DE102010045620A1 - Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene - Google Patents
Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene Download PDFInfo
- Publication number
- DE102010045620A1 DE102010045620A1 DE102010045620A DE102010045620A DE102010045620A1 DE 102010045620 A1 DE102010045620 A1 DE 102010045620A1 DE 102010045620 A DE102010045620 A DE 102010045620A DE 102010045620 A DE102010045620 A DE 102010045620A DE 102010045620 A1 DE102010045620 A1 DE 102010045620A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- homogenizer
- laser beams
- partially
- lens
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
- H01S5/4031—Edge-emitting structures
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0009—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
- G02B19/0014—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only at least one surface having optical power
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
- G02B19/0052—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
- G02B19/0057—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode in the form of a laser diode array, e.g. laser diode bar
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
- G02B27/0961—Lens arrays
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/005—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
- Definitionen: In Ausbreitungsrichtung der Laserstrahlung meint mittlere Ausbreitungsrichtung der Laserstrahlung, insbesondere wenn diese keine ebene Welle ist oder zumindest teilweise divergent ist. Mit Laserstrahl, Lichtstrahl, Teilstrahl oder Strahl ist, wenn nicht ausdrücklich anderes angegeben ist, kein idealisierter Strahl der geometrischen Optik gemeint, sondern ein realer Lichtstrahl, wie beispielsweise ein Laserstrahl mit einem Gauß-Profil oder einem Top-Hat-Profil, der keinen infinitesimal kleinen, sondern einen ausgedehnten Strahlquerschnitt aufweist. Dabei soll der Ausdruck Licht nicht nur den sichtbaren, sondern auch den ultravioletten und den infraroten Spektralbereich abdecken.
- Eine Vorrichtung der eingangs genannten Art ist aus der
DE 10 2007 052 782 A1 bekannt. Die darin beschriebene Vorrichtung umfasst eine Mehrzahl von Lasermodulen, die beispielsweise Laserdiodenbarren sein können, und eine Mehrzahl von Optikmodulen, die jeweils das Laserlicht eines Lasermoduls formen können. Ein jedes der Optikmodule weist Homogenisatormittel auf, die zwei in Ausbreitungsrichtung der Laserstrahlung hintereinander angeordnete Linsenarrays aufweisen. - Dabei ist vorgesehen, dass die Optikmodule in einer Arbeitsebene eine Mehrzahl von aneinander anschließenden linienförmigen Intensitätsverteilungen erzeugen, die zusammen eine lange linienförmige Intensitätsverteilung ergeben. Dieses Aneinandersetzen mehrerer Einzelmodule für die Erzeugung einer gestückelten, langen Linie aus mehreren Einzellinien ist zwar prinzipiell möglich, führt jedoch zu einer sehr kleinen Tiefenschärfe und kritischen Stoßstellen.
- Ein weiteres Beispiel für eine Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene findet sich in der
WO 2005/085934 A1 - Das der vorliegenden Erfindung zugrunde liegende Problem ist die Schaffung einer Vorrichtung der eingangs genannten Art, mit der sich möglichst lange linienförmige Intensitätsverteilungen in einem vergleichsweise kurzen Abstand von der Vorrichtung und/oder den Laserlichtquellen erzeugen lassen.
- Dies wird erfindungsgemäß durch eine Vorrichtung der eingangs genannten Art mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1 erreicht. Die Unteransprüche betreffen bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung.
- Gemäß Anspruch 1 ist vorgesehen, dass die Vorrichtung weiterhin zweite Homogenisatormittel umfasst, die derart angeordnet sind, dass sie die von den Überlagerungsmitteln zumindest teilweise überlagerten Laserstrahlen zumindest in der ersten Richtung zumindest teilweise homogenisieren können. Die erfindungsgemäße Gestaltung ermöglicht die Aneinanderreihung mehrerer Einzellinien ohne die im Stand der Technik auftretenden Probleme. Es wird eine Überlagerung beziehungsweise Mischung oder Mittelung einer großen Anzahl von Laserlichtquellen ermöglicht, so dass mit diesem Ansatz sehr homogene Intensitätsverteilungen mit großer Tiefenschärfe und modularen Laserlichtquellen sowie skalierbarem Aufbau erreicht werden. Beispielsweise können beliebig viele zu der Strahlformung beitragenden Module nebeneinander angeordnet werden.
- Es besteht die Möglichkeit, dass die Überlagerungsmittel mindestens eine als Feldlinse dienende Linse umfassen, vorzugsweise eine Mehrzahl als Feldlinsen dienende Linsen umfassen. Dabei können die zweiten Homogenisatormittel einen Abstand zu der mindestens einen als Feldlinse dienenden Linse aufweisen, der größer als die Brennweite der mindestens einen Linse ist. Auf diese Weise sind die zweiten Homogenisatormittel in einer Ebene positioniert, in der die Intensitätsverteilung nahezu gleichförmig ist. Diese nahezu gleichförmige Intensitätsverteilung wird dann in eine homogene Winkelverteilung transformiert. Dabei entstehen jedoch keine steilen Flanken der Ortsverteilung, weil die Ebene, in der die zweiten Homogenisatormittel positioniert sind, hinter der Brennebene der Linse und damit hinter der homogenen Ebene der Vorhomogenisierung durch die ersten Homogenisatormittel angeordnet ist. Die Stoßstellen, an denen die einzelnen Laserstrahlen überlappen, sind durch diese Art der Strahlformung sehr unempfindlich bezüglich Tiefenschärfe und Inhomogenitäten seitens der Stoßstellen der Vorhomogenisierung.
- Es besteht die Möglichkeit, dass die zweiten Homogenisatormittel zweistufig ausgebildet sind. Dabei können die zweiten Homogenisatormittel mindestens ein Linsenarray, vorzugsweise zwei Linsenarrays, umfassen, wobei die vorzugsweise zwei Linsenarrays in Ausbreitungsrichtung der Laserstrahlen hintereinander angeordnet sind. Insbesondere können dabei die Linsenarrays der zweiten Homogenisatormittel derart ausgebildet und/oder zueinander beabstandet sein, dass sie die Laserstrahlen in der Arbeitsebene zumindest in der ersten Richtung zumindest teilweise miteinander überlagern können. Die zweiten Homogenisatormittel erfüllen somit die Funktion eines abbildenden Homogenisators, so dass zwischen den zweiten Homogenisatormitteln und der Arbeitsebene keine weitern Überlagerungsmittel angeordnet sein müssen. Durch den Verzicht auf diese weiteren Überlagerungsmittel kann der Abstand der Arbeitsebene von der Vorrichtung deutlich reduziert werden.
- Es kann vorgesehen sein, dass die Vorrichtung eine Mehrzahl von Laserlichtquellen für die Erzeugung der Mehrzahl von Laserstrahlen umfasst, wobei die Laserlichtquellen beispielsweise die Emitter mindestens eines Laserdiodenbarrens oder die Enden einer Mehrzahl von Lichtleitfasern sein können oder durch eine Mehrzahl von Strahlteilern realisiert werden können, mit denen das Licht eines Lasers in mehrere Teilstrahlen aufgeteilt werden kann.
- Es besteht die Möglichkeit, dass die einzelnen Laserstrahlen hinsichtlich ihrer Intensität geregelt, insbesondere unabhängig voneinander geregelt werden können. Auf diese Weise kann eine homogene Intensitätsverteilung über die gesamte Linienlänge gewährleistet werden.
- Weitere Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden deutlich anhand der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die beiliegenden Abbildungen. Darin zeigen
-
1 eine Draufsicht auf eine erfindungsgemäße Vorrichtung; -
2 eine Seitenansicht der Vorrichtung gemäß1 ; -
3 eine beispielhafte Intensitätsverteilung im Bereich der Eintrittsfläche der zweiten Homogenisatormittel; -
4 eine beispielhafte Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene. - Zur besseren Verständlichkeit der nachfolgenden Beschreibung sind
1 und2 mit einem kartesischen Koordinatensystem versehen. - Die abgebildete erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst eine Mehrzahl von lediglich schematisch dargestellten Laserlichtquellen
1 . Die einzelnen Laserlichtquellen1 sind in dem abgebildeten Ausführungsbeispiel in einer ersten Richtung, die der X-Richtung entspricht, beabstandet zueinander nebeneinander angeordnet. Von einer jeden der Laserlichtquellen1 geht jeweils ein Laserstrahl2 in positiver Z-Richtung aus. - Es kann sich bei den Laserlichtquellen
1 beispielweise um die Emitter mindestens eines Laserdiodenbarrens oder die Enden einer Mehrzahl von Lichtleitfasern handeln. Weiterhin besteht die Möglichkeit, dass das Licht eines Lasers durch eine Mehrzahl von Strahlteilern in mehrere Teilstrahlen aufgeteilt wird. - Es kann vorgesehen sein, dass die Intensitäten der von den einzelnen Laserlichtquellen
1 ausgehenden Laserstrahlen2 unabhängig voneinander geregelt werden können. Dazu können nicht abgebildete Regelmittel vorgesehen sein. - Es besteht durchaus die Möglichkeit, die Laserlichtquellen
1 gegen andere Laserlichtquellen auszutauschen. Weiterhin können weitere Laserlichtquellen hinzugenommen werden, wenn eine längere linienförmige Intensitätsverteilung erzeugt werden soll. - Die abgebildete erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst weiterhin in positiver Z-Richtung hinter den Laserlichtquellen
1 Kollimiermittel3 , die schematisch als ein Linsenarray mit einer Mehrzahl sphärischer Linsen dargestellt sind. Die Kollimiermittel3 können die Mehrzahl von Laserstrahlen2 zumindest teilweise kollimieren. - Die abgebildete erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst weiterhin in positiver Z-Richtung hinter den Kollimiermittel
3 erste Homogenisatormittel4 , die eine Mehrzahl von in der ersten Richtung nebeneinander angeordneten Linsenarrays5 aufweisen. Die ersten Homogenisatormittel4 dienen zur Vorhomogenisierung der Laserstrahlen2 . - Die Linsenarrays
5 weisen dabei jeweils eine Mehrzahl von in X-Richtung nebeneinander angeordneten Zylinderlinsen auf, deren Zylinderachsen sich in Y-Richtung erstrecken. In1 und2 sind die Brennebenen6 der Zylinderlinsenarrays5 eingezeichnet. Durch die in X-Richtung wirkende Brechkraft der Zylinderlinsen der Linsenarrays5 erfolgt eine Aufteilung der einzelnen Laserstrahlen2 in eine Mehrzahl von Teilstrahlen und ein Auseinanderlaufen in X-Richtung dieser Teilstrahlen hinter den Brennebenen6 . - Die abgebildete erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst weiterhin in positiver Z-Richtung hinter den Brennebenen
6 der ersten Homogenisatormittel4 Überlagerungsmittel7 , die durch ein Linsenarray mit einer Mehrzahl von Linsen8 gebildet sind. Die Linsen8 sind als Zylinderlinsen ausgebildet, deren Zylinderachsen sich ebenfalls in Y-Richtung erstrecken. Die Linsen8 weisen sämtlich die gleiche Brennweite auf und haben somit eine gemeinsame Brennebene9 . - Die Linsen
8 dienen als Feldlinsen und überlagern die einzelnen Teilstrahlen der von den Zylinderlinsen der Linsenarrays5 aufgespalteten Laserstrahlen2 jeweils in ihrer Brennebene9 . In dieser Brennebene9 sind die einzelnen Laserstrahlen2 in X-Richtung noch voneinander beabstandet. - Die abgebildete erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst weiterhin in positiver Z-Richtung hinter den Überlagerungsmitteln
7 und vor der Brennebene9 Fokussiermittel10 , die als Zylinderlinse ausgebildet sind, deren Zylinderachse sich in X-Richtung erstreckt. Die Fokussiermittel10 fokussieren die Mehrzahl von Laserstrahlen2 in einer zweiten Richtung, die der Y-Richtung entspricht, in ihrer Brennebene. Diese Brennebene entspricht der Arbeitsebene11 . - Die abgebildete erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst weiterhin in positiver Z-Richtung hinter der Brennebene
9 zweite Homogenisatormittel12 , die durch zwei in Z-Richtung hintereinander angeordnete Linsenarrays13 ,14 gebildet werden (siehe auch2 ). Die Linsen der Linsenarrays13 ,14 sind in X-Richtung nebeneinander angeordnet. Die Linsen der Linsenarrays13 ,14 sind als Zylinderlinsen ausgebildet, deren Zylinderachsen sich in Y-Richtung erstrecken. - Die zweiten Homogenisatormittel
12 sind in einem solchen Abstand in Z-Richtung hinter der Brennebene9 der Überlagerungsmittel7 angeordnet, dass die einzelnen Laserstrahlen2 in X-Richtung bereits überlappen (siehe1 ). -
3 zeigt eine beispielhafte Intensitätsverteilung auf der Eintrittsfläche des ersten Linsenarrays13 . Dabei ist in willkürlichen Einheiten horizontal die X-Richtung und vertikal die Intensität15 aufgezeichnet. Es zeigt sich, dass die Laserstrahlen2 in X-Richtung schon überlagert sind, gleichzeitig aber noch Intensitätsschwankungen in X-Richtung vorhanden sind. Dies hat seinen Grund in der noch nicht sehr homogenen Überlagerung der einzelnen gestrichelt angedeuteten Intensitäten16 der einzelnen Laserstrahlen2 . - In positiver Z-Richtung hinter den zweiten Homogenisatormitteln
12 sind keine weiteren Überlagerungsmittel angeordnet. Vielmehr ist der Abstand zwischen den beiden Linsenarrays13 ,14 so gewählt, dass die einzelnen Laserstrahlen2 in der Arbeitsebene11 homogen überlagert werden. -
4 zeigt dementsprechend eine beispielhafte Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene. Dabei ist in willkürlichen Einheiten horizontal die X-Richtung und vertikal die Intensität17 aufgezeichnet. Es zeigt sich, dass die Laserstrahlen2 in X-Richtung sehr homogenen überlagert sind. Auf diese Weise lässt sich eine sehr lange und sehr homogene linienförmige Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene11 erreichen, deren Längsrichtung sich in X-Richtung erstreckt. - Aufgrund der erfindungsgemäßen Gestaltung ist die homogene Überlagerung der einzelnen Laserstrahlen
2 nicht nur in der Arbeitsebene11 , sondern auch in beispielhaft davor und dahinter eingezeichneten Ebenen18 ,19 sehr gut. Es ergibt sich also eine vergleichsweise große Tiefenschärfe der gewünschten Intensitätsverteilung. Bei entsprechend gewählten Fokussiermitteln trifft dies auch auf die Y-Richtung beziehungsweise die Richtung senkrecht zur Längsrichtung der linienförmigen Intensitätsverteilung zu. - In
1 und2 ist hinter den zweiten Homogenisatormitteln12 schematisch ein Fenster20 angedeutet, das ein nicht abgebildetes Gehäuse verschließen kann, in dem die Vorrichtung ganz oder teilweise untergebracht sein kann. - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- DE 102007052782 A1 [0003]
- WO 2005/085934 A1 [0005]
Claims (13)
- Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene (
11 ), umfassend – erste Homogenisatormittel (4 ), die eine Mehrzahl von in einer ersten Richtung (X) nebeneinander verlaufenden Laserstrahlen (2 ) zumindest teilweise homogenisieren können, – Überlagerungsmittel (7 ), die derart angeordnet sind, dass sie die von den ersten Homogenisatormitteln (4 ) zumindest teilweise homogenisierten Laserstrahlen (2 ) zumindest in der ersten Richtung (X) zumindest teilweise überlagern können, dadurch gekennzeichnet, dass – die Vorrichtung weiterhin zweite Homogenisatormittel (12 ) umfasst, die derart angeordnet sind, dass sie die von den Überlagerungsmitteln (7 ) zumindest teilweise überlagerten Laserstrahlen (2 ) zumindest in der ersten Richtung (X) zumindest teilweise homogenisieren können. - Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Richtung (X) der Längsrichtung der zu erzeugenden linienförmigen Intensitätsverteilung entspricht.
- Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Überlagerungsmittel (
7 ) mindestens eine als Feldlinse dienende Linse (8 ) umfassen, vorzugsweise eine Mehrzahl als Feldlinsen dienende Linsen (8 ) umfassen. - Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die zweiten Homogenisatormittel (
12 ) einen Abstand zu der mindestens einen als Feldlinse dienenden Linse (8 ) aufweisen, der größer als die Brennweite der mindestens einen Linse (8 ) ist. - Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die zweiten Homogenisatormittel (
12 ) zweistufig ausgebildet sind. - Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die zweiten Homogenisatormittel (
12 ) mindestens ein Linsenarray (13 ,14 ), vorzugsweise zwei Linsenarrays (13 ,14 ), umfassen, wobei die vorzugsweise zwei Linsenarrays (13 ,14 ) in Ausbreitungsrichtung (Z) der Laserstrahlen (2 ) hintereinander angeordnet sind. - Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Linsenarrays (
13 ,14 ) der zweiten Homogenisatormittel (12 ) derart ausgebildet und/oder zueinander beabstandet sind, dass sie die Laserstrahlen (2 ) in der Arbeitsebene (11 ) zumindest in der ersten Richtung(X) zumindest teilweise miteinander überlagern können. - Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen den zweiten Homogenisatormitteln (
12 ) und der Arbeitsebene (11 ) keine Überlagerungsmittel angeordnet sind. - Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten Homogenisatormittel (
4 ) eine Mehrzahl von in der ersten Richtung nebeneinander angeordneten Linsenarrays (5 ) umfassen. - Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung weiterhin Fokussiermittel (
10 ) umfasst, die die Mehrzahl von Laserstrahlen (2 ) in einer zweiten Richtung (Y), die senkrecht zu der ersten Richtung (X) ist, fokussieren können, wobei die Fokussiermittel (10 ) insbesondere zwischen den Überlagerungsmitteln (7 ) und den zweiten Homogenisatormitteln (12 ) angeordnet sind. - Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung weiterhin Kollimiermittel (
3 ) umfasst, die die Mehrzahl von Laserstrahlen (2 ) zumindest teilweise kollimieren können, wobei die Kollimiermittel (3 ) insbesondere vor den ersten Homogenisatormitteln (4 ) angeordnet sind. - Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung eine Mehrzahl von Laserlichtquellen (
1 ) für die Erzeugung der Mehrzahl von Laserstrahlen (2 ) umfasst, wobei die Laserlichtquellen (1 ) beispielsweise die Emitter mindestens eines Laserdiodenbarrens oder die Enden einer Mehrzahl von Lichtleitfasern sein können oder durch eine Mehrzahl von Strahlteilern realisiert werden können, mit denen das Licht eines Lasers in mehrere Teilstrahlen aufgeteilt werden kann. - Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Laserstrahlen (
2 ) hinsichtlich ihrer Intensität geregelt, insbesondere unabhängig voneinander geregelt werden können.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010045620.9A DE102010045620B4 (de) | 2010-09-17 | 2010-09-17 | Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010045620.9A DE102010045620B4 (de) | 2010-09-17 | 2010-09-17 | Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102010045620A1 true DE102010045620A1 (de) | 2012-03-22 |
DE102010045620B4 DE102010045620B4 (de) | 2016-09-01 |
Family
ID=45768865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102010045620.9A Expired - Fee Related DE102010045620B4 (de) | 2010-09-17 | 2010-09-17 | Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102010045620B4 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113924522A (zh) * | 2019-03-12 | 2022-01-11 | 相干激光系统有限公司 | 用于形成具有较亮边缘或较暗边缘的均匀强度分布的设备 |
CN115268094A (zh) * | 2020-08-27 | 2022-11-01 | 西安炬光科技股份有限公司 | 一种光学模组及激光模组 |
US11973319B2 (en) | 2017-11-17 | 2024-04-30 | Uab Brolis Semiconductors | Radiant beam combining of multiple multimode semiconductor laser diodes for directional laser beam delivery applications |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040213514A1 (en) * | 2003-04-24 | 2004-10-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Beam homogenizer, laser irradiation apparatus, and method for manufacturing semiconductor device |
WO2005085934A1 (de) | 2004-03-06 | 2005-09-15 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur erzeugung eines linearen fokusbereichs einer laserlichtquelle |
US20080013182A1 (en) * | 2006-07-17 | 2008-01-17 | Joerg Ferber | Two-stage laser-beam homogenizer |
DE102007044298B3 (de) * | 2007-09-17 | 2009-02-26 | Coherent Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Erzeugen eines Laserstrahls mit einem linienhaften Strahlquerschnitt |
DE102007052782A1 (de) | 2007-11-02 | 2009-05-07 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Veränderung der Eigenschaften einer TCO-Schicht |
DE102007057868A1 (de) * | 2007-11-29 | 2009-06-04 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Strahlformung |
DE102008027229A1 (de) * | 2008-06-06 | 2009-12-10 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Strahlformung |
-
2010
- 2010-09-17 DE DE102010045620.9A patent/DE102010045620B4/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040213514A1 (en) * | 2003-04-24 | 2004-10-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Beam homogenizer, laser irradiation apparatus, and method for manufacturing semiconductor device |
WO2005085934A1 (de) | 2004-03-06 | 2005-09-15 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur erzeugung eines linearen fokusbereichs einer laserlichtquelle |
US20080013182A1 (en) * | 2006-07-17 | 2008-01-17 | Joerg Ferber | Two-stage laser-beam homogenizer |
DE102007044298B3 (de) * | 2007-09-17 | 2009-02-26 | Coherent Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Erzeugen eines Laserstrahls mit einem linienhaften Strahlquerschnitt |
DE102007052782A1 (de) | 2007-11-02 | 2009-05-07 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Veränderung der Eigenschaften einer TCO-Schicht |
DE102007057868A1 (de) * | 2007-11-29 | 2009-06-04 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Strahlformung |
DE102008027229A1 (de) * | 2008-06-06 | 2009-12-10 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Strahlformung |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11973319B2 (en) | 2017-11-17 | 2024-04-30 | Uab Brolis Semiconductors | Radiant beam combining of multiple multimode semiconductor laser diodes for directional laser beam delivery applications |
CN113924522A (zh) * | 2019-03-12 | 2022-01-11 | 相干激光系统有限公司 | 用于形成具有较亮边缘或较暗边缘的均匀强度分布的设备 |
CN115268094A (zh) * | 2020-08-27 | 2022-11-01 | 西安炬光科技股份有限公司 | 一种光学模组及激光模组 |
CN115268094B (zh) * | 2020-08-27 | 2023-06-02 | 西安炬光科技股份有限公司 | 一种光学模组及激光模组 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102010045620B4 (de) | 2016-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2288955B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur strahlformung | |
DE502007012156C5 (de) | Vorrichtung zur strahlformung | |
EP2399158B1 (de) | Vorrichtung zur homogenisierung von laserstrahlung | |
WO2009068192A1 (de) | Vorrichtung zur strahlformung | |
DE102009021251A1 (de) | Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung sowie Laservorrichtung mit einer derartigen Vorrichtung | |
EP1839083A1 (de) | Vorrichtung zur homogenisierung von licht | |
EP2401646A1 (de) | Vorrichtung zur homogenisierung von laserstrahlung | |
DE102008027229B4 (de) | Vorrichtung zur Strahlformung | |
EP2054751A1 (de) | Vorrichtung zur homogenisierung von licht sowie laservorrichtung zur erzeugung einer linienförmigen intensitätsverteilung in einer arbeitsebene | |
WO2005085935A1 (de) | Vorrichtung zur homogenisierung von licht sowie anordnung zur beleuchtung oder fokussierung mit einer derartigen vorrichtung | |
DE102010045620B4 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene | |
EP2976672B1 (de) | Vorrichtung zur homogenisierung eines laserstrahls | |
DE3829728A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum homogenisieren der intensitaetsverteilung im querschnit eines laserstrahls | |
WO2008087012A1 (de) | Vorrichtung zur homogenisierung von licht sowie vorrichtung zur erzeugung einer linienförmigen intensitätsverteilung in einer arbeitsebene | |
EP1384105B1 (de) | Strahlformungsvorrichtung zur aenderung des strahlquerschnitts eines lichtstrahls | |
EP2101201B1 (de) | Vorrichtung zur Aufteilung eines Lichtstrahls | |
DE102008017947A1 (de) | Vorrichtung, Anordnung und Verfahren zur Homogenisierung zumindest teilweise kohärenten Laserlichts | |
DE102021130604B3 (de) | Vorrichtung zur Formung einer Laserstrahlung und Laservorrichtung | |
DE102008024697B4 (de) | Vorrichtung zur Homogenisierung zumindest teilweise kohärenten Laserlichts | |
EP2898362A1 (de) | Vorrichtung zur erzeugung einer linienförmigen intensitätsverteilung einer laserstrahlung in einer arbeitsebene | |
DE102017106661B4 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung einer Laserstrahlung | |
DE102017010698B4 (de) | Anordnungen zur Formung von gepulsten Laserstrahlen | |
WO2003005103A1 (de) | Element zur fokussierung der strahlung eines laserdiodenbarrens | |
WO2006119785A1 (de) | Vorrichtung zur aufteilung elektromagnetischer strahlung in eine mehrzahl gleicher teilstrahlen | |
EP1725902A1 (de) | Vorrichtung zur homogenisierung von licht sowie anordnung zur beleuchtung oder fokussierung mit einer derartigen vorrichtung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R079 | Amendment of ipc main class |
Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: G02B0005090000 Ipc: G02B0027090000 |
|
R163 | Identified publications notified | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: LIMO PATENTVERWALTUNG GMBH & CO. KG, DE Free format text: FORMER OWNER: LIMO PATENTVERWALTUNG GMBH & CO. KG, 36419 GERSTENGRUND, DE Effective date: 20120531 Owner name: LIMO GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: LIMO PATENTVERWALTUNG GMBH & CO. KG, 36419 GERSTENGRUND, DE Effective date: 20120531 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: FRITZ PATENT- UND RECHTSANWAELTE PARTNERSCHAFT, DE Effective date: 20120531 Representative=s name: FRITZ PATENT- UND RECHTSANWAELTE, DE Effective date: 20120531 |
|
R012 | Request for examination validly filed |
Effective date: 20120727 |
|
R084 | Declaration of willingness to licence | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: LIMO GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: LIMO PATENTVERWALTUNG GMBH & CO. KG, 44319 DORTMUND, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: FRITZ PATENT- UND RECHTSANWAELTE PARTNERSCHAFT, DE |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |