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Die Erfindung betrifft allgemein das Nachbearbeiten von Glas- und Glaskeramikscheiben, insbesondere ein Verfahren und eine Vorrichtung zur mechanischen Nachbearbeitung.
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Vorrichtungen zur Nachbehandlung von Glasscheiben sind unter anderem aus der
DE 38 39 150 C1 , der
JP 2004 167634 A , der
DE 411 201 A , der
US 4,833,832 A , der
JP 2004 195602 A und der
US 2005/0020193 A1 bekannt. Die
DE 38 39 150 C1 beschreibt dabei eine Maschine zum Bearbeiten von Flachglas, welche eine auf einem Spanntisch hin- und herfahrbahre Brücke mit einer Längsführung für mehrere Schlitten vorgesehen ist. Die Schlitten dienen zur Aufnahme von Werkzeug- und/oder Werkstückträgern, die leicht auswechselbare Glasbearbeitungsmodule bilden.
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Aus der
JP 2004 167634 A ist eine Poliervorrichtung bekannt, bei welcher das Substrat mittels einer Andruckplatte gegen einen Schleifer gedrückt wird. Die Andruckplatte ist zur Kompensation von Temperaturunterschieden konkav geformt. Der Schleifer weist einen Durchmesser auf, der größer ist, als das zu bearbeitende Substrat.
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Die
DE 411 201 A beschreibt eine Vorrichtung zum Grobschleifen, Feinschleifen und Polieren von Spiegelscheiben. Dazu werden mehrere Gruppen von Schleifscheiben verwendet, wobei jede Gruppe in einem Zwischenträger gelagert ist, der an einem Hauptträger sitzt und um eine senkrecht zur Arbeitsfläche liegende Achse drehbar ist. Um die Ausbildung von Strassen oder Bahnstrukturen beim Schleifen zu vermeiden, sind die Achsen der einzelnen Schleifscheiben auf einer Spirallinie um die Achse des jeweiligen Zwischenträgers angeordnet.
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Die
US 4,833,832 A beschreibt ein Verfahren zum Polieren von Glasscheiben, bei welchem das Glas mit einer Vielzahl von Diamant-Schleifscheiben bearbeitet wird, die an einem horizontalen Gerüst befestigt sind. Am Gerüst können die rotierenden Schleifscheiben über die obere Fläche des horizontal gelagerten Glases geführt werden. Die Diamantscheiben werden auf eine gemeinsame Höhe eingestellt, die etwas niedriger ist, als die Höhe der Glasoberfläche und dann über die Glasscheibe geführt, so daß eine Schicht des Glases von der Oberfläche entfernt wird.
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Die
JP 2004 195602 A beschreibt ein Verfahren zum Polieren von Glasscheiben für Farbfilter von LCD-Anzeigen mit Größen bis 900 mm × 1100 mm. Dabei wird eine vierkantige Polierplatte eingesetzt, deren Länge größer als die Breite der Glasscheibe ist. Das Substrat wird exzentrisch rotiert, während die Polierplatte über das Glassubstrat bewegt wird und senkrecht zu deren Vorschubrichtung schwingt.
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Aus der
US 2005/0020193 A1 ist es weiterhin bekannt, die Kanten von Glassubstraten mit einem rotiererenden Riemen abzurunden.
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Bei der Herstellung von Flachglas-Scheiben aus Glaskeramik, beispielsweise als Feuerschutz- oder Hitzeschutzgläser, ist neben der Schutzfunktion auch eine hohe Transparenz und konturgetreue Durchsicht wünschenswert.
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Die Grüngläser für Glaskeramik-Scheiben werden üblicherweise durch Walzen hergestellt. Durch das Walzen des noch formbaren Glaspostens auf das gewünschte geometrische Format erhält die Scheibe keine perfekt glatte Oberfläche, sondern ein Oberflächenprofil in Gestalt einer sogenannten Orangenhaut. Diese punktuelle Texturierung der Oberfläche vermindert neben der ebenfalls vorhandenen Welligkeit die klare, konturgenaue Durchsicht und Objekte erscheinen durch die Scheibe in gewissem Masse verschwommen. Die Ausprägung dieser Oberflächentopographien liegt im Allgemeinen in der Größenordnung kleiner 1 Mikrometer für die Orangenhaut und einige Mikrometer für die Welligkeit.
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Auch bei Glaskeramik-Scheiben, bei denen die Grünglas-Scheiben im Float-Verfahren hergestellt wurden, können Beeinträchtigungen der Oberfläche vorhanden sein. Durch den Kontakt mit dem Zinnbad auf der einen Seite und. der Hüttenatmosphäre auf der anderen Seite kommt es zu einer Kontamination der Oberflächen, was beispielsweise in der Anwendung als Hitzeschilde zu Trübungen und/oder Festigkeitsverlusten führen kann. Die Dicke der kontaminierten Oberflächenschicht beträgt typischerweise 5 bis 10 Mikrometer.
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Werden Glasscheiben aus den vorstehend genannten Fertigungsprozessen für das Grünglas nun nachbearbeitet, so entstehen aus Dickenunterschieden mit größerer lateraler Strukturgröße, die bis zu 200 Mikrometer betragen können, zusätzliche Probleme, da diese Welligkeit der Oberfläche einen homogenen Abtrag der Oberflächenschicht nicht gestattet.
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Werden die Gläser nachbearbeitet, ist daher vor dem eigentlichen Polierprozess eine gewisse Einebnung wünschenswert, vorzugsweise mit einem Abtrag zwischen 50 bis 100 Mikrometern. Nach Einebnung und Polieren wird dann eine glatte und im wesentlichen fehlerfreie Oberfläche erhalten, welche in der Anwendung, wie etwa als Sichtscheibe, eine konturgenaue Durchsicht ohne Beeinträchtigung der Festigkeit ermöglicht.
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Um derartige Oberflächen zu erhalten, werden die Scheiben bislang in aufwändigen und sehr zeitraubenden Polierprozessen in zwei Stufen auf zwei getrennten Poliermaschinen nachbearbeitet. Glaskeramik-Scheiben mit Abmessungen von mehreren Quadratmetern sind über die Fläche nicht plan, so dass nicht alle Bereiche der Oberfläche von den planen Polierwerkzeugen gleichmäßig mit gleicher Abtragsleistung erreicht werden. Um dennoch auch auf den schwerer zugänglichen Oberflächenbereichen einen Mindestabtrag zu gewährleisten, müssen entweder in einem Feinschleifprozess auf einer Schleifmaschine die Unebenheiten beseitigt werden, bevor in einem zweiten Bearbeitungsschritt in Form eines Polierschritts auf einer separaten Poliermaschine die Endqualität erreicht werden kann, oder es werden auf einer Poliermaschine in einem Polierschritt mit geringer Abtragsleistung lange Prozesszeiten durch zeitraubende Einebnung und Politur in Kauf genommen werden.
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Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, das Nachbearbeiten von Glas- oder Glaskeramikscheiben bei vergleichbarer Qualität der Oberflächen der nachbearbeiteten Scheiben zu vereinfachen und zu beschleunigen. Diese Aufgabe wird durch den Gegenstand der unabhängigen Ansprüche gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung sind in den jeweiligen abhängigen Ansprüchen angegeben.
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Aus der
WO 2007/014732 A2 ist es bekannt, mehrere Bänke von Polierköpfen einzusetzen, wobei die mehreren Bänke eine Glasscheibe schrittweise mit mehreren aufeinander aufbauenden materialabtragenden Polierschritten, insbesondere in der zeitlichen Abfolge mit immer feineren Poliermitteln nachbehandeln. Werden dabei mehrere Polierbänke für unterschiedliche Polierstufen gleichzeitig eingesetzt, das Substrat also gleichzeitig in mehreren. aufeinander aufbauenden materialabtragenden Schritten behandelt, so sind zwischen den Polierbänken außerdem noch Reinigungseinrichtungen vorhanden, welche Poliermittel der jeweils vorangegangenen Polierstufe mit gröberem Polierkorn entfernen. Auf diese Weise wird verhindert, dass zu grobes Poliermittel das Ergebnis eines nachfolgenden feineren Polierschrittes beeinträchtigt.
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Der Erfindung liegt unter anderem die Erkenntnis zugrunde, dass der Materialabtrag in zeitlicher Abfolge und nahezu gleichzeitig durchgeführten, aufeinander aufbauenden Abtragsschritten weiter vereinfacht werden kann, indem ein Poliermittel gleichzeitig für zumindest zwei aufeinander aufbauende Abtragsschritte eingesetzt wird.
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Dazu sieht die Erfindung ein Verfahren zur glättenden Nachbearbeitung von Glas- oder Glaskeramikscheiben vor, bei welchem
- – mit mehreren Abtragswerkzeugen Material von der nachzubearbeitenden Oberfläche einer Glas- oder Glaskeramik-Scheibe abgetragen wird, wobei die Abtragswerkzeuge Abtragsflächen aufweisen, welche jeweils um eine Achse senkrecht zur Abtragsfläche rotieren, wobei
- – die Abtragswerkzeuge entlang vorbestimmter Bahnen, insbesondere mit gleichem Vorschub aber vorzugsweise unterschiedlichen Prozessparametern wie Druck und Umdrehungsgeschwindigkeit über die nachzubearbeitende Oberfläche geführt werden, wobei die Bahnen einander überlappen, und wobei
- – zumindest ein erstes Abtragswerkzeug die nachzubearbeitende Oberfläche mit einem gebundenen Abrasiv als Schleifmittel einer ersten Körnung schleift und
- – zumindest ein zweites Abtragswerkzeug die vom zumindest einen ersten Abtragswerkzeug geschliffene Oberfläche mit einem zweiten, losen Abrasiv als Poliermittel mit gegenüber dem ersten Schleifmittel feinerer Körnung poliert, wobei das zweite Abrasiv eine Slurry umfasst, und wobei
- – diese Slurry auch zwischen der Abtragsfläche des zumindest einen ersten Abtragswerkzeugs als zusätzliches feinkörniges Abrasiv und Kühlmittel und der nachzubearbeitenden Oberfläche während des Schleifens eingebracht wird.
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Die Abtragsprozesse finden zwar insofern zeitgleich statt, als das erste und das zweite Abtragswerkzeug zumindest zeitweise gleichzeitig die Oberfläche bearbeiten, sind aber dennoch zeitlich gestaffelt, da das zweite Werkzeug die bereits vom ersten Werkzeug bearbeiteten Flächen poliert.
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Zunächst wird also der erste materialabtragende Prozess durch das Einfahren der Feinschleifwerkzeuge in das Werkstück gestartet und nach Bearbeiten der ersten Bahnen der zweite materialabtragende Prozess durch das Einfahren der Polierbänke in das durch die Feinschleifwerkzeuge schon vorbehandelte Werkstück gestartet. Zuletzt wird der erste materialabtragende Prozess auch als erster durch das Herausfahren der Feinschleifwerkzeuge beendet, bevor auch die Polierbänke nach Abfahren der letzten Bahnen aus dem Werkzeug herausfahren. Die Werkzeuge bearbeiten also mithin zwar teilweise zeitgleich das Werkstück, jedoch nicht gleichzeitig den gleichen Oberflächenbereich.
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Eine entsprechende Vorrichtung zur glättenden Nachbearbeitung von Glas- oder Glaskeramikscheiben basiert auf
- – mehreren Abtragswerkzeugen und
- – einem Bewegungsmechanismus, mit welchem die mehreren Abtragswerkzeuge über eine nachzubearbeitende Oberfläche einer Glas- oder Glaskeramik-Scheibe geführt werden und Material mit den mehreren Abtragswerkzeugen abgetragen wird, wobei die Abtragswerkzeuge Abtragsflächen und einen Rotationsantrieb aufweisen, mit welchem die Abtragsflächen jeweils um eine Achse senkrecht zur Abtragsfläche rotiert werden, wobei
- – der Bewegungsmechanismus so ausgebildet ist, dass die Abtragswerkzeuge entlang vorbestimmter Bahnen, insbesondere mit gleichem Vorschub, aber gegebenenfalls auch unterschiedlichen Prozessparametern wie Druck und Umdrehungsgeschwindigkeit über die nachzubearbeitende Oberfläche geführt werden, wobei die Bahnen einander überlappen, und wobei
- – zumindest ein erstes Abtragswerkzeug eine Abtragsfläche mit einem Schleifmittel einer ersten gebundenen Körnung aufweist und
- – zumindest ein zweites Abtragswerkzeug einen Polierkopf als Abtragsfläche aufweist, wobei eine Zuführeinrichtung vorgesehen ist, welche dem Polierkopf ein zweites, loses Abrasiv mit gegenüber dem ersten Schleifmittel feinerer Körnung in Form einer Slurry zuführt, und wobei
- – diese Slurry mittels einer Zuführeinrichtung auch der Abtragsfläche des zumindest einen ersten Abtragswerkzeugs und der nachzubearbeitenden Oberfläche während des Schleifens und nachfolgenden Polierens zugeführt wird.
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Die Erfindung ist gut geeignet zur Nachbearbeitung von Glas- oder Glaskeramikscheiben mit Dicken im Bereich von 2 bis 8 mm Dicke, die mit Walz- und/oder Floatprozessen hergestellt sind und dabei Dickenschwankungen bis 200 Mikrometer aufweisen. Die Scheiben weisen vorzugsweise eine Fläche größer 1 m2 auf, da sich die hohe Effektivität des erfindungsgemäßen Prozesses besonders bei großen Scheiben auswirkt.
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Hinsichtlich der Bewegung der Abtragswerkzeuge über die nachzubearbeitende Scheibe hat es sich in Bezug auf einen gleichmäßigen Abtrag als besonders vorteilhaft erwiesen, wenn die Abtragswerkzeuge mittels eines entsprechenden geeigneten Bewegungsmechanismus entlang zueinander paralleler Bahnen bewegt werden. Die Bahnen sind weiterhin bevorzugt geradlinig. Durch geradlinige, parallele Bahnen lässt sich die Einwirkungsdauer der Abtragswerkzeuge auf die Oberflächenbereiche genau festlegen. Zudem wird auf diese Weise eine gleichmäßige Einwirkungsdauer über die gesamte nachbearbeitete Oberfläche hinweg erzielt. Es wird jedoch nicht ausgeschlossen, dass dieses Ziel möglicherweise auch mit einem anderen Bewegungsmuster erzielt wird. Jedoch kommt angesichts der mit der Erfindung erzielbaren Verkürzung der Prozesszeit einer über die Oberfläche hinweg gleichmäßigen Bearbeitungszeit eine besondere Bedeutung zu. Im Gegensatz dazu könnte mit einer vollständig stochastischen oder quasi-zufälligen Bewegung eine derartige Verkürzung der Bearbeitungsdauer nicht erzielt werden, da in diesem Fall lange geschliffen und/poliert werden müsste, um im Mittel wieder einen über die Oberfläche hinweg gleichmäßigen Abtrag zu erzielen. Den Bahnen kann aber dennoch gegebenenfalls eine weitere, auch stochastische Bewegung überlagert werden, etwa, um stufenartige Höhendifferenzen an den Rändern der Bahnen zu vermeiden.
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Mit der Erfindung wird überdies ein gleichmäßiger Abtrag bis hin zum Rand der Glas- oder Glaskeramikscheibe ermöglicht, wenn die Abtragswerkzeuge während des Abtrags mit dem Rand der Abtragsflächen über den Rand der Glas- oder Glaskeramikscheibe hinaus bewegt werden, wobei dabei die Rotationsachse auf der Glas- oder Glaskeramikscheibe verbleibt. Für die Gleichmäßigkeit des Abtrags am Rand ist es dabei günstig, wenn die Abtragswerkzeuge zumindest bis zu einem Drittel des Durchmessers der Abtragsflächen über den Rand hinaus bewegt werden.
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Selbstverständlich werden dabei die Werkzeuge so über die Oberfläche des nachzubearbeitenden Substrats geführt, dass die Oberflächenbereiche jeweils zuerst vom zumindest einen ersten, dann zeitlich danach vom zumindest einem zweiten Abtragswerkzeug auf einer Maschine ohne Handlingsaufwand zwischen den beiden Bearbeitungsschritten überfahren werden.
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Es wurde überraschend gefunden, dass für beide Prozessschritte die als Abrasiv für die Politur eingesetzte Slurry auch als Abrasiv und/oder Kühlmittel für den Schleifkopf, beziehungsweise das erste Abtragswerkzeug fungieren kann. Noch überraschender ist es, dass es ohne Qualitätseinbussen möglich ist, die Slurry im Umlauf zu betreiben, ohne Gefahr zu laufen, im Polierschritt Kratzer durch freigesetzte Schleifpartikel von der Abtragsfläche des ersten Werkzeugs zu erhalten. Hier ist beachtenswert, dass bereits ein einziges Korn des gröberen Schleifmittels mit erster Körnung auf dem Polierkopf das gesamte Poliererebnis zunichte machen kann. Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung wird also die Slurry im Umlauf betrieben, wobei die nach den Schleif-, beziehungsweise Polierschritten zurückbleibende Slurry wieder aufgesammelt und den beiden Abtragswerkzeugen erneut zugeführt wird. Gemäß dieser Weiterbildung der Erfindung ist also eine Umlauf-Zuführeinrichtung für die Slurry vorgesehen, wobei die Umlauf-Zuführeinrichtung eine Einrichtung zum Aufsammeln der nach dem Schleifen und Polieren zurückbleibenden Slurry und eine Einrichtung zum erneuten Zuführen der aufgesammelten Slurry zu den ersten und zweiten Abtragswerkzeugen umfasst.
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Eine Slurry ist im allgemeinen eine Suspension oder Dispersion eines Abrasivmittels in einer Flüssigkeit. Bevorzugt wird als Slurry eine Suspension von Ceroxid in Wasser eingesetzt. Möglich sind aber auch andere Abrasive und auch Flüssigkeiten, beispielsweise Öle und Additive zur Verhinderung der Sedimentation und Agglomeration der Abrasivkörner im Wasser. Geeignet sind verschiedene Phosphate, wie z. B. Mono-Natriumphosphat-Hydrat (NaH2PO4), Dinatrium-Phosphat (Na2HPO4), Natriumpyrophosphat (Na4P2O7), sowie organische Salze, wie Natrium-Citrat (C6H5Na3O7) oder C12H25NaOS.
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Mit der Erfindung wird es möglich, die unterschiedlichen Prozesse des Schleifens und Polierens auf einer Maschine ohne getrennte Führung der flüssigen Prozesszuläufe und Abläufe, beziehungsweise mit einer gemeinsamen Zuführung und Abführung von Abrasiv- und Kühlmittel für beide Prozeßschritte zu realisieren. Damit konnten nahezu 40% der ansonsten üblichen Prozesszeit mit getrennten Schleif- und Poliervorgängen eingespart werden.
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Das Schleifmittel einer ersten Körnung weist bevorzugt eine Körnung von zumindest 8 Mikrometern, besonders bevorzugt eine Körnung bis höchstens 40 Mikrometern auf. Für die Slurry kommt ein Abrasiv zum Einsatz, dessen Körnung vorzugsweise bei kleiner 2 Mikrometern bei Normalverteilung liegt. Die vorstehenden Größenangaben beziehen sich jeweils auf den mittleren Durchmesser der Körner. Für das oder die ersten Abtragswerkzeuge haben sich Diamantfolien oder diamantbesetzte Metallscheiben bewährt. Es können aber auch andere Abrasivstoffe, beispielsweise Korund, Siliziumcarbid, etc. eingesetzt werden. Für die Abtragsfläche des Polierwerkzeugs, beziehungsweise des zumindest einen zweiten Abtragswerkzeugs hat sich Filz oder ein Elastomer, vorzugsweise Polyurethan, am besten bewährt.
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Beim Umlaufbetrieb der Slurry ist es dann günstig, eine Trenneinrichtung vorzusehen, welcher der Einrichtung zum erneuten Zuführen der Slurry vorgeschaltet ist, und mit welcher Grob- und Feinanteile der Feststoffe in der Slurry getrennt werden. Die Slurry aus den Rückläufen der aus dem Gesamtprozess abgeführten Slurry weist im allgemeinen a) Anteile von Grobabrieb durch das Feinschleifen, beziehungsweise dem Abtrag der ersten Abtragswerkzeuge, b) entsprechenden Feinabrieb aus dem Polierprozess mit dem zumindest einen zweiten Abtragswerkzeug, c) Fremdpartikel aus der Umgebung, und d) eine sich ändernde Verteilung an Korngrössen des Abrasivs der Slurry auf.
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Um den Feststoffanteil zu sieben und geeignet in Grob- und Feinanteil zu trennen, eignet sich besonders eine Zentrifuge oder ein Zyklon. Damit kann dann durch die Trennung der erneute Zufluss zu den beiden Prozessschritten des Feinschleifens und des Polierens mit dem Unterlauf mit den Grobanteilen der Slurry für das Feinschleifen und die Versorgung des Polierprozesses aus dem Oberlauf mit den Feinanteilen der Slurry, der Grobanteil von Feststoffen, vor allem aber keinen Anteil des Schleifmittels erster Körnung mehr aufweist, gewährleistet werden. Unter anderem ist auch ein Sedimentationsbecken als Trenneinrichtung denkbar, welches allerdings langsamer wirkt als eine Zentrifuge oder ein Zyklon, so dass hier insgesamt eine größere Menge an Slurry bereitzustellen ist. Unabhängig von der Art der Trenneinrichtung wird dann vorteilhaft nur der Anteil der Slurry mit feineren Feststoffen den Abtragswerkzeugen wieder zugeführt.
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Es hat sich für einen schnellen und gleichmäßigen Abtrag weiterhin als günstig erwiesen, wenn die Durchmesser der Abtragsflächen für den Schleifvorgang und das nachfolgende Polieren unterschiedlich sind. Insbesondere ist es dabei günstig, wenn die Abtragsfläche des zumindest einen ersten Abtragswerkzeugs einen größeren Durchmesser als die Abtragsfläche des zumindest einen zweiten Abtragswerkzeugs aufweist. Um die typischen beim Walzen hervorgerufenen Dickenunterschiede des Glases bis zu 200 Mikrometern wirkungsvoll einebnen zu können, ist für Glas-/Glaskeramikplatten, insbesondere mit der genannten Fläche größer 1 m2 ein Durchmesser der ersten Abtragsfläche von größer als 500 Millimetern günstig. Der Durchmesser der Abtragsfläche des zumindest einen zweiten Abtragswerkzeugs wird dann entsprechend kleiner als 500 Millimeter gewählt.
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In Bezug auf einen gleichmäßigen Abtrag ist es weiterhin günstig, wenn die von den Abtragswerkzeugen überfahrenen Bahnen um zumindest 20%, vorzugsweise um mindestens ein Drittel ihrer Breite, beziehungsweise ihres Durchmessers überlappen. Dies gilt vorzugsweise jeweils separat für die von dem oder den ersten Abtragswerkzeugen, als auch für die von dem oder den zweiten Abtragswerkzeugen überfahrenen Bahnen. Überlappen die Bahnen zu wenig, können sichtbare Streifen unterschiedlicher Höhe entlang der Bahnen hervorgerufen werden.
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Um die Bearbeitungszeit kurz zu halten, ist es außerdem vorteilhaft, die Abtragswerkzeuge in mäanderförmigem Pfad über die nachzubearbeitende Oberfläche zu führen. Dazu können die Abtragswerkzeuge beim Abtrag in Richtung entlang der Bahnen vor und zurück bewegt werden, wobei intermittierend die zu bearbeitende Scheibe relativ zu den Abtragswerkzeugen quer zu den Bahnen bewegt wird.
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Um Prozesszeit einzusparen, ist es möglich, den Prozess in Bezug auf die Körnung der Abrasive als lediglich zweistufig durchzuführen. Mit anderen Worten ist es ausreichend, nur zwei verschiedene Körnungen einzusetzen, nämlich die gröbere und gebundene Körnung des Abrasivs des ersten Abtragswerkzeugs und die feinere Körnung des Abrasivs in der Slurry. Allerdings können gemäß dieser Weiterbildung der Erfindung aber selbstverständlich jeweils mehrere erste und/oder zweite Abtragswerkzeuge verwendet werden.
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Die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens dokumentieren sich nicht nur in der gewonnenen Prozesszeit, sondern auch in der besseren Oberflächenperformance der Scheiben, da der erste Prozessschritt des Feinschleifens mit dem ersten Abtragswerkzeug gleichzeitig ein kombinierter Feinschleifprozess mit hohen Abtragsraten und gleichzeitig ein Polierprozess mit kleineren Abtragsraten ist, in welchem die vom gröberen Abrasiv mit erster Körnung erzeugten Spuren bereits vor dem nachfolgenden Polierprozess durch das zweite Abtragswerkzeug zumindest teilweise geglättet werden. Auf diese Weise wird im nachfolgenden Polierschritt eine wesentlich glattere Oberfläche erzeugt, als in einem getrennten Feinschleif- und Polierprozess.
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Da mit dem erfindungsgemäßen Verfahren, beziehungsweise der entsprechenden Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens sowohl eine Glättung optisch für die Durchsicht wirksamer Deformationen, als auch eine in optischer Qualität polierte Oberfläche liefert, ist das Verfahren besonders gut zur Anwendung auf Sichtscheiben aus Glas oder Glaskeramik geeignet. Die Glättung hat den weiteren Vorteil, dass die nachbearbeiteten Scheiben besonders gut in Verbunden mit weiteren gleich- oder andersartigen Scheiben eingesetzt werden können. Die ebenere Oberfläche ermöglicht dabei eine einfachere Verklebung oder Laminierung mit geringeren Spannungen bei wesentlich geringerem Bedarf an Laminierfüllstoff. Ein unter Verwendung einer erfindungsgemäß herstellbaren Glas- oder Glaskeramik-Scheibe gefertigter Verbund zeichnet sich so auch durch eine höhere Festigkeit aus.
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Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung wird daher die Glasscheibe mit einer nachbearbeiteten Seite mit zumindest einer weiteren Glasscheibe zu einem Verbund verklebt, bzw. laminiert.
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Zumindest für Sichtscheiben ist weiterhin im Allgemeinen eine beidseitige Nachbearbeitung sinnvoll, um auf beiden Seiten der Scheibe für die Durchsicht optisch wirksame Oberflächen durch Strukturen in der Topographien der Oberflächen einzuebnen.
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Aufgrund der sehr zeitsparenden Arbeitsweise der erfindungsgemäßen Vorrichtung, beziehungsweise des entsprechend mit dieser Vorrichtung durchführbaren Verfahrens eignet sich die Erfindung besonders für großflächige Scheiben. Gedacht ist dabei vorzugsweise an Glas- oder Glaskeramikscheiben mit einer Fläche von zumindest 1, insbesondere zumindest 1,5, besonders bevorzugt mindestens 3 Quadratmetern. Das kleinste Seitenmaß einer für die Nachbearbeitung gut geeigneten Scheibe beträgt weiterhin vorzugsweise mindestens 1 Meter.
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Die Erfindung wird nachfolgend genauer anhand von Ausführungsbeispielen und unter Bezugnahme auf die beigeschlossenen Zeichnungen näher erläutert. Dabei verweisen gleiche Bezugszeichen auf gleiche oder ähnliche Teile. Es zeigen:
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1 eine Aufsicht auf eine Glas- oder Glaskeramikscheibe während des Materialabtrags und
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2 einen Querschnitt durch einen Verbund mit mehreren Glas- oder Glaskeramikscheiben.
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In 1 sind zur Illustration des erfindungsgemäßen Nachbearbeitungsverfahrens die Abtragswerkzeuge einer Vorrichtung 1 zur glättenden Nachbearbeitung einer Glas- oder Glaskeramikscheibe 3 während des Materialabtrags dargestellt. Das Verfahren, beziehungsweise die entsprechend zur Durchführung dieses Verfahrens eingerichtete Vorrichtung 1, basieren darauf, dass
- – mit mehreren Abtragswerkzeugen 6, 10 gleichzeitig Material von der nachzubearbeitenden Oberfläche 31 einer Glas- oder Glaskeramik-Scheibe 3 abgetragen wird, wobei die Abtragswerkzeuge 6, 10 Abtragsflächen 7, 11 aufweisen, welche jeweils um eine Achse senkrecht zur Abtragsfläche 7, 11 rotieren, wobei
- – die Abtragswerkzeuge 6, 10 entlang vorbestimmter Bahnen 8, 12 über die nachzubearbeitende Oberfläche 31 geführt werden, wobei die Bahnen 8, 12 einander überlappen, und wobei
- – zumindest ein erstes Abtragswerkzeug 6 die nachzubearbeitende Oberfläche 31 mit einem Schleifmittel einer ersten Körnung schleift und
- – zumindest ein zweites Abtragswerkzeug 10 die vom zumindest einen ersten Abtragswerkzeug 6 geschliffene Oberfläche mit einem zweiten Schleifmittel mit gegenüber dem ersten Schleifmittel feinerer Körnung poliert, wobei das zweite Schleifmittel eine Slurry umfasst, und wobei
- – diese Slurry auch zwischen der Abtragsfläche 7 des zumindest einen ersten Abtragswerkzeugs 6 und der nachzubearbeitenden Oberfläche 31 während des Schleifens eingebracht wird.
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In 1 ist jeweils nur eine der von den Werkzeugen 6, 10 überfahrenen Bahnen 8, 12 als schraffierter Bereich dargestellt. Insgesamt werden zur Bearbeitung der gesamten Oberfläche 31 die Abtragswerkzeuge 6, 10 entlang zueinander paralleler Bahnen über die Oberfläche geführt. Dazu wird, wie anhand der Pfade 9, 13 dargestellt, von den Werkzeugen 6, 10 gegenüber der Oberfläche 31 eine mäanderförmige Bewegung ausgeführt. Um eine solche Bewegung auszuführen, werden die Abtragswerkzeuge 6, 10 entlang der Bahnen 8, beziehungsweise 12 hin und her bewegt und nach jeweils einer Hin- oder Herbewegung die Glas- oder Glaskeramikscheibe entlang der Vorschubrichtung 15 ein Stück weiterbewegt. Damit sowohl die Bahnen 8, als auch die Bahnen 12 jeweils untereinander überlappen, ist der Vorschub kleiner als der Durchmesser der Abtragsflächen 7, beziehungsweise 10. Der Überlapp der Bahnen 8, ebenso wie der Bahnen 12 beträgt dabei vorzugsweise zumindest 20%, besonders bevorzugt mindestens ein Drittel des Durchmessers der Abtragsfläche, beziehungsweise korrespondierend dazu der jeweiligen Bahnbreite.
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Bei einer besonders einfachen Ausführungsform der Erfindung sind dazu die Abtragswerkzeuge 6, 10 an einem gemeinsamen Portal befestigt, welches über die auf einem gegenüber dem Portal entlang der Richtung 15 beweglichen Unterlage gelagerte Glas- oder Glaskeramikscheibe 3 hin- und her beweglich ist. Bei dem in 1 gezeigten Beispiel stehen die Vorschubrichtung 15 und die Bahnen 8, 12, entlang derer die Abtragswerkzeuge, beispielsweise am vorstehend genannten gemeinsamen Portal bewegt werden, senkrecht aufeinander. Möglich ist aber auch, dass die Bahnen 8, 12 schräg, beispielsweise in einem Winkel von 45° zur Vorschubrichtung liegen.
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Das Abtragswerkzeug 8, welches die Oberflächenbereiche der Oberfläche 31 jeweils zuerst überfährt, ist als Feinschleif-Vorrichtung ausgebildet. Das nachgeordnete zweite Abtragswerkzeug 10 führt dann eine Politur der vom ersten Abtragswerkzeug abgeschliffenen Oberflächenbereiche durch. Für das Feinschleifen eignet sich eine Abtragsfläche mit einem gebundenen Schleifmittel einer mittleren Körnung im Bereich von 8 Mikrometern bis 40 Mikrometern. Dazu kann eine entsprechende Diamantfolie oder eine diamantbesetzte Metallscheibe verwendet werden. Die sowohl im ersten Abtragswerkzeug 6, als auch im zweiten Abtragswerkzeug 10 eingesetzte Slurry weist ein loses Abrasiv, vorzugsweise Ceroxid mit einer mittleren Körnung kleiner 3 Mikrometer, vorzugsweise kleiner 2 Mikrometer auf. Für die Abtragsfläche 11 des Polierkopfs, beziehungsweise des zweiten Abtragswerkzeugs 10 kann unter anderem Filz oder ein Elastomer, wie etwa Polyurethan verwendet werden.
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Wie anhand der Darstellung der 1 zu erkennen ist, sind bei Glas- und Glaskeramikplatten mit Dickenunterschieden im Werkstück von ca. 200 Mikrometer die Durchmesser der Abtragsflächen 7, 11 unterschiedlich. Im Speziellen ist der Durchmesser des für die Politur eingesetzten zweiten Abtragswerkzeugs 10 kleiner als der Durchmesser des für das Feinschleifen verwendeten ersten Abtragswerkzeugs. Dabei ist der Durchmesser der Abtragsfläche des ersten Abtragswerkzeugs 6 vorzugsweise größer als 500 Millimeter und der Durchmesser der Abtragsfläche 11 kleiner als 500 Millimeter.
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Die Slurry wird mittels einer gemeinsamen Zuführleitung 21, welche sich in zwei Abzweige 22, 23 aufteilt, beiden Abtragsflächen 7, 11 der Abtragswerkzeuge 6, 10 zugeführt. Beispielsweise kann dazu, wie dargestellt, die Slurry in Aussparungen in der Mitte der in diesem Beispiel ringförmigen Abtragsflächen 7, 11 eingefüllt werden. Eine von mehreren weiteren Möglichkeiten ist aber auch, die Slurry in Bewegungsrichtung vor den Abtragsflächen 7, 11 auf die Oberfläche 31 des Glas- oder Glaskeramik-Substrats 3 zu geben.
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Die Slurry kann auch insbesondere mittels einer Umlauf-Zuführeinrichtung im Umlauf betrieben werden. Dazu wird die zurückbleibende, oder seitlich aus den Abtragsflächen 7, 11 austretende Slurry wieder aufgesammelt und erneut über die Leitung 21 zugeführt. Zur Einrichtung zum Aufsammeln der nach dem Schleifen und Polieren zurückbleibenden Slurry kann beispielsweise eine die Glas- oder Glaskeramikscheibe umgebende Sammelrinne 24 vorgesehen sein.
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Die in der Sammelrinne 24 aufgesammelte Slurry wird über eine Leitung 25 dann zunächst einer Trenneinrichtung zugeführt, mit welcher Grobanteile, etwa vom Abtragswerkzeug 6 freigesetztes Schleifmittel erster Körnung abgetrennt wird. Als Trenneinrichtung ist bei dem in 1 gezeigten Beispiel ein Zyklon 20 vorgesehen. Gröbere Feststoffanteile werden dabei im rotierenden Fluidstrom im Zyklon nach außen gedrängt und können so abgeschieden werden. Die so im Zyklon 20 von Grobanteilen gereinigte Slurry wird dann wieder, wie oben beschrieben, über die Leitung 21 den Abtragswerkzeugen 6, 10 zugeführt.
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Nachfolgend wird eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens mit anderen zweistufigen Abtragsverfahren (Vergleichsbeispiele a) bis c)) verglichen. Bei den anderen Abtragsverfahren wurden die verschiedenen Stufen getrennt auf verschiedenen Maschinen durchgeführt. Dazu ergab sich gegenüber dem erfindungsgemäßen Verfahren eine zusätzliche benötigte Handlingsdauer von ca. 10 Minuten. Die bearbeiteten Scheiben wiesen vor der Bearbeitung jeweils eine Welligkeit von 200 Mikrometern auf, die zu beseitigen war.
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Vergleichsbeispiel a):
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Das Feinschleifen wurde mit einem Abrasiv mit 9 Mikrometer Körnung und die Endpolitur auf einer weiteren Maschine mit einer Slurry mit 1,5 Mikrometer Körnung durchgeführt. Der zur befriedigenden Beseitigung der Welligkeit notwendige Gesamtabtrag betrug 150 Mikrometer im Mittel. Die Endrauhigkeit Ra betrug 20 Nanometer. Die Oberflächenperformance unter einem Blickwinkel von 30° war unbefriedigend. Für die geforderte Endqualität betrug die benötigte Prozesszeit pro Quadratmeter bei zwei Abtragswerkzeugen 120 Minuten. Mit der zusätzlichen Handlingszeit ergab sich demgemäß eine Gesamt-Prozesszeit von 130 Minuten pro Quadratmeter.
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Vergleichsbeispiel b):
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Das Feinschleifen wurde mit einem Abrasiv mit 18 Mikrometer Körnung und die Endpolitur auf einer weiteren Maschine mit einer Slurry mit 1,5 Mikrometer Körnung durchgeführt. Der zur befriedigenden Beseitigung der Welligkeit notwendige Gesamtabtrag betrug ebenfalls 150 Mikrometer im Mittel. Die Endrauhigkeit Ra betrug 15 Nanometer. Die Oberflächenperformance unter einem Blickwinkel von 30° war befriedigend. Für die geforderte Endqualität betrug die benötigte Prozesszeit pro Quadratmeter bei zwei Abtragswerkzeugen 90 Minuten. Mit der zusätzlichen Handlingszeit ergab sich demgemäß eine Gesamt-Prozesszeit von 100 Minuten pro Quadratmeter.
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Vergleichsbeispiel c):
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Anstelle eines Feinschleifens wurde eine Vorpolitur mit einem Abrasiv mit 3 Mikrometer Körnung durchgeführt. Die Endpolitur erfolgte wieder auf einer weiteren Maschine mit einer Slurry mit 1,5 Mikrometer Körnung. Der zur befriedigenden Beseitigung der Welligkeit notwendige Gesamtabtrag betrug 100 Mikrometer im Mittel. Die Endrauhigkeit Ra betrug 5 Nanometer. Die Oberflächenperformance unter einem Blickwinkel von 30° war hier gut. Für die geforderte Endqualität betrug die benötigte Prozesszeit pro Quadratmeter immerhin 150 Minuten. Mit der zusätzlichen Handlingszeit ergab sich demgemäß eine Gesamt-Prozesszeit von 160 Minuten pro Quadratmeter.
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Erfindungsgemäßes Abtragsverfahren:
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Die Slurry, die als Abrasiv sowohl beim Feinschleifen, als auch beim Polieren eingesetzt wurde, wies ebenfalls ein Abrasiv mit 1,5 Mikrometer Körnung auf. Der zur befriedigenden Beseitigung der Welligkeit notwendige Gesamtabtrag betrug nur 30 Mikrometer im Mittel. Die Endrauhigkeit Ra betrug 10 Nanometer. Die Oberflächenperformance unter einem Blickwinkel von 30° war sehr gut. Für die geforderte Endqualität betrug die benötigte Prozesszeit pro Quadratmeter lediglich 40 Minuten, wobei auch eine zusätzliche Handlingszeit durch den Wechsel auf eine weitere Maschine entfällt.
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Allgemein, ohne Beschränkung auf das vorstehende Ausführungsbeispiel kann in Weiterbildung das Verfahren bei Nachbearbeitung einer Glas- oder Glaskeramikscheibe mit einer Welligkeit von mindestens 80 Mikrometern, vorzugsweise aber höchstens 300 Mikrometern zusätzlich durch einen oder mehrere der nachstehenden Prozessschritte charakterisiert werden:
- – die Glas- oder Glaskeramikscheibe wird für eine Dauer von weniger als 60 Minuten pro Quadratmeter Fläche der zu bearbeitenden Oberfläche glättend mittels der ersten und zweiten Abtragswerkzeuge nachbearbeitet,
- – es wird Material entsprechend einer mittleren Schichtdicke von weniger als 60 Mikrometern, vorzugsweise weniger als 50 Mikrometern abgetragen.
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Es wird davon ausgegangen, dass die erfindungsgemäße Nachbearbeitung, bei welcher bereits das Feinschleifen gleichzeitig auch eine Politur mit einer Slurry mit sich bringt, wobei diese erste Politur Spuren parallel zu den Spuren der vom gröberen Abrasiv des Feinschleifens verursacht und einer weiteren Politur mit gleicher Körnung zu einem charakteristischen mikroskopischen Oberflächenprofil führt. Die erfindungsgemäß nachbearbeiteten Glas- oder Glaskeramikscheiben unterscheiden sich demzufolge anhand der Oberflächentopographie von andersartig durch abrasiven Abtrag nachbearbeiteten Scheiben. Dies zeigt unter anderen auch der Vergleich der Oberflächenperformance einer erfindungsgemäß bearbeiteten Scheibe mit den Vergleichsbeispielen. Demgemäß sieht die Erfindung allgemein auch eine Glas- oder Glaskeramik-Scheibe vor, welche erhältlich ist durch eine Nachbearbeitung mittels dem Verfahren oder der Vorrichtung, wie sie hierin beschrieben sind.
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Die Glas- oder Glaskeramikscheiben können aufgrund ihrer durch die Nachbearbeitung nun verbesserten Ebenheit auch in einem Verbund verwendet werden. Da die Welligkeit reduziert ist, wird die Verklebung mit weiteren, gleich- oder andersartigen Glas- oder Glaskeramikscheiben erleichtert. 2 zeigt ein solches Beispiel einer Verbund-Sichtscheibe 300. Die Verbund-Sichtscheibe 300 des in 2 gezeigten Beispiels umfasst drei Glas- oder Glaskeramikscheiben 33, 34, 35, welche mit Kunststoffschichten 36 aufeinander geklebt oder laminiert sind. Beispielsweise können für die Kunststoffschichten Polyvinylbutyral-Folien oder flüssige Gießharze eingesetzt werden, die durch UV aushärten können. Zumindest eine der Glas- oder Glaskeramikscheiben 33, 34, 35 des Verbunds ist gemäß der Erfindung mit ersten und zweiten Abtragswerkzeugen nachbearbeitet. Besonders bei Verwendung von Glaskeramik-Scheiben können hochfeste, insbesondere auch beschussfeste Verbund-Sichtscheiben 300 hergestellt werden.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- DE 3839150 C1 [0002, 0002]
- JP 2004167634 A [0002, 0003]
- DE 411201 A [0002, 0004]
- US 4833832 A [0002, 0005]
- JP 2004195602 A [0002, 0006]
- US 2005/0020193 A1 [0002, 0007]
- WO 2007/014732 A2 [0015]