolonne zur Gewinnung von thermischer Energie, die in Wärmesenken einer Teilanlage zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan, und/oder in Wärmesenken einer nachgeschalteten Teilanlage zur Erzeugung von Vinylchlorid und/oder in Wärmesenken einer nachgeschalteten Teilanlage zur Herstellung von Polyvinylchlorid genutzt wird. Außerdem wird eine Vorrichtung zur Herstellung von Vinylchlorid durch thermische Spaltung von 1,2-Dichlorethan in einem Vinylchlorid-Komplex mit einer darin enthaltenen destillativen Reinigung von 1,2-Dichlorethan und einer gegebenenfalls daran angeschlossenen Polyvinylchlorid-Teilanlage beschrieben. Die Vorrichtung umfasst die Elemente A) mindestens eine Hochsiederkolonne in der Teilanlage zur destillativen Reinigung von 1,2-Dichlorethan, in der höher als 1,2-Dichlorethan siedende Substanzen abgetrennt werden, B) mindestens einen mit der Hochsiederkolonne verbundener Wärmetauscher, in den mindestens ein Teil des Kopfstroms der Hochsiederkolonne verbracht wird, dort unter Gewinnung von Wärme kondensiert und gegebenenfalls unterkühlt wird, und sodann in die Hochsiederkolonne rückgeführt wird, und C) mindestens eine Wärmesenke einer Teilanlage zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan und/oder in einer daran angeschlossenen Teilanlage zur Herstellung von Vinylchlorid und/oder in einer daran angeschlossenen Teilanlage zur Herstellung von Polyvinylchlorid, in welche die im Wärmetauscher B) gewonnene Wärme zum Beheizen verbracht wird. Das Verfahren bzw. die Vorrichtung gestattet eine deutliche Verbesserung der Energiebilanz des Anlagenkomplexes.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan (nachstehend „DCE”) und zielt ab auf den Betrieb einer Kolonne zur Destillation von 1,2-Dichlorethan bei Temperaturen die einerseits ausreichend hoch sind, um durch Kondensation zumindest eines Teils des Kopfstroms (Brüdens) der Kolonne nutzbare Wärme zu erzeugen, die aber anderseits noch nicht zur Schädigung des destillierten DCE durch thermische Zersetzung führen.
Speziell zielt die Erfindung auf die Beheizung von Wärmesenken in einer Anlage zur Herstellung von Vinylchlorid oder in einem Anlagenverbund zur Herstellung von Vinylchlorid (nachstehend „VCM”) und Polyvinylchlorid (nachstehend „PVC”) mittels der am Kopf einer Destillationskolonne rückgewonnenen Wärmeenergie.
DCE wird überwiegend als Zwischenprodukt der Herstellung von monomerem Vinylchlorid verwendet, welches wiederum als Ausgangsstoff für die Herstellung von Polyvinylchlorid eingesetzt wird. Bei der Umsetzung von DCE zu monomerem Vinylchlorid entsteht Chlorwasserstoff HCl. Dieser wird bevorzugt bei der Herstellung von DCE durch Oxychlorierung von Ethen mittels HCl und Sauerstoff eingesetzt. Ein alternativer Herstellungsweg von DCE führt über die Direktchlorierung von Ethen mittels Chlor. Bei der großtechnischen Herstellung von DCE werden beide Wege beschritten, so dass hinsichtlich des erzeugten und verbrauchten Chlorwasserstoffs eine ausgewogene Bilanz entsprechend den folgenden Reaktionsgleichungen erreicht wird: Cl₂ + C₂H₄ → C₂H₄Cl₂ + 218 kJ/Mol C₂H₄Cl₂ → C₂H₃Cl + HCl – 71 kJ/Mol C₂H₄ + 2HCl + ½O₂ → C₂H₄Cl₂ + H₂O + 238 kJ/Mol
Ein Anlagenkomplex zur Produktion von Vinylchlorid (nachstehend „VCM-Komplex” genannt) besteht im Wesentlichen aus:

– einer Anlage zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan (DCE) aus Ethen und Chlor („Direktchlorierung”, optionaler Anlagenteil); und
– einer Anlage zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan aus Ethen, Chlorwasserstoff und Sauerstoff („Oxichlorierung”); und
– einer Anlage zur destillativen Reinigung von 1,2-Dichlorethan (Herstellung von „Feed-DCE”); und
– einer Anlage zur thermischen Spaltung des destillativ gereinigten „Feed-DCE” zu Vinylchlorid und Chlorwasserstoff; und
– einer Anlage zur destillativen Abtrennung des Chlorwasserstoffs und nicht umgesetzten 1,2-Dichlorethans sowie zur Reinigung des Vinylchlorids.

Der durch thermische Spaltung des 1,2-Dichlorethans gewonnene Chlorwasserstoff wird in die Oxichlorierungsanlage zurückgeführt und dort mit Ethen und Sauerstoff wieder zu DCE umgesetzt.
Die Reaktionsschritte der Direktchlorierung und der Oxichlorierung sind stark exotherm während die thermische Spaltung von DCE zu VCM und Chlorwasserstoff endotherm ist.
Der oben beschriebene VCM-Komplex kann in der sogenannten ausgewogenen oder „balanced” Betriebsweise betrieben werden, in der das gesamte in der Anlage erzeugte DCE auch in der VCM-Teilanlage weiter verarbeitet wird bzw. bei der kein Import von DCE erforderlich ist.
Neben der vorstehend genannten ausgewogenen Betriebsweise existieren auch Betriebsarten bzw. Anlagen zur Herstellung von DCE, bei denen die DCE-Menge, die in der ausgewogenen Betriebsweise in der Direktchlorierung produziert würde ganz oder teilweise durch importiertes DCE (Import-DCE) ersetzt wird. Diese Betriebsart oder Anlagenkonfiguration nennt der Fachmann die unausgewogene oder „unbalanced” Betriebsweise.
Eine weitere unausgewogene Betriebsweise besteht darin, dass in der Teilanlage zur Herstellung von DCE mehr DCE erzeugt wird als in der thermischen Spaltung zu VCM verbraucht wird. Dieses überschüssige DCE wird nach destillativer Reinigung als sogenanntes „sales DCE” verkauft. In der „sales-DCE”-Betriebsweise werden in der Regel mehr Kolonnen zur Aufarbeitung des DCE eingesetzt, als bei den anderen Betriebsweisen. Diese zusätzlichen Kolonnen stellen zusätzliche Wärmesenken dar und können mit aus anderen Anlagenteilen stammender Wärme betrieben werden.
Aus dem Stand der Technik sind zahlreiche Massnahmen zur Energieeinsparung bzw. Wärmerückgewinnung in Anlagen zur Herstellung von VCM und PVC bekannt. Solche Massnahmen führen zu einer deutlichen Senkung der Betriebskosten und tragen damit ganz wesentlich zur Wirtschaftlichkeit der Anlage bei. Ebenso tragen solche Massnahmen auch wesentlich zur Verringerung des CO₂-Ausstoßes der Anlage bei.
Hierzu zählen solche Massnahmen, welche die Reaktionswärme der exothermen Reaktionsschritte nutzen, um Wärmesenken im Prozess zu beheizen. So wird beispielsweise mit der Reaktionswärme der Oxichlorierung Dampf erzeugt, mit dem z. B. Edukt-Vorwärmer oder Destillationskolonnen beheizt werden können.
Aufgrund des relativ hohen Temperaturniveaus der Oxichlorierungsreaktion ist der erzeugte Dampf zur Beheizung der meisten Wärmesenken im Prozess geeignet. Bevorzugt werden mit diesem Dampf natürlich Wärmesenken beheizt, die ihrerseits ein relativ hohes Temperaturniveau erfordern.
Die in der Teilanlage der Oxichlorierung erzeugte Dampfmenge ist nicht ausreichend, um alle Wärmesenken in einem Anlagenkomplex zur Herstellung von VCM zu beheizen. So wurde nach weiteren Möglichkeiten zur Wärmerückgewinnung bzw. Energieeinsparung gesucht.
Eine Möglichkeit hierzu ist die Nutzung der Reaktionswärme der Direktchlorierung, die auf einem niedrigeren Temperaturniveau anfällt als die der Oxichlorierung. Hierzu existiert in der Literatur eine Vielzahl von Vorschlägen.
So wird z. B. in der DE 32 25 732 A1 vorgeschlagen, mit einem Zirkulationsstrom des flüssigen Reaktionsmediums aus der Direktchlorierung eine Destillationskolonne zu beheizen.
In der DE 31 37 513 A1 wird vorgeschlagen, die Reaktionswärme für Heizzwecke oder zur Dampferzeugung zu verwenden. Eine Einschränkung bei der Dampferzeugung mittels der Reaktionswärme der Direktchlorierung besteht allerdings darin, dass die Reaktionstemperatur hierfür auf einen Wert angehoben werden muss, der schon stark die Bildung von Nebenprodukten begünstigt, was wiederum die Wirtschaftlichkeit des Verfahrens beeinträchtigt. Ein Ausweg bestünde darin, dampfförmiges Reaktionsmedium aus dem Direktchlorierungsreaktor mechanisch zu komprimieren und dann für Heizwecke einzusetzen, wie in der WO 01/21564 A1 vorgeschlagen wurde. Nachteilig hierbei sind die Investitionskosten für den erforderlichen Verdichter sowie die Energiekosten für die Verdichtung.
Ebenso existieren Vorschläge zur Beheizung von Kolonnen mit dampfförmigem Reaktionsmedium, wie z. B. in der DE 199 16 753 C1 und in der WO 98/01407 A1 beschrieben, sowie gleichzeitig mit dampfförmigem und flüssigem Reaktionsmedium, wie in der DE 199 53 762 A1 beschrieben.
Da Direktchlorierungsanlagen bzw. Anlagenkomplexe zur Herstellung von Vinylchlorid und Polyvinylchlorid oft im Verbund mit einer Anlage zur Chlor-Alkali-Elektrolyse betrieben werden, wurde auch vorgeschlagen, die Reaktionswärme der Direktchlorierung zur Konzentration von wässriger Natronlauge zu nutzen, wie z. B. in der DE 10 2005 044 177 A1 beschrieben.
Auch innerhalb der Teilanlage zur destillativen Reinigung des 1,2-Dichlorethan bestehen Möglichkeiten zur Energieeinsparung. Im Allgemeinen besteht die Teilanlage in einem VCM-Komplex aus einer sogenannten Entwässerungskolonne, in der aus dem DCE Wasser sowie Leichtsieder abgetrennt werden. In Abhängigkeit von der Anlagenkonfiguration können in der Anlage ein oder mehrere weitere Kolonnen eingesetzt werden, z. B. zur Abtrennung von Leichtsiedern. Der Sumpfstrom der Entwässerungskolonne wird in der Regel in einer sogenannten Hochsiederkolonne oder DCE-Kolonne weiter aufgereinigt. Weiterhin wird in die Hochsiederkolonne DCE eingespeist, das aus dem Produktgemisch der thermischen DCE-Spaltung abgetrennt wurde (sog. Rück-DCE). In der Hochsieder-kolonne werden höher als DCE siedende Substanzen abgetrennt. Das Kopfprodukt der Hochsiederkolonne ist das „Feed-DCE”, das in der thermischen DCE-Spaltung eingesetzt wird. Der Sumpfstrom der Hochsiederkolonne wird meist in einer mit Unterdruck betriebenen sogenannten Vakuumkolonne weiter aufkonzentriert. Das in der Vakuumkolonne abgetrennte DCE wird dem Feed-DCE-Strom vom Kopf der Hochsiederkolonne zugemischt. Die abgetrennten Hochsieder werden einer Aufarbeitung zugeführt.
Der grösste Energieverbraucher innerhalb der destillativen DCE-Reinigung ist die Hochsiederkolonne. Prinzipiell ist die in der Direktchlorierungsanlage rückgewinnbare Wärmemenge nicht hoch genug, um den Gesamtenergiebedarf dieser Kolonne zu decken. Die fehlende Wärmemenge muss durch Beheizung mit Dampf zugeführt werden. Weiterhin ist die bei einer Beheizung der Hochsiederkolonne mit der Reaktionswärme der Direktchlorierung erreichbare Brüdentemperatur der Hochsiederkolonne nicht hoch genug, um aus dem Brüden wirtschaftlich Wärme zurück zu gewinnen.
Die vorliegende Erfindung richtet sich auf ein Verfahren zur Wärmerückgewinnung an der oder den Hochsiederkolonnen (oft auch „DCE-Kolonne” genannt) der Teilanlage zur destillativen Reinigung von DCE in einem VCE-Komplex.
Hier wurde in der DE 34 40 685 A1 schon vorgeschlagen, den Brüden vom Kopf dieser Kolonne mechanisch zu verdichten und zum Beheizen derselben Kolonne zu verwenden. Energetisch günstiger ist es jedoch, die Hochsiederkolonne bei einem Druck bzw. einer Temperatur zu betreiben die hoch genug ist, dass der Kopfstrom (Brüden) der Kolonne zur Ausführung von Wärmerückgewinnungsmassnahmen geeignet ist. Anderseits darf die Kopftemperatur der Kolonne nicht so hoch sein, dass das Produkt (Feed-DCE) durch Zersetzung geschädigt wird.
Überraschenderweise zeigte sich, dass die Hochsiederkolonne bei Kopftemperaturen zwischen ca. 120–150°C, vorzugsweise zwischen 127 und 135°C betrieben werden kann, ohne dass eine Schädigung des Produktes beobachtet wird. Dazu wird die Hochsiederkolonne unter Überdruck betrieben, z. B. im Bereich von 2,7 bis 5,3 barg.
Die so erzeugten Brüden können zur direkten oder indirekten Beheizung von Anlagenteilen der DCE-Anlage oder von Anlagenteilen der nachgeschalteten VCM-Anlage bzw. PVC-Anlage genutzt werden. Eine direkte Beheizung durch die so erzeugten Brüden der Hochsiederkolonne(n) kann beispielsweise für in räumlicher Nähe gelegene Kolonnen der DCE-Anlage, z. B. die Entwässerungskolonne oder die Vakuumkolonne erfolgen. Es sind auch indirekte Beheizungen von Anlagenteilen der DCE-Anlage, der VCM-Anlage und/oder der PVC-Anlage möglich, indem aus dem Wärmeinhalt zumindest eines Teils der Brüden der Hochsiederkolonne(n) Wasserdampf erzeugt wird. Die Erzeugung von Wasserdampf ist zur Beheizung räumlich weiter entfernter Wärmesenken sicherheitstechnisch zu bevorzugen.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorid durch thermische Spaltung von 1,2-Dichlorethan in einem Vinylchlorid-Komplex mit einer darin enthaltenen destillativen Reinigung von 1,2-Dichlorethan umfassend mindestens eine Hochsiederkolonne, in der höher als 1,2-Dichlorethan siedende Substanzen abgetrennt werden und einer gegebenenfalls daran angeschlossenen Polyvinylchlorid-Teilanlage mit den Maßnahmen

a) Betrieb der Hochsiederkolonne bei Kopftemperaturen zwischen 120–150°C, und
b) Verwendung zumindestens eines Teils des Kopfstromes der Hochsiederkolonne zur Gewinnung von thermischer Energie, die in Wärmesenken einer Teilanlage zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan, und/oder in Wärmesenken einer nachgeschalteten Teilanlage zur Erzeugung von Vinylchlorid und/oder in Wärmesenken einer nachgeschalteten Teilanlage zur Herstellung von Polyvinylchlorid genutzt wird.

Der Kopfstrom kann zu einer direkten Beheizung von Wärmesenken, beispielsweise Wärmetauschern, verwendet werden, indem zumindest ein Teil des Kopfstromes der Hochsiederkolonne in diesen Wärmesenken kondensiert wird und nach Kondensation und gegebenenfalls Unterkühlung in die Hochsiederkolonne rückgeführt wird. Diese Methode eignet sich vorzugsweise zum Beheizen von Anlagenteilen in der Nähe der Hochsiederkolonne, beispielsweise zum Beheizen einer Entwässerungskolonne und/oder einer Vakuumkolonne, die Teile der destillativen Aufreinigungsanlage für das 1,2-Dichlorethan bilden.
Der Kopfstrom kann vorzugsweise zu einer indirekten Beheizung von Wärmesenken verwendet werden, indem zumindest ein Teil des Kopfstromes der Hochsiederkolonne zur Erzeugung von Niederdruck-Wasserdampf genutzt wird, beispielsweise in einem Wärmetauscher, wie einem Verdampfer, der Kopfstrom nach Kondensation und gegebenenfalls Unterkühlung in die Hochsiederkolonne rückgeführt wird und der Niederdruck-Wasserdampf zum Beheizen von ausgewählten Anlagenteilen eingesetzt wird. Diese Methode eignet sich vorzugsweise zum Beheizen von Anlagenteilen in weiterer Entfernung der Hochsiederkolonne, beispielsweise zum Beheizen von Wärmesenken in einer nachgeschalteten VCM-Anlage und/oder einer nachgeschalteten PVC-Anlage.
Geeignete und bevorzugte Wärmesenken in einem Anlagenkomplex zur VCM/PVC-Herstellung sind:
Im VCM-Komplex:

– Entwässerungskolonne;
– Leichtsiederkolonne bzw. DCE-Stripper;
– Vakuumkolonne;
– Kesselspeisewasserentgaser;
– Strippkolonne zu Entfernung von DCE aus Abwasser; und
– Strippkolonne zur Reinigung (Entfernung von HCl) von Vinylchlorid.

In der PVC-Anlage:

– Vorrichtungen zur Entfernung von Rest-Monomer (VCM) aus PVC, speziell eine Vorentgasungseinrichtung und eine nachgeschaltete Entgasungskolonne;
– Strippkolonne zur Entfernung von VCM aus Abwasser;
– Vorrichtung zur Trocknung von PVC-Pulver; und
– Vorrichtung zur Erwärmung von Chargierwasser für die Polymerisationsreaktion.

Bevorzugte Verfahrensvarianten betreffen die indirekte Beheizung dieser Wärmesenken mit Niederdruck-Wasserdampf, der aus dem Kopfstrom der Hochsiederkolonne der DCE-Anlage erzeugt worden ist.
Bevorzugt wird ein Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorid und Polyvinylchlorid, bei dem das Sumpfprodukt der Hochsiederkolonne einen DCE Anteil von 90–97 Gew.% hat.
Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Herstellung von Vinylchlorid durch thermische Spaltung von 1,2-Dichlorethan in einem Vinylchlorid-Komplex mit einer darin enthaltenen destillativen Reinigung von 1,2-Dichlorethan und einer gegebenenfalls daran angeschlossenen Polyvinylchlorid-Teilanlage umfassend die Elemente

A) mindestens eine Hochsiederkolonne in der Teilanlage zur destillativen Reinigung von 1,2-Dichlorethan, in der höher als 1,2-Dichlorethan siedende Substanzen abgetrennt werden,
B) mindestens einen mit der Hochsiederkolonne verbundener Wärmetauscher, in den mindestens ein Teil des Kopfstroms der Hochsiederkolonne verbracht wird, dort unter Gewinnung von Wärme kondensiert und gegebenenfalls unterkühlt wird, und sodann in die Hochsiederkolonne rückgeführt wird, und
C) mindestens eine Wärmesenke einer Teilanlage zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan und/oder in einer daran angeschlossenen Teilanlage zur Herstellung von Vinylchlorid und/oder in einer daran angeschlossenen Teilanlage zur Herstellung von Polyvinylchlorid, in welche die im Wärmetauscher B) gewonnene Wärme zum Beheizen verbracht wird.

Als Wärmesenken in den Anlagenteilen des VCM-Komplexes bzw. der PVC-Teilanlage werden bevorzugt die weiter oben beschriebenen Vorrichtungen genutzt.
Das erfindungsgemäße Verfahren bzw. die erfindungsgemäße Vorrichtung gestattet eine deutliche Verbesserung der Energiebilanz des Anlagenkomplexes.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

DE 3225732 A1 [0015]
DE 3137513 A1 [0016]
WO 01/21564 A1 [0016]
DE 19916753 C1 [0017]
WO 98/01407 A1 [0017]
DE 19953762 A1 [0017]
DE 102005044177 A1 [0018]
DE 3440685 A1 [0022]

Claims

Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorid durch thermische Spaltung von 1,2-Dichlorethan in einem Vinylchlorid-Komplex mit einer darin enthaltenen destillativen Reinigung von 1,2-Dichlorethan umfassend mindestens eine Hochsiederkolonne, in der höher als 1,2-Dichlorethan siedende Substanzen abgetrennt werden und einer gegebenenfalls daran angeschlossenen Polyvinylchlorid-Teilanlage mit den Maßnahmen a) Betrieb der Hochsiederkolonne bei Kopftemperaturen zwischen 120–150°C, und b) Verwendung zumindestens eines Teils des Kopfstromes der Hochsieder-kolonne zur Gewinnung von thermischer Energie, die in Wärmesenken einer Teilanlage zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan, und/oder in Wärmesenken einer nachgeschalteten Teilanlage zur Erzeugung von Vinylchlorid und/oder in Wärmesenken einer nachgeschalteten Teilanlage zur Herstellung von Polyvinylchlorid genutzt wird.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Kopfstrom zu einer direkten Beheizung von Wärmesenken verwendet wird, indem zumindest ein Teil des Kopfstromes der Hochsiederkolonne in den Wärmesenken kondensiert wird und nach Kondensationi und gegebenenfalls Unterkühlung in die Hochsiederkolonne rückgeführt wird.
Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass mit dem Kopfstrom Anlagenteile in der Nähe der Hochsiederkolonne beheizt werden, vorzugsweise eine Entwässerungskolonne und/oder eine Vakuumkolonne, die Teile der destillativen Aufreinigungsanlage für das 1,2-Dichlorethan bilden.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Kopfstrom zu einer indirekten Beheizung von Wärmesenken verwendet wird, indem zumindest ein Teil des Kopfstromes der Hochsiederkolonne zur Erzeugung von Niederdruck-Wasserdampf genutzt wird und der Kopfstrom nach Kondensation und gegebenenfalls Unterkühlung in die Hochsiederkolonne rückgeführt wird und der Niederdruck-Wasserdampf zum Beheizen von ausgewählten Anlagenteilen eingesetzt wird.
Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass mit dem Niederdruck-Wasserdampf Anlagenteile in weiterer Entfernung von der Hochsiederkolonne beheizt werden, insbesondere Wärmesenken in einer nachgeschalteten VCM-Teilanlage und/oder einer nachgeschalteten PVC-Teilanlage.
Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass mit dem Niederdruck-Wasserdampf Anlagenteile aus dem Vinylchlorid-Komplex beheizt werden, insbesondere eine Entwässerungskolonne, eine Leichtsiederkolonne, ein DCE-Stripper, eine Vakuumkolonne, ein Kesselspeisewasserentgaser, eine Strippkolonne zu Entfernung von 1,2-Dichlorethan aus Abwasser und/oder eine Strippkolonne zur Reinigung oder Entfernung von Chlorwasserstoff aus dem Vinylchlorid.
Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass mit dem Niederdruck-Wasserdampf Anlagenteile aus der Polyvinylchlorid-Teilanlage beheizt werden, insbesondere Vorrichtungen zur Entfernung von Rest-Monomer aus PVC, insbesondere eine Vorentgasungseinrichtung und eine nachgeschaltete Entgasungskolonne, eine Strippkolonne zur Entfernung von Vinylchloridmonomer aus Abwasser, eine Vorrichtung zur Trocknung von PVC-Pulver und/oder eine Vorrichtung zur Erwärmung von Chargierwasser für die Polymerisationsreaktion.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Herstellung von Vinylchlorid und Polyvinylchlorid das Sumpfprodukt der Hochsiederkolonne einen DCE-Anteil von 90–97 Gew.% aufweist.
Vorrichtung zur Herstellung von Vinylchlorid durch thermische Spaltung von 1,2-Dichlorethan in einem Vinylchlorid-Komplex mit einer darin enthaltenen destillativen Reinigung von 1,2-Dichlorethan und einer gegebenenfalls daran angeschlossenen Polyvinylchlorid-Teilanlage umfassend die Elemente A) mindestens eine Hochsiederkolonne in der Teilanlage zur destillativen Reinigung von 1,2-Dichlorethan, in der höher als 1,2-Dichlorethan siedende Substanzen abgetrennt werden, B) mindestens einen mit der Hochsiederkolonne verbundener Wärmetauscher, in den mindestens ein Teil des Kopfstroms der Hochsiederkolonne verbracht wird, dort unter Gewinnung von Wärme kondensiert und gegebenenfalls unterkühlt wird, und sodann in die Hochsiederkolonne rückgeführt wird, und C) mindestens eine Wärmesenke einer Teilanlage zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan und/oder in einer daran angeschlossenen Teilanlage zur Herstellung von Vinylchlorid und/oder in einer daran angeschlossenen Teilanlage zur Herstellung von Polyvinylchlorid, in welche die im Wärmetauscher B) gewonnene Wärme zum Beheizen verbracht wird.
Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Wärmesenke sich in einer Teilanlage des Vinylchlorid-Komplexes befindet und insbesondere eine Entwässerungskolonne, eine Leichtsiederkolonne, ein DCE-Stripper, eine Vakuumkolonne, ein Kesselspeisewasserentgaser, eine Strippkolonne zu Entfernung von 1,2-Dichlorethan aus Abwasser und/oder eine Strippkolonne zur Reinigung oder Entfernung von Chlorwasserstoff aus dem Vinylchlorid ist.
Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Wärmesenke sich in einer Polyvinylchlorid-Teilanlage befindet und insbesondere eine Vorrichtung zur Entfernung von Rest-Monomer aus PVC, eine Vorentgasungseinrichtung und eine nachgeschaltete Entgasungskolonne, eine Strippkolonne zur Entfernung von Vinylchloridmonomer aus Abwasser, eine Vorrichtung zur Trocknung von PVC-Pulver und/oder eine Vorrichtung zur Erwärmung von Chargierwasser für die Polymerisationsreaktion ist.