DE102009055031A1 - Back contact-solar cell for use in solar module, has perforated film and semi-conducting layer positioned on each other, and contact points whose portion is connected with conductive layer via solderless electrically conductive connection - Google Patents

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Abstract

The solar cell (1) has a single or multi-layered perforated film made of electrically non-conductive material and including multiple holes. A structured electrically conductive layer is connected with a surface of the perforated film that is isolated on a semi-conducting layer. The perforated film and the semi-conducting layer are positioned on each other such that a portion of the holes and two sets of contact points (6, 7) face each other. A portion of the contact points is connected with the conductive layer via a solderless electrically conductive connection. An independent claim is also included for a method for manufacturing a solar cell.

Description

Die Erfindung betrifft eine Solarzelle, ein diese Solarzelle umfassendes Solarmodul sowie Verfahren zu deren Herstellung und zur Herstellung einer Kontaktfolie.The invention relates to a solar cell, a solar module comprising this solar cell and to processes for their production and for producing a contact foil.

Herkömmliche Solarzellen bestehen aus einer Schichtstruktur, die in einem plattenförmigen Halbleitermaterial, beispielsweise aus mono- oder multikristallinem Silizium ausgebildet ist. Das Halbleitermaterial bildet dabei die p-leitende Basis. Durch Eindiffusion von Phosphor wird an der Oberfläche eine dünne n-leitende Schicht, der so genannte Emitter, erzeugt. Üblicherweise wird die Basis mittels einer ganzflächig aufgebrachten Aluminiumschicht kontaktiert. Der Emitter wird über schmale Finger kontaktiert, die untereinander durch einen oder mehrere so genannte Busbars miteinander verbunden sind. Da die metallischen Finger und Busbars keinen Lichteintritt in die kontaktierten Bereiche der Zelle erlauben, eine zu geringe Anzahl und Breite von Fingern aber den Serienwiderstand erhöht, müssen Finger und Busbars so konstruiert sein, dass elektrische Verluste und Abschattungsverluste minimiert sind. Die räumliche Trennung von Emitterkontakt (Vorderseite, der Sonnenstrahlung zugewandt) und Basiskontakt (Rückseite) erschwert das Verschalten einzelner Solarzellen zu einem Modul, da Front- und Rückkontakt zweier benachbarter Solarzellen jeweils aufwendig verlötet werden. Während herkömmliche Solarzellen über Kontaktstellen auf der Vorderseite und der Rückseite verfügen, die in der Regel mit bandförmigen Leitern verbunden werden, erlauben Solarzellen mit Rückkontaktierung einfachere Verschaltungskonzepte.Conventional solar cells consist of a layer structure which is formed in a plate-shaped semiconductor material, for example monocrystalline or multicrystalline silicon. The semiconductor material forms the p-type base. By diffusion of phosphorus, a thin n-type layer, the so-called emitter, is produced on the surface. Usually, the base is contacted by means of a full-surface applied aluminum layer. The emitter is contacted via narrow fingers, which are interconnected by one or more so-called busbars. Since the metallic fingers and busbars do not allow light to enter the contacted areas of the cell, but too small a number and width of fingers increases the series resistance, fingers and busbars must be designed to minimize electrical losses and shadowing losses. The spatial separation of the emitter contact (front, the solar radiation facing) and base contact (back) complicates the interconnection of individual solar cells to form a module, since the front and back contact of two adjacent solar cells are soldered consuming each. While conventional solar cells have contact points on the front and the back, which are usually connected to band-shaped conductors, back-contacting solar cells allow simpler Verschaltungskonzepte.

Zur Steigerung der Effizienz sind so genannte Rückkontaktsolarzellen entwickelt worden, bei denen der Emitter auf der Vorderseite mit dem auf der Rückseite liegenden Emitterkontakt elektrisch leitend verbunden ist. So können Abschattungsverluste aufgrund von metallischen Leiterbahnen auf der Vorderseite minimiert werden.To increase the efficiency, so-called back-contact solar cells have been developed, in which the emitter on the front side is electrically conductively connected to the emitter contact located on the rear side. Shading losses due to metal traces on the front can be minimized.

Die WO 2007/096752 A2 beschreibt ein Verfahren zur Kontaktierung von Rückkontakt-Solarzellen, bei dem die Kontaktierung durch die Löcher einer auf der Solarzelle angebrachten perforierten, elektrisch isolierenden Folie hindurch mittels Schwalllöten erfolgt. Diese Methode hat den Nachteil einer vergleichsweise hohen Temperaturbelastung der Solarzelle sowie der Verwendung eines Lotes, das zunächst noch aufgeschmolzen werden muss.The WO 2007/096752 A2 describes a method for contacting back contact solar cells, wherein the contacting through the holes of a mounted on the solar cell perforated, electrically insulating film is carried out by means of wave soldering. This method has the disadvantage of a comparatively high temperature load on the solar cell and the use of a solder, which must first be melted.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Solarzelle vom Typ der Rückkontaktsolarzelle sowie ein entsprechendes Solarmodul mit einer Vielzahl von Rückkontaktsolarzellen bereitzustellen, bei dem eine einfache, kostengünstige Kontaktierung und elektrische Verschaltung von Solarzellen realisiert werden kann. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung dieser Solarzelle.Object of the present invention is to provide a solar cell of the type Rückkontaktakttsolarzelle and a corresponding solar module with a plurality of back-contact solar cells, in which a simple, inexpensive contacting and electrical interconnection of solar cells can be realized. Another object of the invention is to provide a process for producing this solar cell.

Die Lösung dieser Aufgabe wird nach dieser Erfindung erreicht durch eine Solarzelle, ein Solarmodul sowie ein Verfahren zur Herstellung der Solarzelle gemäß den entsprechenden unabhängigen Patentansprüchen. Schließlich wird die Lösung dieser Aufgabe erreicht durch ein Verfahren zur Herstellung eines Kontaktfolienbandes, das zur Herstellung der erfindungsgemäßen Solarzelle besonders geeignet ist. Bevorzugte Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Solarzelle sind in entsprechenden abhängigen Patentansprüchen aufgeführt. Bevorzugten Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Solarzelle entsprechen bevorzugte Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Solarmoduls und umgekehrt, auch wenn dies hierin nicht explizit festgestellt wird. Entsprechendes gilt für die in der erfindungsgemäßen Solarzelle vorhandenen und in den erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten Materialien und Folien bzw. Schichten.The solution of this object is achieved according to this invention by a solar cell, a solar module and a method for producing the solar cell according to the corresponding independent claims. Finally, the solution of this problem is achieved by a method for producing a contact foil strip, which is particularly suitable for producing the solar cell according to the invention. Preferred embodiments of the solar cell according to the invention are listed in corresponding dependent claims. Preferred embodiments of the solar cell according to the invention correspond to preferred embodiments of the solar module according to the invention and vice versa, although this is not explicitly stated herein. The same applies to the materials and films or layers present in the solar cell according to the invention and used in the process according to the invention.

Gegenstand der Erfindung ist somit eine Solarzelle, welche die folgenden Schichten umfasst:

  • (a) eine halbleitende Schicht mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche, wobei auf der ersten Oberfläche eine Vielzahl von ersten Kontaktstellen und zweiten Kontaktstellen ausgebildet sind, welche entgegengesetzte Polaritäten aufweisen;
  • (b) eine auf einem Teil der ersten Oberfläche angeordnete Kontaktfolie, umfassend (b1) eine erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie aus einem elektrisch nicht leitenden Material, die eine Vielzahl von ersten Löchern aufweist; und (b2) eine strukturierte elektrisch leitende Schicht auf einer der halbleitenden Schicht abgewandten Oberfläche der perforierten Folie b1;
wobei die perforierte Folie b1 und die halbleitende Schicht a so zueinander positioniert sind, dass zumindest ein Teil der ersten Löcher und der ersten Kontaktstellen und der zweiten Kontaktstellen einander gegenüber liegen, und wobei mindestens ein Teil der ersten Kontaktstellen und der zweiten Kontaktstellen über eine lotfreie elektrisch leitende Verbindung mit der strukturierten elektrisch leitenden Schicht verbunden sind.The invention thus relates to a solar cell comprising the following layers:
  • (a) a semiconductive layer having a first surface and a second surface, wherein on the first surface are formed a plurality of first pads and second pads having opposite polarities;
  • (b) a contact foil disposed on a portion of the first surface, comprising (b1) a first monolayer or multilayer perforated foil of an electrically nonconductive material having a plurality of first holes; and (b2) a structured electrically conductive layer on a surface of the perforated foil b1 facing away from the semiconducting layer;
wherein the perforated foil b1 and the semiconducting layer a are positioned to each other such that at least a part of the first holes and the first pads and the second pads face each other, and at least a part of the first pads and the second pads are electrically conductive via a solderless conductive connection are connected to the structured electrically conductive layer.

„Lotfreie elektrisch leitende Verbindung” bedeutet im Allgemeinen, dass die elektrisch leitende Verbindung kein Material (Lot) enthält, das einen niedrigeren Schmelzpunkt als die zu verbindenden Teile hat."Lot-free electrically conductive connection" generally means that the electrically conductive connection contains no material (solder), which has a lower melting point than the parts to be joined.

In einer bevorzugten Ausführungsform ist die Kontaktfolie auf weniger als 90%, vorzugsweise auf 40 bis 75% und noch mehr bevorzugt auf 50 bis 60% der ersten Oberfläche der halbleitenden Schicht angeordnet. In a preferred embodiment, the contact foil is disposed to less than 90%, preferably to 40 to 75% and even more preferably to 50 to 60% of the first surface of the semiconducting layer.

Die teilweise auf der ersten Oberfläche der halbleitenden Schicht angeordnete Kontaktfolie kann in der Solarzelle in unterschiedlichen geometrischen Formen eingesetzt werden. Vorzugsweise ist die Kontaktfolie in Form von mindestens einem Kontaktfolienband auf der ersten Oberfläche der halbleitenden Schicht angeordnet.The contact foil, which is partially arranged on the first surface of the semiconducting layer, can be used in the solar cell in different geometrical shapes. Preferably, the contact foil is arranged in the form of at least one contact foil strip on the first surface of the semiconductive layer.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind auf der ersten Oberfläche der halbleitenden Schicht mehrere parallele äquidistante Kontaktfolienbänder angeordnet.In a preferred embodiment of the invention, a plurality of parallel equidistant contact foil strips are arranged on the first surface of the semiconductive layer.

Beispielsweise kann bei einer Solarzelle mit einer im Wesentlichen quadratischen Grundfläche mit einer Seitenlänge von 10 cm bis 25 cm eine Kontaktfolie eingesetzt werden, die aus 2 bis 6 Kontaktfolienbändern mit einer Breite im Bereich von jeweils 0,5 bis 3 cm besteht.For example, in the case of a solar cell having a substantially square base area with a side length of 10 cm to 25 cm, a contact foil consisting of 2 to 6 contact foil tapes with a width in the range of 0.5 to 3 cm in each case can be used.

In der halbleitenden Schicht können die hierfür üblichen, dem Fachmann bekannten Materialien eingesetzt werden.In the semiconducting layer, the customary materials known to those skilled in the art can be used.

Die elektrisch leitende Schicht kann aus einer Vielzahl von elektrisch leitenden Materialien bestehen, solange dieses Material die Funktion einer elektrisch leitenden Schicht in einer Solarzelle nicht beeinträchtigt. Die elektrisch leitende Schicht kann insbesondere aus einem Metall oder einem elektrisch leitfähigen organischen Polymer bestehen.The electrically conductive layer may consist of a plurality of electrically conductive materials, as long as this material does not impair the function of an electrically conductive layer in a solar cell. The electrically conductive layer may in particular consist of a metal or an electrically conductive organic polymer.

Als Metalle für die elektrisch leitende Schicht werden vorzugsweise Edelmetalle, Aluminium und Aluminiumlegierungen, Kupfer, Titan, oder Silber verwendet. Besonders bevorzugt werden Aluminium, Aluminiumlegierungen und Kupfer verwendet, und ganz besonders bevorzugt werden Aluminium oder Aluminiumlegierungen eingesetzt. Es können sowohl gleiche Metalle miteinander verbunden werden als auch unterschiedliche Metalle. Es ist auch ein mehrschichtiger Aufbau (z. B. Al/Cu) möglich.As metals for the electrically conductive layer, it is preferable to use noble metals, aluminum and aluminum alloys, copper, titanium, or silver. Aluminum, aluminum alloys and copper are particularly preferably used, and very particularly preferably aluminum or aluminum alloys are used. It can be connected to each other the same metals as well as different metals. A multilayer structure (eg Al / Cu) is also possible.

Besonders geeignete elektrisch leitfähige organische Polymere weisen Ketten mit konjugierten Doppelbindungen auf. Unter diesen sind wiederum solche bevorzugt, die sich von einem substituierten Polythiophen ableiten, wobei die Substituenten vorzugsweise C1-C10-Alkyl- oder Alkoxygruppen aufweisen.Particularly suitable electrically conductive organic polymers have chains with conjugated double bonds. Among these, those derived from a substituted polythiophene are again preferred, the substituents preferably having C 1 -C 10 -alkyl or alkoxy groups.

Zur Verbindung der vorgenannten Metalle eignet sich Ultraschallschweißen besonders gut. Mittels Ultraschallschweißen kann auch eine Verbindung zwischen elektrisch leitenden thermoplastischen Kunststoffen untereinander oder mit einem Metall hergestellt werden.Ultrasonic welding is particularly well suited for bonding the aforementioned metals. By means of ultrasonic welding, it is also possible to produce a connection between electrically conductive thermoplastics with one another or with a metal.

Die elektrisch leitende Schicht hat vorzugsweise eine Dicke von 0.05 bis 0.2 mm und ist insbesondere eine Aluminium- oder Kupferfolie.The electrically conductive layer preferably has a thickness of 0.05 to 0.2 mm and is in particular an aluminum or copper foil.

Der hierin verwendete Begriff „ein- oder mehrschichtige Folie” ist breit auszulegen; er umfasst eine einzige Folie aus einem bestimmten Material, z. B. eine Polyethylenterephthalat(PET)-Folie, aber auch ein Laminat, das aus mehreren verbundenen Folien besteht. Der hierin verwendete Begriff „Schicht” kann daher auch die Bedeutung Folie haben.The term "single or multilayer film" used herein is to be interpreted broadly; it comprises a single film of a particular material, e.g. As a polyethylene terephthalate (PET) film, but also a laminate, which consists of several connected films. The term "layer" as used herein can therefore also have the meaning of foil.

Für den Fall, dass als erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie eine einschichtige Folie durch Stanzen unter Bildung einer Vielzahl von ersten Löchern perforiert und die dabei erhaltene perforierte Folie mit einer elektrisch leitenden Schicht laminiert wird, wird vorzugsweise eine Polyethylenterephthalat-Folie verwendet. Eine solche einschichtige Folie wird hierin auch als Isolatorfolie bezeichnet.In the case where a single-layered or multi-layered perforated film is perforated by punching to form a plurality of first holes and the resulting perforated film is laminated with an electrically conductive layer, a polyethylene terephthalate film is preferably used. Such a monolayer film is also referred to herein as an insulator film.

Für den Fall, dass als erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie eine mehrschichtige Folie verwendet wird, werden als Materialien vorzugsweise EVA(Ethylenvinylacetat)-Polymer und Polyethylenterephthalat verwendet. Eine dieser Schichten bzw. Folien wird hierin ebenfalls als Isolatorfolie bezeichnet. Diese Isolatorfolie ist vorzugsweise eine Polyethylenterephthalat-Folie.In the case where a multilayered film is used as the first single-layered or multi-layered perforated film, the materials preferably used are EVA (ethylene-vinyl acetate) polymer and polyethylene terephthalate. One of these layers or foils is also referred to herein as insulator film. This insulator film is preferably a polyethylene terephthalate film.

Die erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie aus einem nichtleitenden Material kann eine Rückseitenfolie als Rückseitenbeschichtung zum Schutz der Solarzelle bzw. eines die Solarzelle enthaltenden Solarmoduls vor Umwelteinflüssen enthalten. Die Rückseitenbeschichtung enthält vorzugsweise ein fluorhaltiges Polymer, insbesondere ein Polyvinylfluorid (PVF). Ein besonders geeignetes Polyvinylfluorid ist unter der Bezeichnung Tedlar® von der Firma Dupont erhältlich ist. Die Rückseitenbeschichtung kann ein- oder mehrschichtig sein, z. B. ein PVF-Polyester-PVF-Verbund.The first single-layer or multi-layer perforated film made of a non-conductive material may contain a backsheet as a backcoat for protecting the solar cell or a solar module containing the solar cell from environmental influences. The backside coating preferably contains a fluorine-containing polymer, in particular a polyvinyl fluoride (PVF). A particularly suitable polyvinyl fluoride is available under the name Tedlar ® from Dupont. The backside coating may be single or multi-layered, e.g. B. a PVF polyester PVF composite.

Die Verwendung einer mehrschichtigen Folie als der ersten ein- oder mehrschichtigen Folie ist erfindungsgemäß bevorzugt, da bei einer vorzugsweise weichen eingesetzten Isolatorfolie (auch als Schmelzfolie bezeichnet) der Stanzprozess erleichtert ist. Eine EVA-Folie ist weich und wird daher vorzugsweise zusammen mit einer sie stützenden zweiten Folie gestanzt.The use of a multilayer film as the first single-layer or multi-layer film is preferred according to the invention, since in a preferably soft insulator film used (also referred to as melt film), the punching process is facilitated. An EVA film is soft and is therefore preferably punched together with a supporting second film.

Die in der ersten ein- oder mehrschichtigen Folie verwendeten Folien bzw. Schichten haben vorzugsweise eine Dicke von 0,01 bis 0,5 mm, besonders bevorzugt von 0,2 bis 0,4 mm.The films or layers used in the first single or multilayer film have preferably a thickness of 0.01 to 0.5 mm, more preferably from 0.2 to 0.4 mm.

Die erste ein- oder mehrschichtige Folie wird im Allgemeinen mit einem Kleber mit der elektrisch leitenden Schicht verbunden. Derartige Kleber sind an sich bekannt.The first single or multilayer film is generally bonded to the electrically conductive layer with an adhesive. Such adhesives are known per se.

In einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Solarzelle umfasst die lotfreie elektrisch leitende Verbindung ein Kontaktband zwischen dem Teil der ersten und zweiten Kontaktstellen und der strukturierten elektrisch leitenden Schicht.In a preferred embodiment of the solar cell according to the invention, the solder-free electrically conductive connection comprises a contact band between the part of the first and second contact points and the structured electrically conductive layer.

Das Material des Kontaktbandes ist im Allgemeinen aus denselben Materialien ausgewählt wie das der elektrisch leitenden Schicht. Die Größe des Kontaktbandes ist vorzugsweise auf die Größe des ersten und eines weiter unten beschriebenen zweiten Loches abgestimmt, die vorzugsweise eine Lochgröße entsprechend einem Durchmesser von 1 bis 10 mm, insbesondere von 2 bis 5 mm haben. Hierbei wird im Allgemeinen der Abstand zwischen den Löchern berücksichtigt, so dass bei einem größeren Abstand der Löcher in der Regel auch ein größeres Kontaktband benutzt werden kann.The material of the contact band is generally selected from the same materials as that of the electrically conductive layer. The size of the contact band is preferably matched to the size of the first and a second hole described below, which preferably have a hole size corresponding to a diameter of 1 to 10 mm, in particular from 2 to 5 mm. Here, the distance between the holes is generally taken into account, so that with a larger distance between the holes usually a larger contact band can be used.

Darüberhinaus ist es bevorzugt, dass die lotfreie elektrisch leitende Verbindung einen elektrisch leitenden Kleber umfasst oder durch Ultraschallschweißen erhältlich ist.Moreover, it is preferred that the solderless electrically conductive connection comprises an electrically conductive adhesive or is obtainable by ultrasonic welding.

Die elektrisch leitende Verbindung kann vorteilhaft auch durch Laserschweißen erhalten werden. Hierbei wird vorzugsweise ein Niederhalter für die elektrisch leitende Schicht verwendet, so dass sich elektrisch leitende Schicht und Kontaktstellen berühren können. An der Stelle, an welcher der Laserstrahl den Niederhalter passiert, ist der Niederhalter im Allgemeinen transparent oder aber der Niederhalter weist hier eine Ausnehmung auf.The electrically conductive connection can advantageously also be obtained by laser welding. In this case, a hold-down device for the electrically conductive layer is preferably used, so that electrically conductive layer and contact points can touch. At the point where the laser beam passes the hold-down, the hold-down is generally transparent or the hold-down has a recess here.

Im Allgemeinen weist die Solarzelle der Erfindung neben den bereits erwähnten Schichten (halbleitende Schicht, erste ein- oder mehrschichtige perforierte Folie, strukturierte elektrisch leitende Schicht) weitere Schichten auf. So weist die Solarzelle vorzugsweise auf der zweiten Oberfläche der halbleitenden Schicht eine zweite ein- oder mehrschichtige Folie auf, die z. B. eine Antireflexionsschicht (z. B. aus Siliziumnitrid) und/oder eine weitere Schutzfolie (z. B. aus Ethylen-Vinylacetat-Polymer) umfasst. Schließlich ist auf der zweiten ein- oder mehrschichtigen Folie im Allgemeinen noch eine transparente Scheibe, z. B. aus Glas oder Polycarbonat, vorzugsweise aus Glas angeordnet.In general, the solar cell of the invention has, in addition to the already mentioned layers (semiconductive layer, first single-layer or multi-layer perforated foil, structured electrically conductive layer), further layers. Thus, the solar cell preferably on the second surface of the semiconductive layer on a second single- or multi-layer film, the z. Example, an antireflection layer (eg., Of silicon nitride) and / or a further protective film (eg., From ethylene-vinyl acetate polymer). Finally, on the second single or multilayer film is generally still a transparent disc, for. B. made of glass or polycarbonate, preferably made of glass.

Die Dicke der halbleitenden Schicht beträgt vorzugsweise 20 bis 500 μm und ganz besonders bevorzugt 80 bis 220 μm. Die Dicke der ersten ein- oder mehrschichtigen perforierten Folie beträgt vorzugsweise 20 bis 400 μm. Die Dicke der strukturierten elektrisch leitenden Schicht beträgt vorzugsweise 5 bis 200 μm.The thickness of the semiconducting layer is preferably 20 to 500 μm and most preferably 80 to 220 μm. The thickness of the first single-layer or multi-layer perforated film is preferably 20 to 400 μm. The thickness of the patterned electrically conductive layer is preferably 5 to 200 μm.

Erfindungsgemäß ganz besonders bevorzugt ist die lotfreie elektrische Verbindung durch Ultraschallschweißen erhältlich.Most preferably according to the invention, the solderless electrical connection is obtainable by ultrasonic welding.

Ultraschallschweißen, ohne oder mit gleichzeitiger Wärmezufuhr, ist eine Form des Schweißens, bei der kinetische Energie in Form von Reibung ausgenutzt wird, die im Allgemeinen durch eine oszillierende translatorische Relativbewegung der zu verbindenden Teile unter Einwirkung eines statischen Drucks entsteht. Im Vergleich hierzu wird beim Reibschweißen Reibung ausgenutzt, die vorwiegend durch eine rotierende oder oszillierende Relativbewegung der zu verbindenden Teile unter Einwirkung eines statischen Drucks entsteht. Während erfindungsgemäß im Prinzip auch das Reibschweißen für die Erzeugung der elektrisch leitenden Verbindung verwendet werden kann, wird besonders bevorzugt Ultraschallschweißen herangezogen.Ultrasonic welding, with or without simultaneous heat input, is a form of welding in which kinetic energy is used in the form of friction, which generally results from an oscillating relative translational movement of the parts to be joined under the influence of a static pressure. In comparison, friction is used in friction welding, which is mainly caused by a rotating or oscillating relative movement of the parts to be joined under the action of a static pressure. While according to the invention, in principle, friction welding can also be used to produce the electrically conductive connection, ultrasound welding is particularly preferred.

Im Allgemeinen umfasst ein Ultraschallschweißgerät eine untere Elektrode (als „Amboss” bezeichnet) und eine obere Elektrode (als „Sonotrode” bezeichnet). Die Sonotrode führt in einer Verbindungsebene der zu verbindenden Flächen Schwingungen mit einer Frequenz von im Allgemeinen 10 bis 200 kHz, vorzugsweise von 30 bis 100 kHz aus. Die Amplitude liegt im Allgemeinen im Bereich von 1 bis 50 μm und die Leistung im Allgemeinen im Bereich von 0,01 bis 1 kW, wobei die Schweißzeiten im Allgemeinen zwischen 0,1 und 1 sec liegen. Die Schwingungsrichtung des Ultraschalls und die Kraftrichtung verlaufen im Allgemeinen zueinander senkrecht, wobei die zu verbindenden Flächen aufeinander reiben. Vorzugsweise wird auf die Verwendung von Schweißzusätzen verzichtet.In general, an ultrasonic welder includes a lower electrode (referred to as "anvil") and an upper electrode (called a "sonotrode"). The sonotrode executes vibrations in a connection plane of the surfaces to be connected with a frequency of generally 10 to 200 kHz, preferably from 30 to 100 kHz. The amplitude is generally in the range of 1 to 50 microns and the power generally in the range of 0.01 to 1 kW, with the welding times are generally between 0.1 and 1 sec. The direction of vibration of the ultrasound and the direction of force are generally perpendicular to each other, with the surfaces to be joined rubbing against each other. Preferably, the use of welding consumables is dispensed with.

Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, wenn das Ultraschallschweißen ohne Zufuhr zusätzlicher Wärmeenergie stattfindet. Allerdings kann das Ultraschallschweißen auch unter Zufuhr zusätzlicher Wärmeenergie durchgeführt werden, indem der Amboss beispielsweise zusätzlich elektrisch beheizt wird.According to the invention it is preferred if the ultrasonic welding takes place without supplying additional heat energy. However, the ultrasonic welding can also be carried out with the supply of additional heat energy, for example, by the anvil is electrically heated.

Für die konzentrierte Einleitung der Ultraschallenergie können Sonotrode und Amboss an die jeweilige Verbindungsform angepasst werden.For the concentrated introduction of the ultrasonic energy sonotrode and anvil can be adapted to the respective connection form.

Die erreichbare Festigkeit der elektrisch leitenden Verbindung hängt von mehreren Parametern ab. Insbesondere sind die Art der zu verschweißenden Materialien, die Schweißleistung und -amplitude des Schweißsystems und die Beschaffenheit von Sonotrode und Amboss zu berücksichtigen. Als Material für die Sonotrode und den Amboss können zahlreiche unterschiedliche Materialien eingesetzt werden, solange der Zweck der Erfindung erreicht wird.The achievable strength of the electrically conductive connection depends on several parameters. In particular, the type of materials to be welded, the welding power and amplitude of the welding system and the nature of sonotrode and anvil are taken into account. As material for the sonotrode and the anvil can many different materials are used as long as the purpose of the invention is achieved.

Für die konzentrierte Einleitung der Ultraschallenergie können Sonotrode und Amboss an die jeweilige Form der beabsichtigten elektrisch leitenden Verbindung angepasst werden. Hierbei kann auch berücksichtigt werden, ob die zu verbindenden Materialien erst physisch miteinander in Kontakt gebracht werden müssen. So wird bei einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung die strukturierte elektrisch leitende Schicht mit Hilfe eines Ultraschallschweißgeräts auf die ersten Kontaktstellen und die zweiten Kontaktstellen der halbleitenden Schicht gedrückt.For the concentrated introduction of the ultrasonic energy sonotrode and anvil can be adapted to the particular shape of the intended electrically conductive connection. This can also take into account whether the materials to be joined must first be physically brought into contact with each other. Thus, in a particularly preferred embodiment of the invention, the structured electrically conductive layer is pressed by means of an ultrasonic welding device on the first contact points and the second contact points of the semiconductive layer.

In einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Solarzelle ist die lotfreie elektrische Verbindung eine direkte Verbindung zwischen den ersten und zweiten Kontaktstellen oder einem Teil davon und der strukturierten elektrisch leitenden Schicht. „Direkte Verbindung” bedeutet hierbei insbesondere, dass sich zwischen der ersten oder zweiten Kontaktstelle und der strukturierten elektrisch leitenden Schicht kein weiteres Material befindet. Die direkte Verbindung lässt sich vorzugsweise durch Ultraschallschweißen erzeugen.In a preferred embodiment of the solar cell according to the invention, the solderless electrical connection is a direct connection between the first and second contact points or a part thereof and the structured electrically conductive layer. "Direct connection" here means, in particular, that there is no further material between the first or second contact point and the structured electrically conductive layer. The direct connection can preferably be produced by ultrasonic welding.

Gegenstand der Erfindung ist weiterhin ein Solarmodul, welches eine Vielzahl der oben beschriebenen Solarzellen aufweist. Die Solarzellen sind im Allgemeinen benachbart zueinander angeordnet und elektrisch miteinander verbunden. Auf der Rückseite, d. h. der beim Betrieb der Sonnenstrahlung abgewandten Seite der Solarzelle sind in einer vorbestimmten Anordnung, beispielsweise in einer Matrixanordnung, eine Mehrzahl von ersten Kontaktstellen einer ersten Polarität und von zweiten Kontaktstellen einer entgegen gesetzten Polarität beabstandet zueinander angeordnet. Die Kontaktabschnitte entgegen gesetzter Polarität sind dabei ineinander verschachtelt ausgeführt, in Entsprechung zum Layout der zugeordneten, zu kontaktierenden Kontaktstellen.The invention furthermore relates to a solar module which has a large number of the solar cells described above. The solar cells are generally arranged adjacent to each other and electrically connected to each other. On the back, d. H. the side facing away from the solar radiation side of the solar cell are arranged in a predetermined arrangement, for example in a matrix arrangement, a plurality of first contact points of a first polarity and second contact points of opposite polarity spaced from each other. The contact portions of opposite polarity are executed interleaved, in accordance with the layout of the associated contact points to be contacted.

Vorzugsweise sind die Kontaktstellen gleicher Polarität auf der Rückseite der Solarzelllen pro Polarität abwechselnd in parallelen Reihen angeordnet. Eine Kontaktfolie aus der ersten ein- oder mehrschichtigen, perforierten Folie und der strukturierten elektrischen Schicht kann eine einzelne Reihe von Solarzellen (sog. String) oder ein ganzes Solarmodul verbinden. Durch das teilweise Wegätzen der elektrisch leitenden Schicht, z. B. einer Metallfolie aus Aluminium oder Kupfer, entstehen Leiterbahnen, welche die Solarzellen nach dem bevorzugten Ultraschallschweissen in gewünschter Weise verbinden, beispielsweise in einer Serienschaltung zur Erzielung einer höheren Spannung oder in Parallelschaltung zur Erzielung einer höheren Stromstärke des bei Lichteinfall auf die Solarzelle erzeugten elektrischen Stromes. Kombinationen dieser Schaltungen sind ebenfalls möglich.Preferably, the contact points of the same polarity on the back of the solar cell per polarity are arranged alternately in parallel rows. A contact foil made of the first single- or multilayer, perforated foil and the structured electrical layer can connect a single row of solar cells (so-called string) or an entire solar module. By partially etching away the electrically conductive layer, for. As a metal foil made of aluminum or copper, conductor tracks, which connect the solar cells after the preferred ultrasonic welding in the desired manner, for example in a series circuit to achieve a higher voltage or in parallel to achieve a higher amperage of the electric current generated in the light of the solar cell , Combinations of these circuits are also possible.

Geeignete Verbindungsanordnungen für die elektrische Verbindung von Solarzellen sind beispielsweise in der WO 2008/113741 A beschrieben.Suitable connection arrangements for the electrical connection of solar cells are for example in the WO 2008/113741 A described.

Schließlich ist Gegenstand der Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer Solarzelle, welche die folgenden Schichten umfasst:

  • (a) eine halbleitende Schicht mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche, wobei auf der ersten Oberfläche eine Vielzahl von ersten Kontaktstellen und zweiten Kontaktstellen ausgebildet sind, welche entgegengesetzte Polaritäten aufweisen;
  • (b) eine auf einem Teil der ersten Oberfläche (4) angeordnete Kontaktfolie (27), umfassend (b1) eine erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie aus einem elektrisch nicht leitenden Material, die eine Vielzahl von ersten Löchern aufweist; und (b2) eine strukturierte elektrisch leitende Schicht auf einer der halbleitenden Schicht a abgewandten Oberfläche der perforierten Folie b1; wobei die erste ein- oder mehrschichtige perforierte Folie b1 und die halbleitende Schicht a so zueinander positioniert sind, dass zumindest ein Teil der ersten Löcher und der ersten Kontaktstellen und der zweiten Kontaktstellen einander gegenüber liegen, und wobei mindestens ein Teil der ersten und zweiten Kontaktstellen über eine lotfreie elektrisch leitende Verbindung mit der strukturierten elektrisch leitenden Schicht verbunden sind, und wobei
  • (d) auf einem Teil der ersten Oberfläche der halbleitenden Schicht eine erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie aus einem elektrisch nicht leitenden Material, die eine Vielzahl von ersten Löchern aufweist, aufgebracht wird, und auf dieser perforierten Folie eine elektrisch leitende Schicht aufgebracht wird, wobei die perforierte Folie auf der halbleitenden Schicht so aufgebracht wird, dass zumindest ein Teil der ersten Löcher und der ersten Kontaktstellen und der zweiten Kontaktstellen einander gegenüber liegen;
  • (e) die elektrisch leitende Schicht strukturiert wird; und
  • (f) die dadurch erhaltene strukturierte elektrisch leitende Schicht durch die ersten Löcher hindurch über eine lotfreie elektrisch leitende Verbindung mit den ersten Kontaktstellen und den zweiten Kontaktstellen verbunden wird.
Finally, the subject matter of the invention is a process for producing a solar cell, which comprises the following layers:
  • (a) a semiconductive layer having a first surface and a second surface, wherein on the first surface are formed a plurality of first pads and second pads having opposite polarities;
  • (b) one on a part of the first surface ( 4 ) arranged contact foil ( 27 comprising (b1) a first single or multi-layer perforated foil of an electrically non-conductive material having a plurality of first holes; and (b2) a structured electrically conductive layer on a surface of the perforated foil b1 facing away from the semiconductive layer a; wherein the first single- or multi-layer perforated sheet b1 and the semiconductive layer a are positioned to each other such that at least a part of the first holes and the first contact pads and the second contact pads face each other, and at least a part of the first and second contact pads overlap a solderless electrically conductive connection is connected to the structured electrically conductive layer, and wherein
  • (D) on a portion of the first surface of the semiconductive layer, a first single- or multi-layer perforated sheet of an electrically non-conductive material having a plurality of first holes, is applied, and on this perforated film, an electrically conductive layer is applied wherein the perforated film is deposited on the semiconductive layer such that at least a portion of the first holes and the first contact pads and the second contact pads face each other;
  • (e) the electrically conductive layer is patterned; and
  • (F) the resulting structured electrically conductive layer is connected through the first holes through a solder-free electrically conductive connection with the first contact points and the second contact points.

„Strukturieren der elektrisch leitenden Schicht” bedeutet, dass aus einer ursprünglich kompakten elektrisch leitenden Schicht Teile entfernt werden, so dass nur solche Teile der ursprünglich kompakten elektrisch leitenden Schicht zurückbleiben, die für eine vorgesehene Kontaktierung von Kontaktstellen relevant sind. Dies kann beispielsweise dadurch geschehen, dass die elektrisch leitende Schicht so mit einer Abdeckschicht versehen wird, dass nur die Strukturen der später erhaltenen strukturierten elektrisch leitenden Schicht mit der Abdeckschicht versehen werden. Die nicht mit der Abdeckschicht versehenen Teile der elektrisch leitenden Schicht können dann beispielsweise in einem geeigneten Ätzbad entfernt werden."Structuring the electrically conductive layer" means that parts are removed from an originally compact electrically conductive layer, so that only those parts of the originally compact electrically conductive layer remain behind, which are relevant for an intended contacting of contact points. This can be done, for example, by providing the electrically conductive layer with a cover layer in such a way that only the structures of the later-obtained structured electrically conductive layer are provided with the cover layer. The parts of the electrically conductive layer not provided with the covering layer can then be removed, for example, in a suitable etching bath.

Vorzugsweise wird die strukturierte elektrisch leitende Schicht durch Ultraschallschweißen oder Reibschweißen, besonders bevorzugt durch Ultraschallschweißen, mit den ersten Kontaktstellen und den zweiten Kontaktstellen verbunden.The structured electrically conductive layer is preferably connected to the first contact points and the second contact points by ultrasonic welding or friction welding, particularly preferably by ultrasonic welding.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird eine erste ein- oder mehrschichtige Folie aus einem oder mehreren elektrisch nicht leitenden Materialien durch Stanzen unter Bildung einer Vielzahl von ersten Löchern perforiert und die dabei erhaltene erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie mit einer elektrisch leitenden Schicht laminiert.In a preferred embodiment of the invention, a first monolayer or multilayer film of one or more electrically non-conductive materials is perforated by punching to form a plurality of first holes, and the resulting first monolayer or multilayer perforated film is laminated with an electrically conductive layer ,

In einer besonders bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die strukturierte elektrisch leitende Schicht durch die ersten Löcher hindurch auf die ersten Kontaktstellen und die zweiten Kontaktstellen gedrückt und anschließend durch Ultraschallschweißen die strukturierte elektrisch leitende Schicht mit den ersten Kontaktstellen und den zweiten Kontaktstellen verbunden. Hierbei wird das Drücken der strukturierten elektrisch leitenden Schicht auf die ersten Kontaktstellen und die zweiten Kontaktstellen vorzugsweise mit einem Ultraschallschweißgerät durchgeführt. Hierzu kann die Sonotrode an ihrer Spitze geeignet ausgestaltet sein, um ein optimales Aufdrücken zu gewährleisten.In a particularly preferred embodiment of the method according to the invention, the structured electrically conductive layer is pressed through the first holes on the first contact points and the second contact points and then connected by ultrasonic welding the structured electrically conductive layer with the first contact points and the second contact points. Here, the pressing of the structured electrically conductive layer on the first contact points and the second contact points is preferably carried out with an ultrasonic welder. For this purpose, the sonotrode may be designed at its tip suitable to ensure optimum pressing.

Die ersten Löcher haben vorzugsweise eine runde Form. Beim Niederdrücken der strukturierten elektrisch leitenden Schicht wird daher im Allgemeinen ein kreisrunder Ausschnitt der elektrisch leitenden Schicht herunter gedrückt. Zur Verminderung von mechanischen Spannungen kann vorgesehen sein, dass vor dem Herunterdrücken zu beiden Seiten eines verbleibenden Steges jeweils ein Kreisabschnitt heraus gestanzt wird.The first holes preferably have a round shape. When the structured electrically conductive layer is pressed down, therefore, a circular cutout of the electrically conductive layer is generally pressed down. To reduce mechanical stresses can be provided that before pressing down on both sides of a remaining web each a circle section is punched out.

In einer alternativen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die elektrisch leitende Schicht durch Stanzen mit einer Vielzahl von zweiten Löchern versehen, so dass die zweiten Löcher über den ersten Löchern liegen; ein Kontaktband zwischen dem Teil der ersten Kontaktstellen und der zweiten Kontaktstellen und der strukturierten elektrisch leitenden Schicht angebracht; und eine lotfreie elektrisch leitende Verbindung erzeugt.In an alternative embodiment of the method according to the invention, the electrically conductive layer is provided by punching with a plurality of second holes, so that the second holes are located above the first holes; a contact band is disposed between the portion of the first pads and the second pads and the patterned electrically conductive layer; and generates a solderless electrically conductive connection.

Die ersten und/oder zweiten Löcher können verschiedene Querschnitte haben. Vorzugsweise haben sowohl die ersten Löcher als auch die zweiten Löcher einen kreisförmigen Querschnitt.The first and / or second holes may have different cross sections. Preferably, both the first holes and the second holes have a circular cross-section.

Die Größe der ersten Löcher und/oder der zweiten Löcher entspricht im Allgemeinen einem Kreis mit einem Durchmesser zwischen 1 und 10 mm, vorzugsweise zwischen 2 und 5 mm, wobei die ersten Löcher und die zweiten Löcher vorzugsweise den gleichen Querschnitt haben.The size of the first holes and / or the second holes generally corresponds to a circle having a diameter between 1 and 10 mm, preferably between 2 and 5 mm, wherein the first holes and the second holes preferably have the same cross-section.

Erfindungsgemäß beträgt die Entfernung zwischen den Löchern (ersten und zweiten Löchern) und/oder zwischen den Kontaktstellen vorzugsweise 1 bis 15 cm und besonders bevorzugt 3 bis 7 cm.According to the invention, the distance between the holes (first and second holes) and / or between the contact points is preferably 1 to 15 cm and more preferably 3 to 7 cm.

In den erfindungsgemäßen Solarzellen bzw. beim erfindungsgemäßen Verfahren zu deren Herstellung kann die Erzeugung von zweiten Löchern, vorzugsweise durch Stanzen der elektrisch leitenden Schicht unter Ausbildung von zweiten Löchern in der elektrisch leitenden Schicht, vor oder nach dem Strukturieren der metallisch leitenden Schicht, beispielsweise in einem Ätzbad, geschehen.In the solar cells according to the invention or in the process according to the invention for their production, the production of second holes, preferably by punching the electrically conductive layer to form second holes in the electrically conductive layer, before or after structuring the metallically conductive layer, for example in a Etching bath, done.

Das Kontaktband wird über den zweiten Löchern aufgebracht und durch Niederdrücken in physischen Kontakt mit der halbleitenden Schicht gebracht. Hierbei kann der physische Kontakt direkt oder indirekt sein. Bei einem indirekten Kontakt befindet sich zwischen dem Kontaktband und der halbleitenden Schicht und/oder der elektrisch leitenden Schicht beispielsweise ein an sich bekannter elektrisch leitender Kleber. Das Kontaktband ist im Allgemeinen an zwei Stellen mit der strukturierten elektrisch leitenden Schicht verbunden und an einer Stelle mit der halbleitenden Schicht. An diesen drei Stellen kann eine elektrisch leitende Verbindung durch verschiedene Methoden wie beispielsweise Kleben oder Ultraschallschweißen realisiert sein. Vorzugsweise wird für alle drei Stellen die gleiche Art der Verbindung verwendet, so dass beispielsweise das Kontaktband an zwei Stellen mittels Ultraschallschweißen mit der elektrisch leitenden Schicht verbunden wird und an einer Stelle mit der halbleitenden Schicht.The contact band is applied over the second holes and brought into physical contact with the semiconductive layer by depression. Here, the physical contact can be direct or indirect. In an indirect contact is located between the contact strip and the semiconducting layer and / or the electrically conductive layer, for example, a per se known electrically conductive adhesive. The contact band is generally connected at two locations to the patterned electrically conductive layer and at a location having the semiconductive layer. At these three points, an electrically conductive connection can be realized by various methods such as gluing or ultrasonic welding. Preferably, the same type of connection is used for all three points, so that, for example, the contact band is connected to the electrically conductive layer in two places by means of ultrasonic welding and at one point with the semiconductive layer.

Der ggf. elektrisch leitende Kleber kann durch Dispensen oder Siebdruck auf die Zellen oder die Kontaktfolie aufgebracht werden. Es kann sich dabei um Ein- oder Mehrkomponentenkleber handeln, die bei Raumtemperatur, bei erhöhter Temperatur, unter Druck oder unter UV-Strahlung aushärten.The possibly electrically conductive adhesive can be applied to the cells or the contact foil by dispensing or screen printing. They may be single-component or multi-component adhesives which cure at room temperature, at elevated temperature, under pressure or under UV radiation.

Die Erfindung betrifft außerdem ein Verfahren zur Herstellung eines Kontaktfolienbandes mit einer Breite von 0,5 cm bis 3 cm, das eine erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie aus einem elektrisch nicht leitenden Material mit einer Vielzahl von ersten Löchern und eine strukturierte elektrisch leitende Schicht aufweist, wobei

  • (g) eine erste ein- oder mehrschichtige Folie aus einem oder mehreren elektrisch nicht leitenden Materialien bereitgestellt wird;
  • (h) die erste ein- oder mehrschichtige Folie mit einer elektrisch leitenden Schicht verbunden wird;
  • (i) auf mindestens einem Teil der elektrisch leitenden Schicht eine Abdeckschicht aufgebracht wird;
  • (j) die nicht mit der Abdeckschicht versehenen Teile der elektrisch leitenden Schicht in einem Ätzbad entfernt werden; und
  • (k) durch Stanzen mindestens die erste ein- oder mehrschichtige Folie mit einer Vielzahl von ersten Löchern versehen wird; und wobei das Stanzen gemäß Schritt (k) nach jedem der Schritte (g) bis (j) durchgeführt werden kann; und die erste ein- oder mehrschichtige Folie und/oder die elektrisch leitende Schicht mit einer Breite von 0,5 cm bis 3 cm bereitgestellt werden oder in einem Schritt
  • (l) auf eine Breite von 0,5 cm bis 3 cm geschnitten werden.
The invention also relates to a method for producing a contact foil tape having a width of 0.5 cm to 3 cm, comprising a first single-layer or multi-layer perforated foil made of an electrically non-conductive material having a plurality of first holes and a structured electrically conductive layer, wherein
  • (g) providing a first monolayer or multilayer film of one or more electrically non-conductive materials;
  • (h) bonding the first single or multilayer film to an electrically conductive layer;
  • (i) a covering layer is applied to at least part of the electrically conductive layer;
  • (j) removing the portions of the electrically conductive layer not provided with the capping layer in an etching bath; and
  • (k) by punching at least the first single- or multi-layer film is provided with a plurality of first holes; and wherein the stamping according to step (k) can be performed after each of the steps (g) to (j); and the first single- or multi-layered film and / or the electrically conductive layer are provided with a width of 0.5 cm to 3 cm or in one step
  • (l) cut to a width of 0.5 cm to 3 cm.

Eine Kontaktfolie im Sinne der vorliegenden Erfindung ist eine mindestens zweischichtige Folie, bei der eine Schicht aus einem elektrisch leitenden Material und eine weitere Schicht aus einem elektrisch isolierenden Material gebildet sind.A contact foil in the sense of the present invention is an at least two-layered foil in which a layer of an electrically conductive material and a further layer of an electrically insulating material are formed.

Das Aufbringen der Abdeckschicht erfolgt vorzugsweise durch Aufbringen einer Deckfarbe zum Schutz der im Ätzbad nicht wegzuätzenden Teile der elektrisch leitenden Schicht. Die Deckfarbe kann durch verschiedene Verfahren aufgetragen werden, beispielsweise durch Aufsprühen, Aufspritzen oder mittels Siebdruck. Insbesondere für den Fall, dass die Deckfarbe vollflächig aufgetragen wird, ist das Verfahren nicht besonders beschränkt. Sollen dagegen spezifische Strukturen vor dem Ätzen geschützt werden, wird die Deckfarbe vorzugsweise mittels Siebdruck aufgetragen.The application of the covering layer is preferably carried out by applying an overcoat to protect the parts of the electrically conductive layer which are not to be etched away in the etching bath. The top coat can be applied by various methods, for example by spraying, spraying or screen printing. In particular, in the case where the overcoat is applied over the entire surface, the method is not particularly limited. On the other hand, if specific structures are to be protected from etching, the cover color is preferably applied by screen printing.

Das Ätzbad besteht aus chemischen Substanzen, welche das Wegätzen der nicht geschützten Teile der elektrisch leitenden Schicht ermöglichen. Die Zusammensetzung des Ätzbades richtet sich daher nach der Art des eingesetzten Metalls oder des elektrisch leitfähigen Polymeren.The etching bath consists of chemical substances which allow the etching away of the non-protected parts of the electrically conductive layer. The composition of the etching bath therefore depends on the type of metal used or the electrically conductive polymer.

Anschließend an den Ätzschritt (j) im Ätzbad kann eine Reinigung der Kontaktierfolie beispielsweise in einem weiteren Bad (Tauchbad) durchgeführt werden. Das Stanzen der Folie kann zwischen dem Ätzschritt und der Reinigung der erhaltenen Kontaktierfolie oder nach der Reinigung des Laminats aus strukturierter elektrischer Schicht und erster ein- oder mehrschichtiger Folie nach dem Durchgang durch das Ätzbad durchgeführt werden. Ein Reinigungschritt nach dem Ätzbad kann insbesondere eine Entfernung der Abdeckschicht (z. B. Deckfarbe) von den geschützten Stellen und/oder von Bestandteilen des Ätzbades zum Gegenstand haben.Subsequent to the etching step (j) in the etching bath, a cleaning of the contacting film can be carried out, for example, in a further bath (immersion bath). The stamping of the foil can be carried out between the etching step and the cleaning of the resulting contacting foil or after the cleaning of the laminate of structured electrical layer and first single- or multilayer foil after passing through the etching bath. A cleaning step after the etching bath may, in particular, involve the removal of the covering layer (eg, topcoat color) from the protected areas and / or constituents of the etching bath.

Vorzugsweise wird beim erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung einer Kontaktfolie eine erste ein- oder mehrschichtige Folie verwendet, die eine beidseitig selbstklebende Isolatorfolie aufweist, auf deren einer Seite eine zweite ein- oder mehrschichtige Folie, z. B. eine Rückseitenfolie angeordnet ist, und auf deren anderer Seite eine Trennfolie, z. B. ein Siloxan-Liner, aufgebracht ist. Hierbei ist es bevorzugt, dass die erste ein- oder mehrschichtige Folie auf einer mit der elektrisch leitenden Schicht zu verbindenden Oberfläche mit einem Kleber versehen wird.Preferably, in the method according to the invention for producing a contact foil, a first monolayer or multilayer foil is used which has a self-adhesive isolator foil on both sides, on one side of which a second monolayer or multilayer foil, e.g. B. a back sheet is arranged, and on the other side a release film, for. As a siloxane liner is applied. In this case, it is preferable for the first monolayer or multilayer film to be provided with an adhesive on a surface to be joined to the electrically conductive layer.

Bei Verwendung einer zweiten ein- oder mehrschichtigen Folie ist das Stanzen der Isolatorfolie erleichtert, insbesondere, wenn die erste ein- oder mehrschichtige Folie nur aus der Isolatorfolie besteht.When using a second single-layer or multi-layered film, the stamping of the insulator foil is facilitated, in particular if the first single- or multilayered foil consists only of the insulator foil.

Die vorliegende Erfindung ermöglicht es, dass Solarzellen auf effiziente Weise mit einer sehr guten elektrisch leitenden Verbindung zwischen der zur Stromerzeugung verwendeten Schicht, d. h. der halbleitenden Schicht, und der zur Ableitung des erzeugten Solarstromes verwendeten elektrischen Verschaltung ausgestattet werden können.The present invention enables solar cells to be efficiently connected with a very good electrically conductive connection between the layer used for power generation, i. H. the semiconductive layer, and the electrical wiring used to derive the generated solar power can be equipped.

Zudem ermöglicht es die vorliegende Erfindung, dass Rückkontakt-Solarzellen auf optimale Weise mit einer flexiblen gedruckten Schaltung (Kontaktierfolie) elektrisch verbunden und gleichzeitig korrekt zueinander positioniert und fixiert werden können.In addition, the present invention enables back contact solar cells to be electrically connected to a flexible printed circuit (contact sheet) in an optimum manner while being correctly positioned and fixed to each other.

Weitere Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von nicht einschränkenden Ausführungsbeispielen für die erfindungsgemäße Solarzelle und die erfindungsgemäßen Verfahren. Dabei wird Bezug genommen auf die 1 bis 6.Further details of the invention will become apparent from the following description of non-limiting embodiments of the solar cell according to the invention and the inventive method. Reference is made to the 1 to 6 ,

1 zeigt einen Ausschnitt aus einem Solarmodul 3 gemäß der vorliegenden Erfindung, das in einer linearen Anordnung mehrere Solarzellen 1 gemäß der vorliegenden Erfindung aufweist. 1 shows a section of a solar module 3 according to the present invention, in a linear array, a plurality of solar cells 1 according to the present invention.

2 zeigt in einer perspektivischen Ansicht eines Ausschnittes aus einer Solarzelle drei nebeneinander angeordnete erfindungsgemäße Varianten für elektrisch leitende Verbindungen zwischen der elektrisch halbleitenden Schicht und der strukturierten elektrisch leitenden Schicht. 2 shows in a perspective view of a section of a solar cell three juxtaposed variants according to the invention for electrically conductive connections between the electrically semiconductive layer and the structured electrically conductive layer.

3 zeigt einen Schnitt durch eine Solarzelle gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 3 shows a section through a solar cell according to an embodiment of the present invention.

4 zeigt einen Schnitt durch eine Solarzelle gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 4 shows a section through a solar cell according to another embodiment of the present invention.

5 zeigt eine perspektivische Sicht einer ersten Ausführungsform für ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung eines Kontaktfolienbandes. 5 shows a perspective view of a first embodiment of a method according to the invention for producing a contact foil tape.

6 zeigt eine perspektivische Sicht einer zweiten Ausführungsform für ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung eines Kontaktfolienbandes. 6 shows a perspective view of a second embodiment of a method according to the invention for producing a contact foil tape.

1 zeigt einen Ausschnitt aus einem Solarmodul 3 gemäß der vorliegenden Erfindung, das in einer linearen Anordnung mehrere Solarzellen 1 aufweist. Drei Solarzellen 1 sind mittels dreier Kontaktfolienbänder 35 miteinander verbunden. Die parallel zueinander angeordneten Kontaktfolienbänder 35 bedecken nur einen Teil der hier nicht näher ersichtlichen ersten Oberfläche der Solarzellen 1. Auf jeder Solarzelle 1 befinden sich erste (positive) Kontaktstellen 6 und zweite (negative) Kontaktstellen 7, die bei der hier gezeigten Ausführungsform in zueinander jeweils parallelen Reihen angeordnet sind. Bei dem in 1 gezeigten Solarmodul 3 ist die mittlere Solarzelle um 180° gegenüber den benachbarten Solarzellen 1 gedreht, so dass in Richtung eines Kontaktfolienbandes 35 beispielsweise auf dem obersten Kontaktfolienband 35 erste (positive) Kontaktstellen 6 auf der linken Solarzelle 1, zweite (negative) Kontaktstellen 7 auf der mittleren Solarzelle 1 und wiederum erste (positive) Kontaktstellen 6 auf der rechten Solarzelle angeordnet sind. 1 shows a section of a solar module 3 according to the present invention, in a linear array, a plurality of solar cells 1 having. Three solar cells 1 are by means of three contact foil strips 35 connected with each other. The mutually parallel contact foil strips 35 cover only a part of the here not closer apparent first surface of the solar cells 1 , On every solar cell 1 There are first (positive) contact points 6 and second (negative) contact points 7 , which are arranged in the embodiment shown here in mutually parallel rows. At the in 1 shown solar module 3 is the average solar cell by 180 ° with respect to the neighboring solar cells 1 turned so that towards a contact foil tape 35 For example, on the top contact foil tape 35 first (positive) contact points 6 on the left solar cell 1 , second (negative) contact points 7 on the middle solar cell 1 and again first (positive) contact points 6 are arranged on the right solar cell.

Entlang eines Kontaktfolienbandes 35 sind auf einer Solarzelle die negativen und positiven Kontaktstellen durch einen isolierenden Bereich 36 voneinander elektrisch getrennt. Die ersten Kontaktstellen 6 positiver Polarität sind dagegen in der links dargestellten Solarzelle 1 elektrisch leitend mit einem ersten Kontaktfinger 33 verbunden und die zweiten Kontaktstellen 7 negativer Polarität sind in der in der Mitte dargestellten Solarzelle elektrisch leitend mit einem zweiten Kontaktfinger 34 verbunden. Erster Kontaktfinger 33 und zweiter Kontaktfinger 34 sind im Kontaktfolienband 35 enthalten, das so eine elektrische Verbindung der beiden Solarzellen in Form einer Reihenschaltung herstellt. Auf analoge Weise sind diese beiden Solarzellen mit weiteren, in 1 nicht gezeigten Solarzellen verbunden.Along a contact foil tape 35 are on a solar cell the negative and positive contact points through an insulating area 36 electrically isolated from each other. The first contact points 6 positive polarity, however, are in the solar cell shown on the left 1 electrically conductive with a first contact finger 33 connected and the second contact points 7 Negative polarity are electrically conductive in the solar cell shown in the middle with a second contact finger 34 connected. First contact finger 33 and second contact finger 34 are in contact foil tape 35 included, which thus produces an electrical connection of the two solar cells in the form of a series connection. In an analogous way, these two solar cells with further, in 1 not shown solar cells connected.

Die Größe der ersten Löcher 9 beträgt bei der in 1 gezeigten Ausführungsform der Erfindung jeweils 4 mm, wobei der Abstand der ersten Löcher 9 bei der hier gezeigten Ausführungsform 6 cm beträgt. Andere Größen und Abstände sind möglich.The size of the first holes 9 is at the in 1 shown embodiment of the invention each 4 mm, wherein the distance between the first holes 9 in the embodiment shown here is 6 cm. Other sizes and distances are possible.

Bei der in 1 gezeigten Solarzelle wird als Material der halbleitenden Schicht kristallines Silizium verwendet.At the in 1 shown solar cell is used as the material of the semiconductive layer of crystalline silicon.

2 zeigt in einer perspektivischen Ansicht eines Ausschnittes aus einer Solarzelle drei nebeneinander angeordnete erfindungsgemäße Varianten für elektrisch leitende Verbindungen 11 zwischen der elektrisch halbleitenden Schicht 2 und der strukturierten elektrisch leitenden Schicht 10 durch eine perforierte Folie 8 hindurch. In der Praxis wird allerdings in der Regel auf einer Solarzelle bzw. einem Solarmodul nur eine dieser Varianten verwendet. Allen Varianten ist gemeinsam, dass sich auf einer halbleitenden Schicht 2 mit einer ersten Oberfläche 4 und einer zweiten Oberfläche 5 auf der ersten Oberfläche 4 angeordnet erste und zweite Kontaktstellen 6, 7 unterschiedlicher Polarität befinden. Da die Art der Polarität keine Auswirkung auf die elektrische Verbindung hat, ist sie hier nicht angegeben. 2 shows in a perspective view of a section of a solar cell three juxtaposed variants of the invention for electrically conductive connections 11 between the electrically semiconductive layer 2 and the patterned electrically conductive layer 10 through a perforated foil 8th therethrough. In practice, however, only one of these variants is usually used on a solar cell or a solar module. All variants have in common that on a semiconducting layer 2 with a first surface 4 and a second surface 5 on the first surface 4 arranged first and second contact points 6 . 7 different polarity are. Since the nature of the polarity has no effect on the electrical connection, it is not specified here.

Bei der in 2 links gezeigten ersten Variante wird eine elektrisch leitende Verbindung 11 dadurch realisiert, dass ein auf einer strukturierten elektrisch leitenden Schicht 10 befindliches Kontaktband 12 durch ein erstes Loch 9 in der perforierten Folie 8 und ein zweites Loch 19 in der strukturierten elektrischen Schicht 10 mit einer ersten oder zweiten Kontaktstelle 6, 7 der halbleitenden Schicht 2 elektrisch verbunden ist.At the in 2 left first variant is an electrically conductive connection 11 realized in that a on a structured electrically conductive layer 10 located contact band 12 through a first hole 9 in the perforated foil 8th and a second hole 19 in the structured electrical layer 10 with a first or second contact point 6 . 7 the semiconducting layer 2 electrically connected.

Bei der in 2 in der Mitte gezeigten zweiten Variante wird eine elektrisch leitende Verbindung 11 zwischen der strukturierten elektrisch leitenden Schicht 10 und der halbleitenden Schicht 2 durch einen aus der strukturierten Schicht 10 herausgestanzten Steg 27 realisiert, der auf eine erste oder zweite Kontaktstelle 6, 7 der halbleitenden Schicht 2 gedrückt und mittels Ultraschallschweißen elektrisch leitend verbunden wird. Bei der zweiten Variante besteht das zweite Loch 19 somit aus zwei kreisabschnittförmigen Öffnungen.At the in 2 in the middle shown second variant becomes an electrically conductive connection 11 between the patterned electrically conductive layer 10 and the semiconductive layer 2 through one out of the structured layer 10 punched out bridge 27 realized on a first or second contact point 6 . 7 the semiconducting layer 2 pressed and electrically conductively connected by means of ultrasonic welding. In the second variant, there is the second hole 19 thus from two circular section-shaped openings.

Bei der rechts in 2 gezeigten Ausführungsform wird eine elektrische Verbindung realisiert, indem die strukturierte elektrisch leitende Schicht 10 durch das erste Loch 9 hindurch auf eine erste oder zweite Kontaktstelle 6,7 der halbleitenden Schicht 2 gedrückt wird, beispielsweise unter Verwendung einer geeignet geformten Sonotrode eines Ultraschallschweißgeräts, und anschließend durch Ultraschallschweißen elektrisch verbunden wird.At the right in 2 In the embodiment shown, an electrical connection is realized by the structured electrically conductive layer 10 through the first hole 9 through to a first or second contact point 6 . 7 the semiconducting layer 2 is pressed, for example, using a suitably shaped sonotrode of an ultrasonic welder, and then electrically connected by ultrasonic welding.

Die elektrisch leitende Verbindung 11 wird bei den drei in 2 gezeigten Varianten durch Ultraschallschweissen hergestellt. Denkbar ist jedoch auch, dass zwischen der strukturierten elektrisch leitenden Schicht 10 und der halbleitenden Schicht 2 ein elektrisch leitender Kleber aufgebracht ist, der die elektrische Verbindung realisiert. Bei der ersten Variante kann das Kontaktband 12 ebenfalls auch mittels eines elektrisch leitenden Klebers mit der strukturierten elektrisch leitenden Schicht 10 einerseits und mit der halbleitenden Schicht 2 andererseits elektrisch leitend verbunden sein. Der elektrisch leitende Kleber könnte hierbei beispielsweise vor oder nach dem Verbinden der perforierten Folie 8 mit der halbleitenden Schicht 2 auf den Kontaktpunkten 6 und 7 aufgebracht werden.The electrically conductive connection 11 will be at the three in 2 variants produced by ultrasonic welding. However, it is also conceivable that between the structured electrically conductive layer 10 and the semiconductive layer 2 an electrically conductive adhesive is applied, which realizes the electrical connection. In the first Variant can be the contact band 12 also by means of an electrically conductive adhesive with the structured electrically conductive layer 10 on the one hand and with the semiconducting layer 2 on the other hand be electrically connected. The electrically conductive adhesive could in this case, for example, before or after joining the perforated film 8th with the semiconducting layer 2 on the contact points 6 and 7 be applied.

3 zeigt einen Schnitt durch eine Solarzelle gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. In 3 ist die der Sonnenstrahlung abgewandte Seite der Solarzelle oben und die der Sonnenstrahlung zugewandte Seite unten angeordnet. Von der der Sonnenstrahlung abgewandten Seite ausgehend sind zunächst eine Schutzschicht 31 (Backsheet, z. B. aus einem PVF wie Tedlar®), eine strukturierte elektrisch leitende Schicht 10, eine perforierte elektrisch nichtleitende Schicht 8 mit ersten Löchern 9, eine halbleitende Schicht 2, eine zweite ein- oder mehrschichtige Folie 14, die z. B. eine Antireflexionsschicht und/oder eine Ethylen-Vinylacetat-Polymer-Folie als weitere Schutzschicht umfasst, sowie eine Glasscheibe 15 angeordnet. 3 shows a section through a solar cell according to an embodiment of the present invention. In 3 is the side facing away from the solar radiation of the solar cell above and the solar radiation side facing down. Starting from the side facing away from the solar radiation, initially a protective layer 31 (Back Sheet, for. Example, a PVF as Tedlar ®), a structured electrically conducting layer 10 , a perforated electrically non-conductive layer 8th with first holes 9 , a semiconducting layer 2 , a second single or multilayer film 14 that z. Example, an antireflection layer and / or an ethylene-vinyl acetate polymer film comprises as a further protective layer, and a glass sheet 15 arranged.

Bei der in 3 gezeigten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Solarzelle ist eine elektrisch leitende Verbindung 11 gemäß der zweiten oder dritten Variante von 2 realisiert, indem die strukturierte elektrisch leitende Schicht 10 direkt durch ein erstes Loch 9 hindurch mit einem ersten oder zweiten Kontaktpunkt 6, 7 auf der halbleitenden Schicht 2 verbunden ist. Die Verbindung 11 wurde mittels Ultraschallschweißen oder Laserschweißen hergestellt.At the in 3 shown embodiment of a solar cell according to the invention is an electrically conductive compound 11 according to the second or third variant of 2 realized by the structured electrically conductive layer 10 directly through a first hole 9 through with a first or second contact point 6 . 7 on the semiconducting layer 2 connected is. The connection 11 was made by ultrasonic welding or laser welding.

4 zeigt einen Schnitt durch eine Solarzelle gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, bei welcher die lotfreie elektrische Verbindung 11 mit Hilfe eines Kontaktbandes 12 realisiert ist. Die Schichtenabfolge entspricht der in 3 gezeigten. In 4 ist links die erste Variante von 2 im Schnitt zu sehen. Die lotfreie elektrische Verbindung 11 wurde bei der ersten Variante mittels Ultraschallschweißen oder Laserschweißen hergestellt. Rechts ist in 4 eine fünfte Variante für die lotfreie elektrische Verbindung 11 dargestellt, bei der ein Kontaktband 12 mittels eines elektrisch leitenden Klebers 16 sowohl mit der strukturierten elektrisch leitenden Schicht 10 als auch mit einem ersten oder zweiten Kontaktpunkt 6, 7 auf der halbleitenden Schicht 2 elektrisch leitend verbunden ist. 4 shows a section through a solar cell according to another embodiment of the present invention, wherein the solderless electrical connection 11 with the help of a contact band 12 is realized. The layer sequence corresponds to that in 3 shown. In 4 left is the first variant of 2 to see in section. The solderless electrical connection 11 was produced in the first variant by means of ultrasonic welding or laser welding. Right is in 4 a fifth variant for the solderless electrical connection 11 shown in which a contact band 12 by means of an electrically conductive adhesive 16 both with the structured electrically conductive layer 10 as well as with a first or second contact point 6 . 7 on the semiconducting layer 2 is electrically connected.

5 zeigt eine perspektivische Sicht einer ersten Ausführungsform für ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung eines Kontaktfolienbandes. Der Pfeil zeigt die Bewegungsrichtung der Folien an. 5 shows a perspective view of a first embodiment of a method according to the invention for producing a contact foil tape. The arrow indicates the direction of movement of the slides.

In dieser Ausführungsform wird als ein- oder mehrschichtige Folie eine einschichtige Folie 17 eingesetzt. Die von einer Vorratsrolle herkommende einschichtige Folie 17 wird in einer Stanzvorrichtung 21 gestanzt und anschließend in einer Klebstoffauftragsvorrichtung 22 auf der anschließend mit einer elektrisch leitenden Schicht zu verbindenden Seite mit Klebstoff beschichtet. Nach der Beschichtung mit Klebstoff wird die mit ersten Löchern 9 versehene perforierte Folie 8 mit einer von einer weiteren Rolle herkommenden Metallfolie als elektrisch leitender Schicht 18 zusammengebracht. Mittels der Laminierwalzen 24 wird ein inniger Verbund zwischen beiden Folien erzeugt. Die der perforierten Folie 8 gegenüber liegende Oberfläche der Metallfolie 18 wird dann in einer ersten Siebdruckvorrichtung 23 an bestimmten zu schützenden Stellen mit einer Abdeckschicht 29 versehen, welche die Funktion hat, die vor einer Wegätzung in einem Ätzbad 20 zu schützenden Stellen der elektrisch leitenden Metallfolie 18 zu schützen. Es erfolgt dann ein Weitertransport des Folienlaminats zu einer zweiten Siebdruckvorrichtung 32, bei der die Rückseite der elektrisch leitenden Schicht 18 vollflächig mit einer Abdeckschicht 29 versehen wird. Anschließend gelangt das auf diese Weise behandelte Folienlaminat in ein Ätzbad 20, wo die nicht geschützten Teile der Metallfolie 18 weggeätzt werden und nur die gewünschten Leiterstrukturen der strukturierten elektrisch leitenden Schicht 10 bleiben. Die erhaltene Kontaktierfolie 27 wird dann über Transportrollen 25 weiter transportiert, beispielsweise in ein hier nicht gezeigtes Reinigungsbad, um an der Kontaktierfolie 27 anhaftende Reste des Ätzbades 20 und/oder die Abdeckschicht 29 zu entfernen.In this embodiment, a single-layer or multi-layered film is a single-layered film 17 used. The one-layer film coming from a supply roll 17 is in a punching device 21 punched and then in an adhesive applicator 22 coated on the subsequently to be connected with an electrically conductive layer side with adhesive. After coating with adhesive, the first holes will be used 9 provided perforated foil 8th with a metal foil coming from another roll as the electrically conductive layer 18 brought together. By means of the laminating rollers 24 an intimate bond is created between the two films. The perforated foil 8th opposite surface of the metal foil 18 is then in a first screen printing device 23 at certain points to be protected with a covering layer 29 provided, which has the function that before a Wegätzung in an etching bath 20 Protected locations of the electrically conductive metal foil 18 to protect. There is then a further transport of the film laminate to a second screen printing device 32 in which the back of the electrically conductive layer 18 full surface with a cover layer 29 is provided. Subsequently, the film laminate treated in this way passes into an etching bath 20 where the unprotected parts of the metal foil 18 be etched away and only the desired conductor structures of the structured electrically conductive layer 10 stay. The resulting contact foil 27 is then about transport roles 25 transported further, for example in a cleaning bath, not shown here, to the contacting film 27 adhering residues of the etching bath 20 and / or the cover layer 29 to remove.

6 zeigt eine perspektivische Sicht einer zweiten Ausführungsform für ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung einer Kontaktfolie. 6 shows a perspective view of a second embodiment of a method according to the invention for producing a contact foil.

Bei der in 6 gezeigten zweiten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer Kontaktfolie wird eine beidseitig selbstklebende Isolatorfolie 13, die auf einer Seite eine Trennfolie 26a aufweist, zunächst mit einer Schmelzfolie 30 laminiert. Das Laminieren wird durch die Laminierwalzen 24 unterstützt. Die dabei erhaltene ein- oder mehrschichtige Folie 17 aus einem oder mehreren elektrisch nicht leitenden Materialien wird anschließend in einer Stanzvorrichtung 21 gestanzt. Daraufhin wird die gestanzte Trennfolie 26b nach oben abgezogen, während die ein- oder mehrschichtige perforierte Folie 28 aus einem elektrisch nicht leitfähigen Material mit einer von einer weiteren Rolle herkommenden Metallfolie als elektrisch leitender Schicht 18 zusammengebracht wird. Unter Verwendung der Laminierwalzen 24 wird ein inniger Verbund dieser beiden Folien erzeugt. Anschließend wird die der mehrschichtigen perforierten Folie 28 gegenüber liegende Oberfläche der Metallfolie 18 in einer ersten Siebdruckvorrichtung 23 an vor einer Wegätzung zu schützenden Stellen mit einer Abdeckschicht 29 versehen, welche die Funktion hat, die vor einer Wegätzung in einem Ätzbad 20 zu schützenden Stellen der elektrisch leitenden Metallfolie 18 zu schützen. Es erfolgt dann ein Weitertransport des Folienlaminats zu einer zweiten Siebdruckvorrichtung 32, bei der die Rückseite der elektrisch leitenden Schicht 18 vollflächig mit einer Abdeckschicht 29 versehen wird. Anschließend gelangt das auf diese Weise behandelte Folienlaminat in ein Ätzbad 20, wo die nicht geschützten Teile der Metallfolie 18 weggeätzt werden und nur die gewünschten Leiterstrukturen der strukturierten elektrisch leitenden Schicht 10 bleiben. Die als Kontaktfolienband erhaltene Kontaktierfolie 27 wird über Transportrollen 25 weiter transportiert, beispielsweise durch ein hier nicht gezeigtes Reinigungsbad (Tauchbad), um am Kontaktfolienband 27 anhaftende Reste des Ätzbades 20 und/oder die Abdeckschicht 29 zu entfernen.At the in 6 shown second embodiment of the method according to the invention for producing a contact foil is a self-adhesive isolator film on both sides 13 holding a release liner on one side 26a initially, with a melt film 30 laminated. The lamination is done by the laminating rollers 24 supported. The resulting monolayer or multilayer film 17 one or more electrically nonconductive materials is then placed in a punching device 21 punched. Then the stamped release film 26b withdrawn upward while the single or multi-layer perforated film 28 of an electrically non-conductive material with a metal foil coming from another roller as the electrically conductive layer 18 is brought together. Using the laminating rollers 24 an intimate bond of these two films is produced. Subsequently, that of the multilayer perforated film 28 opposite surface of the metal foil 18 in a first screen printing device 23 on in front of a path etching Protected areas with a cover layer 29 provided, which has the function that before a Wegätzung in an etching bath 20 Protected locations of the electrically conductive metal foil 18 to protect. There is then a further transport of the film laminate to a second screen printing device 32 in which the back of the electrically conductive layer 18 full surface with a cover layer 29 is provided. Subsequently, the film laminate treated in this way passes into an etching bath 20 where the unprotected parts of the metal foil 18 be etched away and only the desired conductor structures of the structured electrically conductive layer 10 stay. The Kontaktierfolie obtained as contact foil tape 27 is about transport roles 25 transported further, for example, by a not shown here cleaning bath (dip) to the contact foil tape 27 adhering residues of the etching bath 20 and / or the cover layer 29 to remove.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Solarzellesolar cell
22
Halbleitende SchichtSemiconductive layer
33
Solarmodulsolar module
44
Erste Oberfläche der halbleitenden SchichtFirst surface of the semiconducting layer
55
Zweite Oberfläche der halbleitenden SchichtSecond surface of the semiconducting layer
66
Erste Kontaktstellen (positive Polarität)First contact points (positive polarity)
77
Zweite Kontaktstellen (negative Polarität)Second contact points (negative polarity)
88th
Perforierte Folie aus einem elektrisch nicht leitenden MaterialPerforated foil of an electrically non-conductive material
99
Erste Löcher (in isolierender Schicht)First holes (in insulating layer)
1010
Strukturierte elektrische leitende SchichtStructured electrical conductive layer
1111
Elektrisch leitende VerbindungElectrically conductive connection
1212
KontaktbandContact band
1313
Beidseitig selbstklebende IsolatorfolieSelf-adhesive isolator film on both sides
1414
„Zwischenfolie”"Intermediate film"
1515
Glasscheibepane
1616
Elektrisch leitender KleberElectrically conductive adhesive
1717
Erste ein- oder mehrschichtige Folie (isolierend)First single or multi-layer film (insulating)
1818
Elektrisch leitende SchichtElectrically conductive layer
1919
Zweite Löcher (in elektrisch leitender Schicht)Second holes (in electrically conductive layer)
2020
Ätzbadetching bath
2121
PerforationsgerätA perforator
2222
KlebstoffauftragungsgerätKlebstoffauftragungsgerät
2323
Erste SiebdruckvorrichtungFirst screen printing device
2424
Laminierwalzenlaminating
2525
Transportrollentransport wheels
26a26a
Trennfolierelease film
26b26b
Perforierte TrennfoliePerforated release film
2727
KontaktfolieContact sheet
2828
Perforierte ein- oder mehrschichtige FoliePerforated single or multilayer film
2929
Abdeckschichtcovering
3030
Schmelzfoliemelting foil
3131
Schutzfolieprotector
3232
Zweite SiebdruckvorrichtungSecond screen printing device
3333
erster Kontaktfingerfirst contact finger
3434
zweiter Kontaktfingersecond contact finger
3535
KontaktfolienbandContact foil tape
3636
isolierender Bereichinsulating area

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • WO 2007/096752 A2 [0004] WO 2007/096752 A2 [0004]
  • WO 2008/113741 A [0042] WO 2008/113741 A [0042]

Claims (16)

Solarzelle (1), welche die folgenden Schichten umfasst: (a) eine halbleitende Schicht (2) mit einer ersten Oberfläche (4) und einer zweiten Oberfläche (5), wobei auf der ersten Oberfläche (4) eine Vielzahl von ersten Kontaktstellen (6) und zweiten Kontaktstellen (7) ausgebildet sind, welche entgegengesetzte Polaritäten aufweisen; (b) eine auf einem Teil der ersten Oberfläche (4) angeordnete Kontaktfolie (27), umfassend (b1) eine erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie (8, 28) aus einem elektrisch nicht leitenden Material, die eine Vielzahl von ersten Löchern (9) aufweist; und (b2) eine strukturierte elektrisch leitende Schicht (10) auf einer der halbleitenden Schicht (2) abgewandten Oberfläche der perforierten Folie b1 (8, 28); wobei die perforierte Folie b1 (8, 28) und die halbleitende Schicht a (2) so zueinander positioniert sind, dass zumindest ein Teil der ersten Löcher (9) und der ersten Kontaktstellen (6) und der zweiten Kontaktstellen (7) einander gegenüber liegen, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Teil der ersten Kontaktstellen (6) und der zweiten Kontaktstellen (7) über eine lotfreie elektrisch leitende Verbindung (11) mit der strukturierten elektrisch leitenden Schicht (10) verbunden sind.Solar cell ( 1 ) comprising the following layers: (a) a semiconducting layer ( 2 ) with a first surface ( 4 ) and a second surface ( 5 ), where on the first surface ( 4 ) a plurality of first contact points ( 6 ) and second contact points ( 7 ) are formed, which have opposite polarities; (b) one on a part of the first surface ( 4 ) arranged contact foil ( 27 ) comprising (b1) a first single-layer or multi-layer perforated film ( 8th . 28 ) of an electrically non-conductive material having a plurality of first holes ( 9 ) having; and (b2) a structured electrically conductive layer ( 10 ) on one of the semiconductive layers ( 2 ) facing away from the surface of the perforated film b1 ( 8th . 28 ); the perforated foil b1 ( 8th . 28 ) and the semiconducting layer a ( 2 ) are positioned to each other such that at least a portion of the first holes ( 9 ) and the first contact points ( 6 ) and the second contact points ( 7 ) are opposite one another, characterized in that at least a part of the first contact points ( 6 ) and the second contact points ( 7 ) via a solderless electrically conductive connection ( 11 ) with the structured electrically conductive layer ( 10 ) are connected. Solarzelle (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Kontaktfolie (27) auf weniger als 90% der ersten Oberfläche (4) der halbleitenden Schicht (2) angeordnet ist.Solar cell ( 1 ) according to claim 1, characterized in that the contact foil ( 27 ) to less than 90% of the first surface ( 4 ) of the semiconductive layer ( 2 ) is arranged. Solarzelle (2) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Kontaktfolie (27) in Form von mindestens einem Kontaktfolienband (35) auf der ersten Oberfläche (4) angeordnet ist.Solar cell ( 2 ) according to claim 1 or 2, characterized in that the contact foil ( 27 ) in the form of at least one contact foil strip ( 35 ) on the first surface ( 4 ) is arranged. Solarzelle (2) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere parallele äquidistante Kontaktfolienbänder (35) auf der ersten Oberfläche (4) angeordnet sind.Solar cell ( 2 ) according to one of claims 1 to 3, characterized in that a plurality of parallel equidistant contact foil tapes ( 35 ) on the first surface ( 4 ) are arranged. Solarzelle (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die lotfreie elektrisch leitende Verbindung (11) ein Kontaktband (12) zwischen dem Teil der ersten und zweiten Kontaktstellen (6, 7) und der strukturierten elektrisch leitenden Schicht (10) umfasst.Solar cell ( 1 ) according to one of claims 1 to 4, characterized in that the solder-free electrically conductive compound ( 11 ) a contact band ( 12 ) between the part of the first and second contact points ( 6 . 7 ) and the structured electrically conductive layer ( 10 ). Solarzelle (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die lotfreie elektrisch leitende Verbindung (11) einen elektrisch leitenden Kleber (16) umfasst.Solar cell ( 1 ) according to one of claims 1 to 5, characterized in that the solder-free electrically conductive compound ( 11 ) an electrically conductive adhesive ( 16 ). Solarzelle (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die lotfreie elektrisch leitende Verbindung (11) durch Ultraschallschweißen oder durch Laserschweißen erhältlich ist.Solar cell ( 1 ) according to one of claims 1 to 6, characterized in that the solder-free electrically conductive compound ( 11 ) is available by ultrasonic welding or by laser welding. Solarzelle (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die lotfreie elektrisch leitende Verbindung (11) eine direkte Verbindung zwischen dem Teil der ersten und zweiten Kontaktstellen (6, 7) und der strukturierten elektrisch leitenden Schicht (10) ist.Solar cell ( 1 ) according to one of claims 1 to 7, characterized in that the solder-free electrically conductive compound ( 11 ) a direct connection between the part of the first and second contact points ( 6 . 7 ) and the structured electrically conductive layer ( 10 ). Solarmodul (3), umfassend eine Vielzahl von Solarzellen (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 8.Solar module ( 3 ) comprising a plurality of solar cells ( 1 ) according to one of claims 1 to 8. Solarmodul (3) nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass benachbarte Solarzellen (1) so angeordnet sind, dass sich erste Kontaktstellen (6) und zweite Kontaktstellen (7) gegenüber liegen.Solar module ( 3 ) according to claim 9, characterized in that adjacent solar cells ( 1 ) are arranged so that first contact points ( 6 ) and second contact points ( 7 ) are opposite. Verfahren zur Herstellung einer Solarzelle (1), welche die folgenden Schichten umfasst: (a) eine halbleitende Schicht (2) mit einer ersten Oberfläche (4) und einer zweiten Oberfläche (5), wobei auf der ersten Oberfläche (4) eine Vielzahl von ersten Kontaktstellen (6) und zweiten Kontaktstellen (7) ausgebildet sind, welche entgegengesetzte Polaritäten aufweisen; (b) eine auf einem Teil der ersten Oberfläche (4) angeordnete Kontaktfolie (27), umfassend (b1) eine erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie (8, 28) aus einem elektrisch nicht leitenden Material, die eine Vielzahl von ersten Löchern (9) aufweist; und (b2) eine strukturierte elektrisch leitende Schicht (10) auf einer der halbleitenden Schicht (2) abgewandten Oberfläche der perforierten Folie (8, 28); wobei die perforierte Folie (8, 28) und die halbleitende Schicht (2) so zueinander positioniert sind, dass zumindest ein Teil der ersten Löcher (9) und der ersten Kontaktstellen (6) und der zweiten Kontaktstellen (7) einander gegenüber liegen, und wobei mindestens ein Teil der ersten und zweiten Kontaktstellen (6, 7) über eine lotfreie elektrisch leitende Verbindung (11) mit der strukturierten elektrisch leitenden Schicht (10) verbunden sind, dadurch gekennzeichnet, dass (d) auf einem Teil der ersten Oberfläche (4) der halbleitenden Schicht (2) eine erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie (8, 28) aus einem elektrisch nicht leitenden Material, die eine Vielzahl von ersten Löchern (9) aufweist, aufgebracht wird, und auf dieser perforierten Folie (8, 28) eine elektrisch leitende Schicht (18) aufgebracht wird, wobei die perforierte Folie (8, 28) auf der halbleitenden Schicht (2) so aufgebracht wird, dass zumindest ein Teil der ersten Löcher (9) und der ersten Kontaktstellen (6) und der zweiten Kontaktstellen (7) einander gegenüber liegen; (e) die elektrisch leitende Schicht (18) strukturiert wird; und (f) die dadurch erhaltene strukturierte elektrisch leitende Schicht (10) durch die ersten Löcher (9) hindurch über eine lotfreie elektrisch leitende Verbindung (11) mit den ersten Kontaktstellen (6) und den zweiten Kontaktstellen (7) verbunden wird.Process for producing a solar cell ( 1 ) comprising the following layers: (a) a semiconducting layer ( 2 ) with a first surface ( 4 ) and a second surface ( 5 ), where on the first surface ( 4 ) a plurality of first contact points ( 6 ) and second contact points ( 7 ) are formed, which have opposite polarities; (b) one on a part of the first surface ( 4 ) arranged contact foil ( 27 ) comprising (b1) a first single-layer or multi-layer perforated film ( 8th . 28 ) of an electrically non-conductive material having a plurality of first holes ( 9 ) having; and (b2) a structured electrically conductive layer ( 10 ) on one of the semiconductive layers ( 2 ) facing away from the surface of the perforated film ( 8th . 28 ); the perforated foil ( 8th . 28 ) and the semiconducting layer ( 2 ) are positioned to each other such that at least a portion of the first holes ( 9 ) and the first contact points ( 6 ) and the second contact points ( 7 ) are opposite each other, and wherein at least a portion of the first and second contact points ( 6 . 7 ) via a solderless electrically conductive connection ( 11 ) with the structured electrically conductive layer ( 10 ), characterized in that (d) on a part of the first surface ( 4 ) of the semiconductive layer ( 2 ) a first single-layer or multi-layer perforated film ( 8th . 28 ) of an electrically non-conductive material having a plurality of first holes ( 9 ) is applied, and on this perforated film ( 8th . 28 ) an electrically conductive layer ( 18 ), the perforated film ( 8th . 28 ) on the semiconductive layer ( 2 ) is applied so that at least a portion of the first holes ( 9 ) and the first contact points ( 6 ) and the second contact points ( 7 ) are opposite each other; (e) the electrically conductive layer ( 18 ) is structured; and (f) the structured electrically conductive layer ( 10 ) through the first holes ( 9 ) through a solderless electrically conductive compound ( 11 ) with the first contact points ( 6 ) and the second contact points ( 7 ) is connected. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die strukturierte elektrisch leitende Schicht (10) durch Ultraschallschweißen oder durch Laserschweißen mit den ersten Kontaktstellen (6) und den zweiten Kontaktstellen (7) verbunden wird.A method according to claim 11, characterized in that the structured electrically conductive layer ( 10 ) by ultrasonic welding or by laser welding with the first contact points ( 6 ) and the second contact points ( 7 ) is connected. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass eine erste ein- oder mehrschichtige Folie (17) aus einem oder mehreren elektrisch nicht leitenden Materialien durch Stanzen unter Bildung einer Vielzahl von ersten Löchern (9) perforiert wird und die dabei erhaltene erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie (8) mit einer elektrisch leitenden Schicht (18) laminiert wird.A method according to claim 11 or 12, characterized in that a first single or multilayer film ( 17 ) of one or more electrically non-conductive materials by punching to form a plurality of first holes ( 9 ) is perforated and the resulting first single- or multi-layer perforated film ( 8th ) with an electrically conductive layer ( 18 ) is laminated. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die strukturierte elektrisch leitende Schicht (10) durch die ersten Löcher (9) hindurch auf die ersten Kontaktstellen (6) und die zweiten Kontaktstellen (7) gedrückt wird und anschließend durch Ultraschallschweißen die strukturierte elektrisch leitende Schicht (10) mit den ersten Kontaktstellen (6) und den zweiten Kontaktstellen (7) verbunden wird.Method according to one of claims 11 to 13, characterized in that the structured electrically conductive layer ( 10 ) through the first holes ( 9 ) through to the first contact points ( 6 ) and the second contact points ( 7 ) and then by ultrasonic welding the structured electrically conductive layer ( 10 ) with the first contact points ( 6 ) and the second contact points ( 7 ) is connected. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrisch leitende Schicht (18) durch Stanzen mit einer Vielzahl von zweiten Löchern (19) versehen wird, so dass die zweiten Löcher (19) über den ersten Löchern (9) liegen; ein Kontaktband (12) zwischen dem Teil der ersten Kontaktstellen (6) und der zweiten Kontaktstellen (7) und der strukturierten elektrisch leitenden Schicht (10) angebracht wird; und eine lotfreie elektrisch leitende Verbindung (11) erzeugt wird.Method according to one of claims 11 to 14, characterized in that the electrically conductive layer ( 18 ) by punching with a plurality of second holes ( 19 ), so that the second holes ( 19 ) over the first holes ( 9 ) lie; a contact band ( 12 ) between the part of the first contact points ( 6 ) and the second contact points ( 7 ) and the structured electrically conductive layer ( 10 ) is attached; and a solderless electrically conductive connection ( 11 ) is produced. Verfahren zur Herstellung eines Kontaktfolienbandes (35) mit einer Breite im Bereich von 0,5 cm bis 3 cm, das eine erste ein- oder mehrschichtige, perforierte Folie (8, 28) aus einem elektrisch nicht leitenden Material mit einer Vielzahl von ersten Löchern (9) und eine strukturierte elektrisch leitende Schicht (10) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass (g) eine erste ein- oder mehrschichtige Folie (17) aus einem oder mehreren elektrisch nicht leitenden Materialien bereitgestellt wird; (h) die erste ein- oder mehrschichtige Folie (17) mit einer elektrisch leitenden Schicht (18) verbunden wird; (i) auf mindestens einem Teil der elektrisch leitenden Schicht (18) eine Abdeckschicht (29) aufgebracht wird; (j) die nicht mit der Abdeckschicht (29) versehenen Teile der elektrisch leitenden Schicht (18) in einem Ätzbad (20) entfernt werden; und (k) durch Stanzen mindestens die erste ein- oder mehrschichtige Folie (17) mit einer Vielzahl von ersten Löchern (9) versehen wird; wobei das Stanzen gemäß Schritt (k) nach jedem der Schritte (g) bis (j) durchgeführt werden kann; und die erste ein- oder mehrschichtige Folie (17) und/oder die elektrisch leitende Schicht (18) mit einer Breite im Bereich von 0,5 cm bis 3 cm bereitgestellt werden oder in einem Schritt (l) auf eine Breite im Bereich von 0,5 cm bis 3 cm geschnitten werden.Method for producing a contact foil tape ( 35 ) having a width in the range of 0.5 cm to 3 cm, comprising a first single- or multi-layer perforated film ( 8th . 28 ) of an electrically non-conductive material having a plurality of first holes ( 9 ) and a structured electrically conductive layer ( 10 ), characterized in that (g) a first monolayer or multilayer film ( 17 ) is provided from one or more electrically non-conductive materials; (h) the first single or multilayer film ( 17 ) with an electrically conductive layer ( 18 ) is connected; (i) on at least part of the electrically conductive layer ( 18 ) a cover layer ( 29 ) is applied; (j) not with the covering layer ( 29 ) provided parts of the electrically conductive layer ( 18 ) in an etching bath ( 20 ) are removed; and (k) by punching at least the first single or multilayer film ( 17 ) with a multiplicity of first holes ( 9 ) is provided; wherein the stamping according to step (k) can be performed after each of the steps (g) to (j); and the first single or multilayer film ( 17 ) and / or the electrically conductive layer ( 18 ) are provided with a width in the range of 0.5 cm to 3 cm or cut in a step (l) to a width in the range of 0.5 cm to 3 cm.
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