DE102010006134B4 - UV absorbing coating system, process for its preparation and plastic substrate - Google Patents
UV absorbing coating system, process for its preparation and plastic substrate Download PDFInfo
- Publication number
- DE102010006134B4 DE102010006134B4 DE102010006134.4A DE102010006134A DE102010006134B4 DE 102010006134 B4 DE102010006134 B4 DE 102010006134B4 DE 102010006134 A DE102010006134 A DE 102010006134A DE 102010006134 B4 DE102010006134 B4 DE 102010006134B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- absorbing
- organic material
- layer system
- absorbing layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/283—Interference filters designed for the ultraviolet
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
UV-absorbierendes Schichtsystem (4), umfassend- eine erste Schicht (1), die ein erstes UV-absorbierendes organisches Material enthält, das eine Absorptionskante bei einer Wellenlänge λaufweist,- eine der ersten Schicht (1) nachfolgende zweite Schicht (2), die ein zweites UV-absorbierendes organisches Material enthält, das eine Absorptionskante bei einer Wellenlänge λaufweist, wobei λ> λist, und- mindestens eine Titanoxidschicht (8) oder Zinkoxidschicht, die zwischen der ersten Schicht (1) und der zweiten Schicht (2) und/oder oberhalb der ersten Schicht (1) und zweiten Schicht (1) angeordnet ist.A UV absorbing layer system (4) comprising - a first layer (1) containing a first UV absorbing organic material having an absorption edge at a wavelength λ, - a second layer (2) following the first layer (1), which contains a second UV absorbing organic material having an absorption edge at a wavelength λ where λ> λ, and at least one titanium oxide layer (8) or zinc oxide layer interposed between the first layer (1) and the second layer (2) and / or above the first layer (1) and second layer (1) is arranged.
Description
Die Erfindung betrifft ein UV-absorbierendes Schichtsystem, das insbesondere zum UV-Schutz von transparenten Kunststoffsubstraten wie beispielsweise Polycarbonat geeignet ist, und ein Verfahren zu dessen Herstellung.The invention relates to a UV-absorbing layer system, which is particularly suitable for UV protection of transparent plastic substrates such as polycarbonate, and a method for its production.
Im Fahrzeugbau, in der Architektur, in der Optik oder in der Medizintechnik werden transparente Kunststoffe eingesetzt, die über lange Zeit UV-Strahlung, insbesondere durch Sonnenlicht, ausgesetzt sein können.In vehicle construction, in architecture, in optics or in medical technology, transparent plastics are used which can be exposed to UV radiation for a long time, in particular due to sunlight.
Ein häufig verwendeter transparenter Kunststoff ist beispielsweise Polycarbonat, das auch unter der Bezeichnung Bisphenol-A-polycarbonat oder unter der Abkürzung PC bekannt ist.A commonly used transparent plastic is for example polycarbonate, which is also known under the name bisphenol-A polycarbonate or by the abbreviation PC.
Eine Bestrahlung von Kunststoffen mit UV-Licht, insbesondere mit Sonnenlicht, kann chemische Modifizierungen im Volumen des Kunststoffs bewirken, die zu einer unerwünschten Vergilbung und zu Abbauvorgängen an der Oberfläche führen können. Beispielsweise hat sich herausgestellt, dass auf Polycarbonat aufgebrachte optische Schichten, die insbesondere zur Entspiegelung der Kunststoffoberfläche dienen können, durch UV-Bestrahlung ihre Haftung verlieren können. Die unerwünschten Effekte treten insbesondere bei einer Bestrahlung von Polycarbonat mit UV-Strahlung mit einer Wellenlänge zwischen etwa 350 nm und 400 nm auf.Irradiation of plastics with UV light, especially with sunlight, can cause chemical modifications in the volume of the plastic, which can lead to undesirable yellowing and degradation at the surface. For example, it has been found that optical layers applied to polycarbonate, which can serve in particular for antireflection of the plastic surface, can lose their adhesion by UV irradiation. The undesirable effects occur in particular when irradiating polycarbonate with UV radiation having a wavelength between approximately 350 nm and 400 nm.
Aus der Druckschrift
Die Druckschrift
Die Druckschrift
In den Druckschriften
Aus der Druckschrift
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein UV-absorbierendes Schichtsystem und ein Verfahren zu dessen Herstellung anzugeben, das sich durch eine verbesserte Beständigkeit gegen Vergilbung und Schichtablösung, ausgelöst durch UV-Strahlung, insbesondere Sonnenlicht, auszeichnet.The invention has for its object to provide a UV-absorbing layer system and a method for its production, which is characterized by an improved resistance to yellowing and delamination, triggered by UV radiation, in particular sunlight.
Diese Aufgabe wird durch ein UV-absorbierendes Schichtsystem und ein Verfahren zu dessen Herstellung gemäß den unabhängigen Patentansprüchen gelöst.This object is achieved by a UV-absorbing layer system and a method for its production according to the independent claims.
Das UV-absorbierende Schichtsystem umfasst eine erste Schicht, die ein erstes UV-absorbierendes organisches Material enthält, das eine Absorptionskante bei einer Wellenlänge
Die Absorptionskante des ersten organischen Materials liegt also bei einer größeren Wellenlänge als die Absorptionskante des zweiten organischen Materials, das in Wachstumsrichtung des Schichtsystems oberhalb des ersten organischen Materials angeordnet ist.The absorption edge of the first organic material is thus at a greater wavelength than the absorption edge of the second organic material, which is arranged in the growth direction of the layer system above the first organic material.
Die der ersten Schicht in Wachstumsrichtung des Schichtsystems nachfolgende zweite Schicht, die eine kurzwelligere Absorptionskante als die erste Schicht aufweist, schützt die erste Schicht vorteilhaft vor einem Teil der auftreffenden UV-Strahlung. Es hat sich herausgestellt, dass die erste Schicht in diesem Fall ein UV-absorbierendes organisches Material enthalten kann, das an sich keine ausreichende Beständigkeit gegen UV-Strahlung aufweist und somit als Einzelschicht zum UV-Schutz eines transparenten Substrats ungeeignet wäre, weil es beispielsweise vergilben würde.The second layer following the first layer in the direction of growth of the layer system, which has a shorter-wavelength absorption edge than the first layer, advantageously protects the first layer from part of the incident UV radiation. In this case, it has been found that the first layer may contain a UV-absorbing organic material which in itself does not have sufficient resistance to UV radiation and thus would be unsuitable as a single layer for UV protection of a transparent substrate, for example because of yellowing would.
Weiterhin enthält das Schichtsystem mindestens eine Titanoxid- oder Zinkoxid-Schicht, die zwischen der ersten und der zweiten Schicht und/oder oberhalb der ersten und zweiten Schicht angeordnet ist. Diese Materialien haben den Vorteil, dass sie UV-Licht zumindest teilweise auch bei Wellenlängen von weniger als 350 nm blockieren können und die mechanische Festigkeit des Schichtsystems erhöhen. Dadurch wird insbesondere die erste Schicht, die das erste organische Material enthält, von der Titanoxid- oder Zinkoxid-Schicht vor UV-Strahlung geschützt und somit einer Degradation der ersten Schicht vorgebeugt. Furthermore, the layer system contains at least one titanium oxide or zinc oxide layer, which is arranged between the first and the second layer and / or above the first and second layer. These materials have the advantage that they can block UV light at least partially even at wavelengths of less than 350 nm and increase the mechanical strength of the layer system. As a result, in particular the first layer containing the first organic material is protected from UV radiation by the titanium oxide or zinc oxide layer and thus prevents degradation of the first layer.
Als das erste UV-absorbierende organische Material der ersten Schicht wird vorzugsweise ein Material verwendet, das eine Absorptionskante bei einer Wellenlänge
Das zweite UV-absorbierende organische Material weist vorzugsweise eine Absorptionskante bei einer Wellenlänge
Als die Absorptionskante des ersten oder zweiten organischen Materials wird im Rahmen der Anmeldung im Zweifelsfall die größte Wellenlänge aus dem Bereich von 300 nm bis 450 nm verstanden, bei der die Transmission für UV-Strahlung im Fall einer 400 nm dicken Einzelschicht des organischen Materials nicht mehr als 20 % beträgt.In the context of the application, the absorption edge of the first or second organic material is understood to mean the largest wavelength in the range from 300 nm to 450 nm, in which the transmission for UV radiation is no longer in the case of a 400 nm thick single layer of the organic material than 20%.
Die Wellenlänge
Das UV-absorbierende Schichtsystem ist vorzugsweise auf ein transparentes Substrat, insbesondere auf ein Kunststoffsubstrat, aufgebracht. Das Substrat kann insbesondere ein optisches Element wie eine Linse, insbesondere ein Brillenglas, oder eine Scheibe sein. Besonders gut geeignet ist das Schichtsystem zum UV-Schutz eines Kunststoffsubstrats aus Polycarbonat.The UV-absorbing layer system is preferably applied to a transparent substrate, in particular to a plastic substrate. The substrate may in particular be an optical element such as a lens, in particular a spectacle lens, or a disk. Particularly suitable is the layer system for UV protection of a plastic substrate made of polycarbonate.
Das UV-absorbierende Schichtsystem zeichnet sich durch eine hohe Beständigkeit gegen Vergilbung und Schichtablösung aus. The UV-absorbing layer system is characterized by a high resistance to yellowing and delamination.
Insbesondere ist die Beständigkeit des UV-absorbierenden Schichtsystems gegenüber Vergilbung und Schichtablösung besser, als sie im Fall einer Einzelschicht aus dem ersten oder dem zweiten organischen Material wäre. Durch die Kombination aus der ersten Schicht und der darüber angeordneten zweiten Schicht kann insbesondere ein UV-Schutz für Polycarbonat bis in einen Wellenlängenbereich von mehr als 400 nm erzielt werden.In particular, the resistance of the UV-absorbing layer system to yellowing and delamination is better than it would be in the case of a single layer of the first or the second organic material. The combination of the first layer and the second layer arranged above it, in particular, UV protection for polycarbonate can be achieved in a wavelength range of more than 400 nm.
Die erste Schicht enthält vorzugsweise N,N'-Di(naphth-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidin (α-NPD), Tetra-N-phenylbenzidin (TPB), N,N'-Bis-(3-methylphenyl)-N,N'diphenylbenzidin (TPD), 1,3-Bis-(4-(4-diphenylamino)-phenyl-1,3,4-oxidiazol-2-yl)-benzene, 4,4',4''-Tris(N,N-diphenyl-amino)-triphenylamin oder 4-(2,2-Bisphenyl-ethen-1-yl)-triphenylamin.The first layer preferably contains N, N'-di (naphth-1-yl) -N, N'-diphenylbenzidine (α-NPD), tetra-N-phenylbenzidine (TPB), N, N'-bis ( 3-methylphenyl) -N, N'-diphenylbenzidine (TPD), 1,3-bis- (4- (4-diphenylamino) -phenyl-1,3,4-oxidiazol-2-yl) -benzene, 4,4 ' , 4 "-tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamine or 4- (2,2-bis-phenyl-ethen-1-yl) -triphenylamine.
Diese Materialien weisen organische Moleküle auf, die UV-Licht im Spektralbereich von 350 nm bis 400 nm noch wirksamer absorbieren als typischerweise zum UV-Schutz von transparenten Kunststoffen wie Polycarbonat verwendete Materialien. Bei diesen Materialien würde jedoch im Fall einer Einzelschicht auf einem transparenten Substrat eine langsame Degradation, insbesondere eine Vergilbung, auftreten. Deshalb würde man diese Materialien an sich nicht zum UV-Schutz von transparenten Substraten aus Polycarbonat, insbesondere optischen Elementen, einsetzen.These materials have organic molecules that absorb ultraviolet light more effectively in the spectral range of 350 nm to 400 nm than typically used for UV protection of transparent plastics such as polycarbonate materials. With these materials, however, in the case of a single layer on a transparent substrate, a slow degradation, in particular a yellowing, would occur. Therefore, one would not use these materials per se for the UV protection of transparent substrates made of polycarbonate, in particular optical elements.
Die zweite Schicht enthält vorzugsweise ein 2-Hydroxybenzophenon, einen Zimtsäureester, ein Benzyliden-malonat, ein Oxalanilid, ein 2-Hydroxyphenylbenzotriazol oder ein Hydroxyphenyltriazin. Insbesondere kann die zweite Schicht 2,2'-Methylenbis(6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol (Tinuvin® 360) oder 2-(4,6-Diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-hexyloxy-phenol (Tinuvin® 1577) enthalten.The second layer preferably contains a 2-hydroxybenzophenone, a cinnamic acid ester, a benzylidene malonate, an oxalanilide, a 2-hydroxyphenylbenzotriazole or a hydroxyphenyltriazine. In particular, the second layer may comprise 2,2'-methylenebis (6- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol (Tinuvin® 360) or 2- (4,6- Diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-hexyloxy-phenol (Tinuvin® 1577).
Das UV-absorbierende Schichtsystem kann zusätzlich zu der ersten Schicht und der zweiten Schicht eine oder mehrere weitere Schichten enthalten, bei denen es sich insbesondere um anorganische Schichten handeln kann. Die mindestens eine anorganische Schicht kann zum Beispiel ein Siliziumoxid wie SiO2 oder ein Metalloxid wie beispielsweise Al2O3, Ta2O5 oder CeO2 enthalten oder daraus bestehen.The UV-absorbing layer system may contain, in addition to the first layer and the second layer, one or more further layers, which may in particular be inorganic layers. The at least one inorganic layer may, for example, contain or consist of a silicon oxide such as SiO 2 or a metal oxide such as Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 or CeO 2 .
Insbesondere kann eine anorganische Schicht zwischen einem Substrat, beispielsweise einem Kunststoffsubstrat aus Polycarbonat, und der ersten Schicht, die das erste organische Material enthält, angeordnet sein. Alternativ oder zusätzlich kann eine anorganische Schicht zwischen der ersten Schicht mit dem ersten organischen Material und der zweiten Schicht mit dem zweiten organischen Material angeordnet sein. Die anorganische Schicht kann in diesem Fall insbesondere als Diffusionsbarriere, als Haftvermittlerschicht und/oder zur Verbesserung der mechanischen Stabilität des Schichtsystems dienen.In particular, an inorganic layer may be disposed between a substrate such as a polycarbonate plastic substrate and the first layer containing the first organic material. Alternatively or in addition For example, an inorganic layer may be disposed between the first layer having the first organic material and the second layer having the second organic material. In this case, the inorganic layer can serve, in particular, as a diffusion barrier, as an adhesion promoter layer and / or to improve the mechanical stability of the layer system.
Weiterhin ist es auch möglich, dass die mindestens eine anorganische Schicht oberhalb der ersten Schicht und der zweiten Schicht in dem UV-absorbierenden Schichtsystem angeordnet ist. In diesem Fall kann die mindestens eine anorganische Schicht, beispielsweise eine Schicht aus SiO2, vorteilhaft als Schutzschicht für die darunter angeordneten Schichten, insbesondere die erste und zweite Schicht dienen.Furthermore, it is also possible that the at least one inorganic layer is arranged above the first layer and the second layer in the UV-absorbing layer system. In this case, the at least one inorganic layer, for example a layer of SiO 2 , can advantageously serve as a protective layer for the layers arranged thereunder, in particular the first and second layer.
Bei einer Ausführungsform besteht die erste Schicht aus dem ersten organischen Material und die zweite Schicht aus dem zweiten organischen Material, das heißt die erste Schicht und die zweite Schicht sind ausschließlich aus dem ersten bzw. zweiten organischen Material gebildet.In one embodiment, the first layer consists of the first organic material and the second layer of the second organic material, that is, the first layer and the second layer are formed exclusively of the first and second organic material.
Bei einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform ist das in der ersten Schicht enthaltene erste organische Material und/oder das in der zweiten Schicht enthaltene zweite organische Material in ein anorganisches Material eingebettet. Dies kann beispielsweise dadurch erfolgen, dass bei der Herstellung der ersten Schicht und/oder der zweiten Schicht das erste bzw. das zweite organische Material gleichzeitig mit einem anorganischen Material durch einen Vakuumverdampfungsprozess abgeschieden werden.In a further advantageous embodiment, the first organic material contained in the first layer and / or the second organic material contained in the second layer are embedded in an inorganic material. This can be done, for example, by depositing the first or the second organic material simultaneously with an inorganic material by a vacuum evaporation process during the production of the first layer and / or the second layer.
Bei dem anorganischen Einbettungsmaterial kann es sich insbesondere um ein Siliziumoxid wie SiO2 oder um ein Metalloxid wie beispielsweise Al2O3, Ta2O5 oder CeO2 handeln. Alternativ ist als Einbettungsmaterial auch ein Plasmapolymer geeignet, wie beispielsweise SiOxR, das aus einem Monomer wie beispielsweise Hexamethyldisiloxan oder Tetraoxisilan hergestellt werden kann.The inorganic embedding material may in particular be a silicon oxide such as SiO 2 or a metal oxide such as Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 or CeO 2 . Alternatively, as a potting material, a plasma polymer such as SiO x R, which may be prepared from a monomer such as hexamethyldisiloxane or tetraoxysilane, is also suitable.
Bei einem vorteilhaften Verfahren zur Herstellung des UV-absorbierenden Schichtsystems werden die erste Schicht, die das erste organische Material enthält, und die zweite Schicht, die das zweite organische Material enthält, mit einem Vakuumbeschichtungsverfahren hergestellt. Die erste Schicht und die zweite Schicht können dabei vorteilhaft in einer Vakuumbeschichtungsanlage hergestellt werden, mit der auch weitere Schichten, insbesondere anorganische Schichten, aufgebracht werden können.In an advantageous method for producing the UV absorbing layer system, the first layer containing the first organic material and the second layer containing the second organic material are produced by a vacuum coating method. The first layer and the second layer can advantageously be produced in a vacuum coating system, with which also further layers, in particular inorganic layers, can be applied.
Bei der Herstellung des Schichtsystems werden zusätzlich zu der ersten und zweiten Schicht vorzugsweise eine oder mehrere anorganische Schichten aufgebracht, beispielsweise unmittelbar auf ein Substrat vor dem Aufbringen der ersten Schicht, zwischen dem Aufbringen der ersten Schicht und der zweiten Schicht oder nach dem Aufbringen der zweiten Schicht.In the production of the layer system, one or more inorganic layers are preferably applied in addition to the first and second layer, for example directly on a substrate before the application of the first layer, between the application of the first layer and the second layer or after the application of the second layer ,
Vorteilhaft wird das gesamte Schichtsystem mittels Vakuumbeschichtungsverfahren hergestellt. Es ist möglich, dass dabei verschiedene Methoden der Vakuumbeschichtung angewendet werden. Beispielsweise können die anorganischen Schichten mittels Elektronenstrahlverdampfung und die organischen Schichten durch Verdampfung aus einem Tiegel mittels Widerstandsheizung hergestellt werden.Advantageously, the entire layer system is produced by means of vacuum coating methods. It is possible that different methods of vacuum coating are used. For example, the inorganic layers can be produced by electron beam evaporation and the organic layers can be produced by evaporation from a crucible by means of resistance heating.
Bei dem Verfahren zur Herstellung des UV-absorbierenden Schichtsystems ist es auch möglich, dass die erste Schicht und/oder die zweite Schicht durch gleichzeitige Verdampfung des ersten bzw. des zweiten organischen Materials und eines anorganischen Materials hergestellt werden. In diesem Fall wird das organische Material der ersten Schicht und/oder der zweiten Schicht also in ein anorganisches Material eingebettet. Bei dem anorganischen Material kann es sich insbesondere um ein Siliziumoxid oder um ein Metalloxid handeln.In the method for producing the UV-absorbing layer system, it is also possible that the first layer and / or the second layer are produced by simultaneous evaporation of the first and the second organic material and an inorganic material. In this case, the organic material of the first layer and / or the second layer is thus embedded in an inorganic material. The inorganic material may in particular be a silicon oxide or a metal oxide.
Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Beispielen im Zusammenhang mit den
Es zeigen:
-
1 bis 3 schematische Darstellungen von Querschnitten durch UV-absorbierende Schichtsysteme gemäß verschiedenen Beispielen, die nicht sämtliche Merkmale der Erfindung aufweisen, -
4 und5 schematische Darstellungen von Querschnitten durch UV-absorbierende Schichtsysteme gemäß Ausführungsbeispielen, -
6 eine grafische Darstellung der Transmission in Abhängigkeit von der Wellenlänge für jeweils 400 nm dicke Einzelschichten der Materialien TiO2,Tinuvin 360 und α-NPD sowie für ein UV-absorbierendes Schichtsystem gemäß einem Ausführungsbeispiel, und -
7 die Transmission in Abhängigkeit von der Wellenlänge vor und nach 480 Stunden UV-Bestrahlung für eine Einfachschicht aus α-NPD und einemit Tinuvin 360 abgedeckte α-NPD-Schicht.
-
1 to3 schematic representations of cross-sections through UV-absorbing layer systems according to various examples, which do not have all the features of the invention, -
4 and5 schematic representations of cross sections through UV-absorbing layer systems according to embodiments, -
6 a graphical representation of the transmission as a function of wavelength for each 400 nm thick individual layers of the materials TiO 2 ,Tinuvin 360 and α-NPD and for a UV-absorbing layer system according to an embodiment, and -
7 the transmission as a function of the wavelength before and after 480 hours UV irradiation for a single layer of α-NPD and aTinuvin 360 covered α-NPD layer.
Gleiche oder gleich wirkende Elemente sind in den Figuren mit den gleichen Bezugszeichen versehen. Die Größen der Bestandteile sowie die Größenverhältnisse der Bestandteile untereinander sind nicht als maßstabsgerecht anzusehen. Identical or equivalent elements are provided in the figures with the same reference numerals. The sizes of the components and the size ratios of the components with each other are not to be regarded as true to scale.
Das in
Die erste Schicht
Die zweite Schicht
Durch die in Wachstumsrichtung des Schichtsystems oberhalb der ersten Schicht
Es hat sich vorteilhaft herausgestellt, dass eine Vergilbung der ersten Schicht
Das Schichtsystem
Eine anorganische Schicht, zum Beispiel eine SiO2-Schicht, ist beispielsweise als Grundschicht
Die bei dem ersten Beispiel zwischen der ersten Schicht
Alternativ kann aber auch auf die Zwischenschicht
Das in
Zwischen der auf dem Substrat
Die erste Schicht
Das in
In
In
In
Claims (13)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010006134.4A DE102010006134B4 (en) | 2010-01-29 | 2010-01-29 | UV absorbing coating system, process for its preparation and plastic substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010006134.4A DE102010006134B4 (en) | 2010-01-29 | 2010-01-29 | UV absorbing coating system, process for its preparation and plastic substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102010006134A1 DE102010006134A1 (en) | 2011-08-04 |
DE102010006134B4 true DE102010006134B4 (en) | 2019-10-24 |
Family
ID=44315929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102010006134.4A Active DE102010006134B4 (en) | 2010-01-29 | 2010-01-29 | UV absorbing coating system, process for its preparation and plastic substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102010006134B4 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20170066890A1 (en) * | 2014-03-04 | 2017-03-09 | Covestro Deutschland Ag | Multi-layer structure having good uv protection and scratch protection |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0786675A2 (en) | 1996-01-26 | 1997-07-30 | Teijin Chemicals, Ltd. | Spectacle lens |
WO1999055471A1 (en) | 1998-04-27 | 1999-11-04 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for the preparation of uv protective coatings by plasma-enhanced deposition |
DE19901834A1 (en) | 1999-01-19 | 2000-07-20 | Leybold Systems Gmbh | Process for coating plastic substrates |
US20070166562A1 (en) | 2006-01-13 | 2007-07-19 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Weatherable multilayer film |
-
2010
- 2010-01-29 DE DE102010006134.4A patent/DE102010006134B4/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0786675A2 (en) | 1996-01-26 | 1997-07-30 | Teijin Chemicals, Ltd. | Spectacle lens |
WO1999055471A1 (en) | 1998-04-27 | 1999-11-04 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for the preparation of uv protective coatings by plasma-enhanced deposition |
US6455442B1 (en) | 1998-04-27 | 2002-09-24 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Process for the preparation of UV protective coatings by plasma-enhanced deposition |
DE19901834A1 (en) | 1999-01-19 | 2000-07-20 | Leybold Systems Gmbh | Process for coating plastic substrates |
US20070166562A1 (en) | 2006-01-13 | 2007-07-19 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Weatherable multilayer film |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
U. Schulz, K. Lau, N. Kaiser, „Antireflection Coating With UV-Protective Properties For Polycarbonate", Applied Optics 47, C83-C87 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102010006134A1 (en) | 2011-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60126703T2 (en) | Multilayer system with protective layer system and manufacturing process | |
DE102013106392B4 (en) | Process for producing an antireflection coating | |
EP3660550B9 (en) | Reflective composite material with an aluminum substrate and with a silver reflective layer | |
DE102014105939B4 (en) | Process for producing an anti-reflection coating on a silicone surface and optical element | |
DE102015101135B4 (en) | Process for producing a reflection-reducing layer system and reflection-reducing layer system | |
DE102007019994A1 (en) | Transparent barrier film and method of making same | |
EP3262446B1 (en) | Reflector element and process of manufacture thereof | |
WO2015193195A1 (en) | Optical element comprising a reflective coating | |
WO2008017723A1 (en) | Temperable solar control layer system and method for the production thereof | |
DE102010006133B4 (en) | Antireflection coating system and method for its production | |
DE102008019665A1 (en) | Transparent barrier layer system | |
DE102012112780B3 (en) | Optically effective layer system, useful as solar absorber layer system, comprises substrate, functional layer assembly, and assembly comprising cover layer made of titanium, oxygen, silicon and oxygen-containing material | |
DE102010006134B4 (en) | UV absorbing coating system, process for its preparation and plastic substrate | |
DE102015114094A1 (en) | Reflective composite material with painted aluminum support and with a silver reflection layer and method for its production | |
DE102006011973B4 (en) | Mirror with a silver layer | |
EP2103978A1 (en) | Layer system for heating optical surfaces and simultaneous reflex reduction | |
WO2013007488A1 (en) | Organic optoelectronic component and a method for producing same | |
DE102014100769A1 (en) | Process for producing a reflection-reducing layer system and reflection-reducing layer system | |
EP1371745A1 (en) | Method and multichamber apparatus to coat a glass substrate with a multilayer SnO/ZnO/Ag/CrNOx | |
DE10201492B4 (en) | Optical layer system | |
DE102012215059B4 (en) | Protective layer for an IR-reflecting layer system, IR-reflecting layer system and method for the production thereof | |
WO2010049012A1 (en) | Hafnium oxide or zirconium oxide coating | |
DE102013110118A1 (en) | Solar absorber and process for its production | |
DE102019119692A1 (en) | Process for the production of environmentally stable aluminum mirrors on plastic | |
DE102019004768A1 (en) | Coated substrate and process for its manufacture |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R082 | Change of representative |