DE102009032042A1 - System mit einer magnetischen Erfassungsschichtorientierung von 90 Grad - Google Patents

System mit einer magnetischen Erfassungsschichtorientierung von 90 Grad Download PDF

Info

Publication number
DE102009032042A1
DE102009032042A1 DE102009032042A DE102009032042A DE102009032042A1 DE 102009032042 A1 DE102009032042 A1 DE 102009032042A1 DE 102009032042 A DE102009032042 A DE 102009032042A DE 102009032042 A DE102009032042 A DE 102009032042A DE 102009032042 A1 DE102009032042 A1 DE 102009032042A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
magnetic orientation
fixed
sense
magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE102009032042A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102009032042B4 (de
Inventor
Matthias Karl Robert Hawraneck
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Infineon Technologies AG
Original Assignee
Infineon Technologies AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
Publication of DE102009032042A1 publication Critical patent/DE102009032042A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102009032042B4 publication Critical patent/DE102009032042B4/de
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • G01R33/09Magnetoresistive devices
    • G01R33/098Magnetoresistive devices comprising tunnel junctions, e.g. tunnel magnetoresistance sensors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y25/00Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • G01R33/09Magnetoresistive devices
    • G01R33/093Magnetoresistive devices using multilayer structures, e.g. giant magnetoresistance sensors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N50/00Galvanomagnetic devices
    • H10N50/10Magnetoresistive devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)
  • Measuring Magnetic Variables (AREA)

Abstract

Ein System, das eine Erfassungsschicht, eine erste festgelegte Schicht und eine erste Zwischenschicht umfasst. Die erste festgelegte Schicht wird in einer feststehenden magnetischen Orientierung gehalten. Die erste Zwischenschicht ist dahingehend konfiguriert, die Erfassungsschicht und die erste festgelegte Schicht miteinander zu koppeln und in der Erfassungsschicht eine magnetische Orientierung zu liefern, die 90° von der feststehenden magnetischen Orientierung abweicht. Die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht dreht sich ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld.

Description

  • Magnetsensoren werden bei einer großen Bandbreite an technologischen Anwendungen eingesetzt, einschließlich Automobil-, industrieller und Verbraucheranwendungen. Diese Anwendungen benötigen Magnetsensoren, die zuverlässig arbeiten und genaue Messungen vornehmen.
  • Üblicherweise umfassen Magnetsensoren eine Schicht eines Magnetfilms, bei dem die Magnetisierungsorientierung veränderbar ist, und eine andere Schicht eines Magnetfilms, bei dem die Magnetisierungsorientierung in einer bestimmten Richtung feststehend oder festgelegt bzw. „gepinnt” ist. Der Magnetfilm, der die veränderbare Magnetisierung aufweist, wird als Erfassungsschicht bezeichnet, und der Magnetfilm, der feststehend ist, wird als Referenzschicht bezeichnet. Der Widerstand durch den Magnetsensor hindurch differiert je nach der Magnetisierungsorientierung in der Erfassungsschicht und der Referenzschicht.
  • Üblicherweise verwenden Magnetsensoren, die auf dem tunnelmagnetoresistiven Effekt (TMR-Effekt, TMR = tunneling magneto-resistive) oder dem gigantischen magnetoresistiven Effekt (GMR-Effekt, GMR = giant magneto-resistive) beruhen, zwei magnetische Orientierungen. Manchmal ist die magnetische Orientierung der Erfassungsschicht ohne ein äußeres Magnetfeld entlang der Länge des Magnetsensors in einem langen schmalen Streifen ausgerichtet, und die magnetische Orientierung der Referenzschicht ist über eine Austauschkopplung festgelegt. Innerhalb eines Bereichs eines äußeren Magnetfeldes verändert sich der Widerstand durch den Sensorstreifen hindurch fast linear. Jedoch kann Formanisotropie für manche Magnetsensoren, z. B. TMR-Sensoren, nicht immer erfolgreich eingesetzt werden.
  • Manchmal wird eine Austauschkopplung verwendet, um die magnetische Orientierung der Referenzschicht festzulegen, und eine andere Austauschkopplung wird verwendet, um eine bevorzugte magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht zu erzielen. Eine Austauschkopplung wird über ein Erhitzen eines Magnetsensors auf über eine Blockungstemperatur in einem angelegten Magnetfeld und ein anschließendes Abkühlen des Magnetsensors in dem Magnetfeld erreicht, was auch als Tempern des Sensors bezeichnet wird. Die Richtung des angelegten Magnetfeldes ist in die Magnetschicht(en) eingeschrieben. Um eine lineare Charakteristik zu erzeugen, werden die magnetischen Orientierungen der Erfassungsschicht und der Referenzschicht um 90 oder 270 Grad gedreht.
  • Wenn zwei Austauschkopplungen verwendet werden, werden zum Erzielen der verschiedenen magnetischen Orientierungen zwei Blockungstemperaturen verwendet. Anfänglich wird ein Exchange-Biss bzw. eine Austausch-Anisotropie über die höhere Blockungstemperatur eingeschrieben, wodurch die magnetische Orientierung des angelegten Magnetfeldes in dem System mit der niedrigeren Blockungstemperatur und dem System mit der höheren Blockungstemperatur eingeschrieben wird. Bei einem zweiten Temperschritt wird ein Exchange-Biss in dem System mit der niedrigeren Blockungstemperatur über ein Erhitzen des Magnetsensors auf eine Temperatur zwischen der höheren und der niedrigeren Blockungstemperatur eingeschrieben. Jedoch bewirkt dieser zweite Temperschritt manchmal eine qualitative Verschlechterung des Magnetsensors, beispielsweise durch Diffusion oder Korrosion. Auch beeinflusst der zweite Temperschritt manchmal das System mit der höheren Blockungstemperatur, wobei die magnetische Orientierung geändert werden könnte. Außerdem weist eine Verwendung eines Systems mit einer niedrigeren Blockungstemperatur negative Auswirkungen auf die Stabilität des Magnetsensors auf.
  • Aus diesen und anderen Gründen besteht ein Erfordernis der vorliegenden Erfindung.
  • Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, Systeme und Verfahren mit verbesserten Charakteristika zu liefern.
  • Die Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Ansprüche gelöst. Weiterbildungen finden sich in den abhängigen Ansprüchen.
  • Ein in der Offenbarung beschriebenes Ausführungsbeispiel liefert ein System, das eine Erfassungsschicht, eine erste festgelegte Schicht und eine erste Zwischenschicht umfasst. Die erste festgelegte Schicht wird in einer feststehenden magnetischen Orientierung gehalten. Die erste Zwischenschicht ist dahin gehend konfiguriert, die Erfassungsschicht und die erste festgelegte Schicht miteinander zu koppeln und in der Erfassungsschicht eine magnetische Orientierung zu liefern, die 90 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung abweicht. Die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht dreht sich ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld.
  • Die beiliegenden Zeichnungen sind enthalten, um ein besseres Verständnis der vorliegenden Erfindung zu vermitteln, und sie sind in die vorliegende Spezifikation integriert und stellen einen Bestandteil derselben dar. Die Zeichnungen veranschaulichen Ausführungsbeispiele und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu, Prinzipien von Ausführungsbeispielen zu erläutern. Andere Ausführungsbeispiele und viele der beabsichtigten Vorteile von Ausführungsbeispielen werden ohne weiteres offensichtlich, wenn sie durch Bezugnahme auf die folgende ausführliche Beschreibung besser verstanden werden. Die Elemente der Zeichnungen sind in Bezug zueinander nicht unbedingt maßstabsgetreu. Gleiche Bezugszeichen bezeichnen entsprechende ähnliche Teile. Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend Bezug nehmend auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
  • 1 ein Diagramm, das ein Ausführungsbeispiel eines Magnetsensors veranschaulicht;
  • 2 ein Diagramm, das ein Ausführungsbeispiel eines Magnetsensors, der Materialschichten umfasst, veranschaulicht; und
  • 3 ein Diagramm, das die Auswirkung eines Temperns auf magnetische Orientierungen in einer ersten festgelegten Schicht und einer zweiten festgelegten Schicht veranschaulicht.
  • In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beiliegenden Zeichnungen, die einen Bestandteil derselben bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsbeispiele gezeigt sind, bei denen die Erfindung praktiziert werden kann, Bezug genommen. Diesbezüglich wird eine richtungsangebende Terminologie, z. B. „obere(r, s)”, „untere(r, s)”, „vordere(r, s)”, „hintere(r, s)”, voreilende(r, s), nacheilende(r, s) usw. unter Bezugnahme auf die Orientierung der jeweils beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung in einer Anzahl unterschiedlicher Orientierungen positioniert sein können, wird die richtungsangebende Terminologie zu Veranschaulichungszwecken verwendet und stellt keinesfalls eine Einschränkung dar. Man muss verstehen, dass auch andere Ausführungsbeispiele verwendet werden können und dass strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Somit ist die folgende ausführliche Beschreibung nicht in einem einschränkenden Sinn zu verstehen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die beiliegenden Patentansprüche definiert.
  • Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen exemplarischen Ausführungsbeispiele miteinander kombiniert werden können, wenn nicht spezifisch etwas anderes angegeben ist.
  • 1 ist ein Diagramm, das ein Ausführungsbeispiel eines Magnetsensors 20 veranschaulicht. Der Magnetsensor 20 ist ein System mit einer Breite W und einer Länge L. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 20 Bestandteil einer integrierten Schaltung. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 20 ein gesondertes Bauelement. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 20 ein im Wesentlichen rechteckiger Materialblock. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 20 ein TMR-Sensor, der ein im Wesentlichen rechteckiger Materialblock ist. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 20 ein gewundener Materialstreifen. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 20 ein GMR-Sensor, der ein gewundener Materialstreifen ist.
  • Der Magnetsensor 20 umfasst eine erste festgelegte Schicht 22, eine erste Zwischenschicht 24 und eine Erfassungsschicht 26. Die erste Zwischenschicht 24 ist zwischen und in Kontakt mit der ersten festgelegten Schicht 22 und der Erfassungsschicht 26 positioniert. Die erste festgelegte Schicht 22 weist eine feststehende magnetische Orientierung auf, und die erste Zwischenschicht 24 koppelt die erste festgelegte Schicht 22 und die Erfassungsschicht 26 magnetisch miteinander, um in der Erfassungsschicht 26 eine magnetische Orientierung zu liefern, die 90 Grad von der festgelegten magnetischen Orientierung der ersten festgelegten Schicht 22 abweicht. Die magnetische Orientierung der ersten festgelegten Schicht 22 erstreckt sich bei 28 von links nach rechts, und die magnetische Orientierung der Erfassungsschicht 26 erstreckt sich bei 30 in die Seite hinein. Die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht 26 dreht sich ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld. Bei einem Ausführungsbeispiel dreht sich die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld 26 plus und minus 90 Grad zu einer parallelen Ausrichtung mit der magnetischen Orientierung der ersten festgelegten Schicht 22 und zu einer antiparallelen Ausrichtung mit der magnetischen Orientierung der ersten festgelegten Schicht 22.
  • Der Magnetsensor 20 umfasst eine zweite festgelegte Schicht 32, eine zweite Zwischenschicht 34 und eine Referenzschicht 36. Die zweite Zwischenschicht 34 ist zwischen und in Kontakt mit der zweiten festgelegten Schicht 32 und der Referenzschicht 36 positioniert. Die zweite festgelegte Schicht 32 weist eine feststehende magnetische Orientierung auf, die dieselbe ist wie die feststehende magnetische Orientierung der ersten festgelegten Schicht 22. Die zweite Zwischenschicht 34 koppelt die zweite festgelegte Schicht 32 und die Referenzschicht 36 magnetisch miteinander, um in der Referenzschicht 36 eine magnetische Orientierung zu liefern, die 180 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung der zweiten festgelegten Schicht 32 abweicht. Die magnetische Orientierung der zweiten festgelegten Schicht 32 erstreckt sich bei 38 von links nach rechts, und die magnetische Orientierung der Referenzschicht 36 erstreckt sich bei 40 von rechts nach links. Die magnetische Orientierung in der Referenzschicht 36 dreht sich ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld nicht.
  • Die magnetische Orientierung in der Referenzschicht 36 weicht 90 Grad von der magnetischen Orientierung der Erfassungsschicht 26 ab. Bei einem Ausführungsbeispiel dreht sich die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht 26 ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld plus und minus 90 Grad zu einer parallelen Ausrichtung mit der magnetischen Orientierung der Referenzschicht 36 und zu einer antiparallelen Ausrichtung mit der magnetischen Orientierung der Referenzschicht 36.
  • Der Magnetsensor 20 umfasst auch eine Abstandshalterschicht 42, die zwischen und in Kontakt mit der Erfassungsschicht 26 und der Referenzschicht 36 positioniert ist. Die Abstandshalterschicht 42 ist eine nicht-magnetisierte Schicht. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Abstandshalterschicht 42 Kupfer, und der Magnetsensor 20 ist ein GMR-Sensor. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Abstandshalterschicht 42 Aluminiumoxid, und der Magnetsensor ist ein TMR-Sensor. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Abstandshalterschicht 42 Magnesiumoxid, und der Magnetsensor 20 ist ein TMR-Sensor.
  • Im Betrieb dreht sich die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht 26 ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld, und die magnetische Orientierung in der Referenzschicht 36 bleibt in dem äußeren Magnetfeld feststehend. Der Widerstand durch den Magnetsensor 20 differiert je nach den relativen magnetischen Orientierungen in der Erfassungsschicht 26 und der Referenzschicht 36. Dieser Widerstand wird dazu verwendet, die Richtung und Starke des äußeren Magnetfeldes zu erfassen, wobei sich der Widerstand durch den Magnetsensor 20 mit der magnetischen Orientierung der Erfassungsschicht 26 fast linear ändert, wobei bei 90 Grad Abweichung von der magnetischen Orientierung der Referenzschicht 36 begonnen wird.
  • Die erste festgelegte Schicht 22 und die zweite festgelegte Schicht 32 weisen dieselbe feststehende magnetische Orientierung auf. Um den Magnetsensor 20 herzustellen, der dieselbe feststehende magnetische Orientierung in der ersten festgelegten Schicht 22 und der zweiten festgelegten Schicht 32 aufweist, wird das Material bzw. werden die Materialien für jede der Schichten, einschließlich der ersten festgelegten Schicht 22 und der zweiten festgelegten Schicht 32, abgelegt, und an den Materialstapel wird ein Magnetfeld angelegt. Der Magnetsensor 20 wird in dem angelegten Magnetfeld getempert, indem die Temperatur auf über eine Blockungstemperatur erhöht wird und indem anschließend der Magnetsensor 20 auf unter die Blockungstemperatur abgekühlt wird. Die magnetischen Orientierungen in der ersten festgelegten Schicht 22 und der zweiten festgelegten Schicht 32 richten, sich mit dem angelegten Magnetfeld aus, um dieselbe feststehende magnetische Orientierung in der ersten festgelegten Schicht 22 und der zweiten festgelegten Schicht 32 zu liefern. Dieses Tempern des Magnetsensors 20 muss nur einmal erfolgen, um dieselbe feststehende magnetische Orientierung in der ersten festgelegten Schicht 22 und der zweiten festgelegten Schicht 32 zu liefern. Ein zweiter Temperschritt in einer anderen Magnetfeldrichtung wird nicht benötigt, wodurch eine qualitative Verschlechterung des Magnetsensors 20, beispielsweise mittels Diffusion oder Korrosion, eliminiert wird, eine Veränderung der feststehenden magnetischen Orientierung verhindert wird und eine Verwendung einer niedrigeren Blockungstemperatur, die negative Auswirkungen auf die Stabilität des Magnetsensors 20 haben könnte, eliminiert wird.
  • 2 ist ein Diagramm, das ein Ausführungsbeispiel eines Magnetsensors 100 veranschaulicht, der Materialschichten umfasst. Der Magnetsensor 100 ist ein System, das ähnlich dem Magnetsensor 20 der 1 ist. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 100 Bestandteil einer integrierten Schaltung. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 100 ein gesondertes Bauelement. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 100 ein im Wesentlichen rechteckiger Materialblock. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 100 ein TMR-Sensor, der ein im Wesentlichen rechteckiger Materialblock ist. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 100 ein gewundener Materialstreifen. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Magnetsensor 100 ein GMR-Sensor, der ein gewundener Materialstreifen ist.
  • Der Magnetsensor 100 umfasst eine erste festgelegte Schicht 102, eine erste Zwischenschicht 104 und eine Erfassungsschicht 106. Die erste Zwischenschicht 104 ist zwischen und in Kontakt mit der ersten festgelegten Schicht 102 und der Erfassungsschicht 106 positioniert.
  • Die erste festgelegte Schicht 102 umfasst eine erste antiferromagnetische Schicht 108 und eine erste festgelegte ferromagnetische Schicht 110. Die magnetische Orientierung der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 wird über einen Temperschritt einge stellt, wobei ein Magnetfeld an den Magnetsensor 100 angelegt wird und die Temperatur des Magnetsensors 100 auf über die Blockungstemperatur angehoben wird und anschließend auf unter die Blockungstemperatur abgekühlt wird, während der Magnetsensor 100 in dem angelegten Magnetfeld verbleibt. Die Richtung des angelegten Magnetfeldes wird in der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 eingestellt, und die erste antiferromagnetische Schicht 108 legt die feststehende magnetische Orientierung der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 fest. Beispielsweise erstreckt sich die feststehende magnetische Orientierung der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 bei 112 von links nach rechts. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die erste antiferromagnetische Schicht 108 mehr als 10 Nanometer dick T1. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die erste festgelegte ferromagnetische Schicht 110 im Wesentlichen 2 Nanometer dick T2. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die erste antiferromagnetische Schicht 108 Platinmangan. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die erste antiferromagnetische Schicht 108 Iridiummangan. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die erste festgelegte ferromagnetische Schicht 110 eine Eisenoxidschicht.
  • Die erste Zwischenschicht 104 koppelt die erste festgelegte ferromagnetische Schicht 110 und die Erfassungsschicht 106 (auch als freie Schicht bezeichnet) magnetisch miteinander, um in der Erfassungsschicht 106 eine magnetische Orientierung zu liefern, die 90 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 abweicht. Die Erfassungsschicht 106 ist eine ferromagnetische Schicht, und die magnetische Orientierung der Erfassungsschicht 106 erstreckt sich bei 114 in die Seite hinein. Die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht 106 dreht sich ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld. Bei einem Ausführungsbeispiel dreht sich die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht 106 ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld plus und minus 90 Grad zu einer parallelen Ausrichtung mit der magnetischen Orientierung der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 und zu einer antiparallelen Ausrichtung mit der magnetischen Orientierung der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die erste Zwischenschicht 104 weniger als 3 Nanometer dick T3. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die erste Zwischenschicht 104 1 bis 2 Nanometer dick T3. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Erfassungsschicht 106 im Wesentlichen 2 Nanometer dick T4. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die erste Zwischenschicht 104 eine Nickeloxidschicht. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Erfassungsschicht 106 eine Eisenoxidschicht.
  • Der Magnetsensor 100 umfasst eine zweite festgelegte Schicht 116, eine zweite Zwischenschicht 118 und eine Referenzschicht 120. Die zweite Zwischenschicht 118 ist zwischen und in Kontakt mit der zweiten festgelegten Schicht 116 und der Referenzschicht 120 positioniert. Die zweite festgelegte Schicht 116 weist eine feststehende magnetische Orientierung auf, die dieselbe ist wie die feststehende magnetische Orientierung der ersten festgelegten Schicht 102.
  • Die zweite festgelegte Schicht 116 umfasst eine zweite antiferromagnetische Schicht 122 und eine zweite festgelegte ferromagnetische Schicht 124. Die magnetische Orientierung der zweiten festgelegten ferromagnetischen Schicht 124 wird über denselben Temperschritt eingestellt, der die magnetische Orientierung der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 einstellte, wobei ein Magnetfeld an den Magnetsensor 100 angelegt wird und die Temperatur des Magnetsensors 100 auf über die Blockungstemperatur angehoben und anschließend auf unter die Blockungstemperatur abgekühlt wird, während der Magnetsensor 100 in dem angelegten Magnetfeld verbleibt. Die Richtung des angelegten Magnetfeldes wird in der zweiten festgelegten ferromagnetischen Schicht 124 eingestellt, und die zweite antiferromagnetische Schicht 122 legt die feststehende magnetische Orientierung der zweiten festgelegten ferromagnetischen Schicht 124 fest. Beispielsweise erstreckt sich die feststehende magnetische Orientierung der zweiten festgelegten ferromagnetischen Schicht 124 bei 126 von links nach rechts. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die zweite antiferromagnetische Schicht 122 mehr als 10 Nanometer dick T5. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die zweite antiferromagnetische Schicht 122 im Wesentlichen 15 Nanometer dick T5. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die zweite festgelegte ferromagnetische Schicht 124 im Wesentlichen 2 Nanometer dick T6. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die zweite antiferromagnetische Schicht 122 Platinmangan. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die zweite antiferromagnetische Schicht 122 Iridiummangan. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die zweite festgelegte ferromagnetische Schicht 124 eine Schicht aus Kobalt und Eisen.
  • Die zweite Zwischenschicht 118 koppelt die zweite festgelegte ferromagnetische Schicht 124 und die Referenzschicht 120 magnetisch miteinander, um in der Referenzschicht 120 eine magnetische Orientierung zu liefern, die 180 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung der zweiten festgelegten ferromagnetischen Schicht 124 abweicht. Die Referenzschicht 120 ist eine ferromagnetische Schicht, wobei sich die magnetische Orientierung der zweiten festgelegten ferromagnetischen Schicht 124 bei 126 von links nach rechts erstreckt und sich die magnetische Orientierung der Referenzschicht 120 bei 128 von rechts nach links erstreckt. Die magnetische Orientierung in der Referenzschicht 120 dreht sich ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld nicht. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die zweite Zwischenschicht 118 9 Angström dick T7. Bei einem Ausführungsbei spiel ist die zweite Zwischenschicht 118 zwischen 8 und 10 Angström dick T7. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Referenzschicht 120 im Wesentlichen 2 Nanometer dick T8. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die zweite Zwischenschicht 118 Ruthenium. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Referenzschicht 120 eine Schicht aus Kobalt und Eisen. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Referenzschicht 120 eine Schicht aus Kobalt, Eisen und Bor.
  • Die magnetische Orientierung in der Referenzschicht 120 weicht 90 Grad von der magnetischen Orientierung der Erfassungsschicht 106 ab. Bei einem Ausführungsbeispiel dreht sich die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht 106 ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld plus und minus 90 Grad zu einer parallelen Ausrichtung mit der magnetischen Orientierung der Referenzschicht 120 und zu einer antiparallelen Ausrichtung mit der magnetischen Orientierung der Referenzschicht 120.
  • Der Magnetsensor 100 umfasst ferner eine Abstandshalterschicht 130, die zwischen und in Kontakt mit der Erfassungsschicht 106 und der Referenzschicht 120 positioniert ist. Die Abstandshalterschicht 130 ist eine nicht-magnetisierte Schicht. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Abstandshalterschicht 130 Kupfer, und der Magnetsensor 100 ist ein GMR-Sensor. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Abstandshalterschicht 130 Kupfer, das im Wesentlichen 2,2 Nanometer dick ist T9. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Abstandshalterschicht 130 Aluminiumoxid, und der Magnetsensor 100 ist ein TMR-Sensor. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Abstandshalterschicht 130 Magnesiumoxid, und der Magnetsensor 100 ist ein TMR-Sensor.
  • Im Betrieb dreht sich die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht 106 ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld, und die magnetische Orientierung in der Referenzschicht 120 bleibt in dem äußeren Magnetfeld feststehend. Der Widerstand durch den Magnetsensor 100 differiert je nach den relativen magnetischen Orientierungen in der Erfassungsschicht 106 und der Referenzschicht 120. Dieser Widerstand gibt die Richtung und Stärke des äußeren Magnetfeldes an, wobei sich der Widerstand durch den Magnetsensor 100 mit der magnetischen Orientierung der Erfassungsschicht 106 fast linear ändert, wobei bei 90 Grad Abweichung von der magnetischen Orientierung der Referenzschicht 120 begonnen wird.
  • Um den Magnetsensor 100 herzustellen, wird die zweite antiferromagnetische Schicht 122 auf ein Substrat 132 aufgebracht, und die zweite festgelegte ferromagnetische Schicht 124 wird über die zweite antiferromagnetische Schicht 122 aufgebracht. Als Nächstes wird die zweite Zwischenschicht 118 über die zweite festgelegte ferromagnetische Schicht 124 aufgebracht, und die Referenzschicht 120 wird auf die zweite Zwischenschicht 118 aufgebracht. Die Abstandshalterschicht 130 wird auf die Referenzschicht 120 aufgebracht. Als Nächstes wird die Erfassungsschicht 106 auf die Abstandshalterschicht 130 aufgebracht, und die erste Zwischenschicht 104 wird auf die Erfassungsschicht 106 aufgebracht. Die erste festgelegte Schicht 102 wird als Nächstes aufgebracht, wobei die erste festgelegte ferromagnetische Schicht 110 auf die erste Zwischenschicht 104 aufgebracht wird und die erste antiferromagnetische Schicht 108 über die erste festgelegte ferromagnetische Schicht 110 aufgebracht wird.
  • Um dieselbe feststehende magnetische Orientierung in der ersten festgelegten Schicht 102 und der zweiten festgelegten Schicht 116 zu liefern, wird ein Magnetfeld an den Materialstapel angelegt, und der Magnetsensor 100 wird in dem angelegten Magnetfeld getempert, indem die Temperatur auf über eine Blockungstemperatur erhöht wird und indem anschließend der Magnetsensor 100 auf unter die Blockungstemperatur abgekühlt wird. Die magnetischen Orientierungen in der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 und der zweiten festgelegten ferromagnetischen Schicht 124 richten sich mit dem angelegten Magnetfeld aus, um dieselbe feststehende magnetische Orientierung in der ersten festgelegten Schicht 102 und der zweiten festgelegten Schicht 116 zu liefern. Dieses Tempern des Magnetsensors 100 muss lediglich einmal erfolgen, um dieselbe feststehende magnetische Orientierung in der ersten festgelegten Schicht 102 und der zweiten festgelegten Schicht 116 zu liefern.
  • Die erste Zwischenschicht 104 koppelt die erste festgelegte ferromagnetische Schicht 110 und die Erfassungsschicht 106 magnetisch miteinander, um in der Erfassungsschicht 106 eine magnetische Orientierung zu liefern, die 90 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 abweicht. Die zweite Zwischenschicht 118 koppelt die zweite festgelegte ferromagnetische Schicht 124 und die Referenzschicht 120 magnetisch miteinander, um in der Referenzschicht 120 eine magnetische Orientierung zu liefern, die 180 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung der zweiten festgelegten ferromagnetischen Schicht 124 abweicht. Die magnetische Orientierung in der Referenzschicht 120 weicht 90 Grad von der magnetischen Orientierung der Erfassungsschicht 106 ab.
  • 3 ist ein Diagramm, das die Auswirkung des Temperns auf magnetische Orientierungen in der ersten festgelegten Schicht 102 bei 200 und der zweiten festgelegten Schicht 116 bei 202 veranschaulicht. Bei 204, ohne Tempern, liegt die magnetische Orientierung der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 etwas links der y-Achse, und bei 206, ohne Tempern, liegt die magnetische Orientierung der zweiten festgelegten ferromagnetischen Schicht 124 rechts der y-Achse.
  • Um die erste festgelegte Schicht 102 und die zweite festgelegte Schicht 116 zu tempern, wird ein Magnetfeld, das eine von links nach rechts verlaufende Richtung entlang der x-Achse aufweist, an den Magnetsensor 100 oder an den Materialstapel, der schließlich den Magnetsensor 100 bildet, angelegt. Die Temperatur wird auf über eine Blockungstemperatur angehoben und anschließend auf unter die Blockungstemperatur abgekühlt, wobei sich der Materialstapel in dem angelegten Magnetfeld befindet. Die magnetischen Orientierungen in der ersten festgelegten ferromagnetischen Schicht 110 bei 208 und der zweiten festgelegten ferromagnetischen Schicht 124 bei 210 richten sich mit dem angelegten Magnetfeld entlang der x-Achse von links nach rechts aus und liefern dieselbe feststehende magnetische Orientierung in der ersten festgelegten Schicht 102 und der zweiten festgelegten Schicht 116.
  • Das Tempern des Magnetsensors 100 muss nur einmal erfolgen, um dieselbe feststehende magnetische Orientierung in der ersten festgelegten Schicht 102 und der zweiten festgelegten Schicht 116 zu liefern. Ein zweiter Temperschritt in einer anderen Magnetfeldrichtung wird nicht benötigt, wodurch eine qualitative Verschlechterung des Magnetsensors 100, beispielsweise mittels Diffusion oder Korrosion, eliminiert wird, eine Veränderung der feststehenden magnetischen Orientierung verhindert wird und eine Verwendung einer niedrigeren Blockungstemperatur, die negative Auswirkungen auf die Stabilität des Magnetsensors 100 haben könnte, eliminiert wird.
  • Obwohl hierin spezifische Ausführungsbeispiele veranschaulicht und beschrieben wurden, wird Fachleuten einleuchten, dass die gezeigten und beschriebenen spezifischen Ausführungsbeispiele durch eine Vielzahl von alternativen und/oder äquivalenten Implementierungen ersetzt werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Die vorliegende Anmeldung soll jegliche Anpassungen oder Variationen der hierin erörterten spezifischen Ausführungsbeispiele abdecken. Deshalb ist beabsichtigt, dass die vorliegende Erfindung lediglich durch die Patentansprüche und die Äquivalente derselben beschränkt sei.

Claims (25)

  1. System, das folgende Merkmale aufweist: eine Erfassungsschicht (26; 106); eine erste festgelegte Schicht (22; 102), die in einer feststehenden magnetischen Orientierung gehalten ist; und eine erste Zwischenschicht (24; 104), die dahin gehend konfiguriert ist, die Erfassungsschicht (26; 106) und die erste festgelegte Schicht (22; 102) miteinander zu koppeln und in der Erfassungsschicht eine magnetische Orientierung zu liefern, die im Wesentlichen 90 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung abweicht, wobei sich die magnetische Orientierung in der Erfassungsschicht ansprechend auf ein äußeres Magnetfeld dreht.
  2. System gemäß Anspruch 1, bei dem: die Erfassungsschicht (26; 106) eine erste ferromagnetische Schicht (110) umfasst; die erste festgelegte Schicht eine zweite ferromagnetische Schicht umfasst; und die erste Zwischenschicht (24; 104) eine Nickeloxidschicht umfasst.
  3. System gemäß Anspruch 2, bei dem die erste ferromagnetische Schicht (110) und die zweite ferromagnetische Schicht Eisenoxidschichten sind.
  4. System gemäß Anspruch 2 oder 3, bei dem die erste Zwischenschicht (24; 104) weniger als 3 Nanometer dick ist.
  5. System gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, das folgende Merkmale aufweist: eine Referenzschicht (36; 120); eine zweite festgelegte Schicht (32; 116), die in der feststehenden magnetischen Orientierung gehalten wird; und eine zweite Zwischenschicht (34; 118), die dahin gehend konfiguriert ist, die Referenzschicht (36; 120) und die zweite festgelegte Schicht (32; 116) miteinander zu koppeln und in der Referenzschicht eine magnetische Orientierung zu liefern, die 180 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung abweicht.
  6. System gemäß Anspruch 5, bei dem die zweite Zwischenschicht (34; 118) Ruthenium umfasst.
  7. System gemäß Anspruch 5 oder 6, das folgendes Merkmal aufweist: eine Abstandshalterschicht (42; 130), die zwischen der Erfassungsschicht und der Referenzschicht positioniert ist.
  8. System gemäß Anspruch 7, bei dem die Abstandshalterschicht (42; 130) Kupfer umfasst.
  9. System gemäß Anspruch 7, bei dem die Abstandshalterschicht (42; 130) entweder Aluminiumoxid oder Magnesiumoxid umfasst.
  10. System, das folgende Merkmale aufweist: eine Erfassungsschicht; eine Referenzschicht; eine in einer feststehenden magnetischen Orientierung gehaltene erste festgelegte Schicht; eine in der feststehenden magnetischen Orientierung gehaltene zweite festgelegte Schicht; wobei eine erste Zwischenschicht dahin gehend konfiguriert ist, die Erfassungsschicht und die erste festgelegte Schicht miteinander zu koppeln und in der Erfassungsschicht eine magnetische Orientierung zu liefern, die 90 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung abweicht; und eine zweite Zwischenschicht, die dahin gehend konfiguriert ist, die Referenzschicht und die zweite festgelegte Schicht miteinander zu koppeln und in der Referenzschicht eine magnetische Orientierung zu liefern, die 180 Grad von der feststehenden magnetisierten Orientierung abweicht.
  11. System gemäß Anspruch 10, das folgendes Merkmal aufweist: eine Abstandshalterschicht zwischen der Erfassungsschicht und der Referenzschicht, wobei die Abstandshalterschicht entweder Kupfer, Aluminiumoxid oder Magnesiumoxid ist.
  12. System gemäß Anspruch 10 oder 11, bei dem die Erfassungsschicht und die erste festgelegte Schicht Eisenoxidschichten umfassen und die erste Zwischenschicht eine Nickeloxidschicht umfasst.
  13. System gemäß einem der Ansprüche 10 bis 12, bei dem die erste Zwischenschicht eine Nickeloxidschicht umfasst, die weniger als 3 Nanometer dick ist.
  14. System gemäß einem der Ansprüche 10 bis 13, bei dem die erste festgelegte Schicht entweder eine Platinmanganschicht oder eine Iridiummanganschicht umfasst.
  15. System, das folgende Merkmale aufweist: eine Einrichtung zum Erfassen eines äußeren Magnetfeldes; eine Einrichtung zum Liefern einer feststehenden magnetischen Orientierung in einer ersten Schicht; und eine Einrichtung zum Koppeln der Einrichtung zum Erfassen und der ersten Schicht, um in der Einrichtung zum Erfassen eine magnetische Orientierung zu liefern, die 90 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung abweicht.
  16. System gemäß Anspruch 15, das folgende Merkmale aufweist: eine Einrichtung zum Referenzieren; eine Einrichtung zum Liefern der feststehenden magnetischen Orientierung in einer zweiten Schicht; und eine Einrichtung zum Koppeln der Einrichtung zum Referenzieren und der zweiten Schicht, um in der Einrichtung zum Referenzieren eine magnetische Orientierung zu liefern, die 180 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung abweicht.
  17. System gemäß Anspruch 15 oder 16, das folgendes Merkmal aufweist: eine Einrichtung zum Beabstanden der Einrichtung zum Erfassen und der Einrichtung zum Referenzieren.
  18. Verfahren zum Erfassen eines Magnetfeldes, das folgende Schritte umfasst: Liefern einer feststehenden magnetischen Orientierung in einer ersten festgelegten Schicht; Koppeln einer Erfassungsschicht und der ersten festgelegten Schicht, um in der Erfassungsschicht eine magnetische Orientierung zu liefern, die 90 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung abweicht.
  19. Verfahren gemäß Anspruch 18, das folgende Schritte umfasst: Liefern der feststehenden magnetischen Orientierung in einer zweiten festgelegten Schicht; und Koppeln einer Referenzschicht und der zweiten festgelegten Schicht, um in der Referenzschicht eine magnetische Orientierung zu liefern, die 180 Grad von der feststehenden magnetischen Orientierung abweicht.
  20. Verfahren gemäß Anspruch 19, das folgenden Schritt umfasst: Beabstanden der Erfassungsschicht und der Referenzschicht.
  21. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 18 bis 20, bei dem das Koppeln einer Erfassungsschicht und der ersten festgelegten Schicht folgenden Schritt umfasst: Liefern einer Nickeloxidschicht zwischen der Erfassungsschicht und der ersten festgelegten Schicht.
  22. Verfahren zum Herstellen eines Sensors, das folgende Schritte umfasst: Aufbringen einer ersten ferromagnetischen Schicht auf eine erste antiferromagnetische Schicht; Aufbringen einer zweiten antiferromagnetischen Schicht auf eine zweite ferromagnetische Schicht; vertikales Aufbringen einer Abstandshalterschicht zwischen die erste ferromagnetische Schicht und die zweite ferromagnetische Schicht; Anlegen eines Magnetfeldes; Tempern des Sensors lediglich einmal, wodurch eine feststehende magnetische Orientierung in der ersten ferromagnetischen Schicht und der zweiten ferromagnetischen Schicht eingerichtet wird.
  23. Verfahren gemäß Anspruch 22, das folgende Schritte umfasst: Aufbringen einer ersten Zwischenschicht auf die erste ferromagnetische Schicht; und Aufbringen einer Referenzschicht auf die erste Zwischenschicht, wodurch eine magnetische Orientierung der Referenzschicht eingerichtet wird, die 180 Grad von der magnetischen Orientierung der ersten ferromagnetischen Schicht abweicht.
  24. Verfahren gemäß Anspruch 22 oder 23, das folgenden Schritt umfasst: Aufbringen einer zweiten Zwischenschicht zwischen eine Erfassungsschicht und die zweite ferromagnetische Schicht, wodurch in der Erfassungsschicht eine magnetische Orientierung eingerichtet wird, die 90 Grad von der magnetischen Orientierung der zweiten ferromagnetischen Schicht abweicht.
  25. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 22 bis 24, bei dem das Aufbringen einer Abstandshalterschicht folgenden Schritt umfasst: Aufbringen entweder von Kupfer, Aluminiumoxid oder Magnesiumoxid.
DE102009032042A 2008-07-24 2009-07-07 System mit einer magnetischen Erfassungsschichtorientierung von 90 Grad und Verfahren zur Herstellung eines Sensors Expired - Fee Related DE102009032042B4 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/179,240 US8093892B2 (en) 2008-07-24 2008-07-24 System with 90 degree sense layer magnetic orientation
US12/179,240 2008-07-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102009032042A1 true DE102009032042A1 (de) 2010-02-18
DE102009032042B4 DE102009032042B4 (de) 2011-03-17

Family

ID=41528323

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102009032042A Expired - Fee Related DE102009032042B4 (de) 2008-07-24 2009-07-07 System mit einer magnetischen Erfassungsschichtorientierung von 90 Grad und Verfahren zur Herstellung eines Sensors

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8093892B2 (de)
DE (1) DE102009032042B4 (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012018276A1 (de) * 2012-09-14 2014-05-15 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Verschleißschutzschicht für Kolbenringe
EP3023803B1 (de) * 2014-11-19 2020-03-18 Crocus Technology S.A. MLU-Messzelle zur Abtastung eines externen Magnetfeldes und magnetische Sensorvorrichtung mit der MLU-Zelle
US10204671B2 (en) 2017-03-10 2019-02-12 Simon Fraser University Applications of non-collinearly coupled magnetic layers

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5206590A (en) 1990-12-11 1993-04-27 International Business Machines Corporation Magnetoresistive sensor based on the spin valve effect
US5408377A (en) 1993-10-15 1995-04-18 International Business Machines Corporation Magnetoresistive sensor with improved ferromagnetic sensing layer and magnetic recording system using the sensor
US5452163A (en) 1993-12-23 1995-09-19 International Business Machines Corporation Multilayer magnetoresistive sensor
US5739988A (en) * 1996-09-18 1998-04-14 International Business Machines Corporation Spin valve sensor with enhanced magnetoresistance
FR2817998B1 (fr) 2000-12-07 2003-01-10 Commissariat Energie Atomique Dispositif magnetique a polarisation de spin et a rotation d'aimantation, memoire et procede d'ecriture utilisant ce dispositif
US6893734B2 (en) 2000-12-22 2005-05-17 Alps Electric Co., Ltd. Magnetic sensing element with improved sensitivity and method for making the same
JP3973442B2 (ja) 2001-09-25 2007-09-12 アルプス電気株式会社 磁気検出素子及びその製造方法
US7285836B2 (en) 2005-03-09 2007-10-23 Maglabs, Inc. Magnetic random access memory with stacked memory cells having oppositely-directed hard-axis biasing
US7298597B2 (en) 2005-03-29 2007-11-20 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Magnetoresistive sensor based on spin accumulation effect with free layer stabilized by in-stack orthogonal magnetic coupling

Also Published As

Publication number Publication date
US20100020447A1 (en) 2010-01-28
US8093892B2 (en) 2012-01-10
DE102009032042B4 (de) 2011-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102007032867B4 (de) Magnetoresistive Magnetfeldsensorstrukturen und Herstellungsverfahren
DE102009050427B4 (de) Magnetsensorsystem und Verfahren
EP0674769B1 (de) Magnetowiderstands-sensor mit künstlichem antiferromagneten und verfahren zu seiner herstellung
DE102006035661B4 (de) Magnetfelderfassungsvorrichtung und Verfahren zu deren Einstellung
DE112018000840T5 (de) Spin-bahn-drehmoment-mram-speicherzelle mit verbesserter thermischer stabilität
DE102009007479B4 (de) Dünnfilm-Magnetsensor
DE102015121753B4 (de) Magnetsensorbauelement und Verfahren für ein Magnetsensorbauelement mit einer magnetoresistiven Struktur
DE102006024722B4 (de) Magnetfelddetektor sowie Verfahren zu seiner Herstellung
DE69631917T2 (de) Magnetsensor mit einem Riesenmagnetowiderstand und sein Herstellungsverfahren
DE102020103432B4 (de) Magnetsensor
DE102006008257B4 (de) Magnetoresistives Mehrschichtensystem vom Spin Valve-Typ mit einer magnetisch weicheren Elektrode aus mehreren Schichten und dessen Verwendung
DE10319319A1 (de) Sensoreinrichtung mit magnetostriktivem Kraftsensor
DE102014116953A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Magnetfeldsensorvorrichtung sowie diesbezüglicheMagnetfeldsensorvorrichtung
DE112009001140T5 (de) Zweiachsen-Magnetfeldsensor mit mehreren Pinning-Richtungen sowie Verfahren zum Herstellen des Sensors
DE112007003025T5 (de) Magnetsensor und Magnetkodierer, der ihn nutzt
DE102019113639A1 (de) Magnetfelderfassungsvorrichtung
DE102006010652B4 (de) Magnetfeldsensor
DE102007032299B4 (de) Sensor, insbesondere zur Magnetfeldmessung
DE102019113815A1 (de) Magnetsensor
DE102016103348A1 (de) Magnetsensor und magnetischer Codierer
DE102019126320B4 (de) Magnetoresistiver Sensor und Fertigungsverfahren für einen magnetoresistiven Sensor
DE19804339A1 (de) Spinventil-Magnetowiderstandskopf und Herstellungsverfahren dafür
DE102009032042B4 (de) System mit einer magnetischen Erfassungsschichtorientierung von 90 Grad und Verfahren zur Herstellung eines Sensors
DE102012216069A1 (de) Magnetoresistive Spinventil-Schichtsysteme
DE60023835T2 (de) Magnetwiderstandssensor oder speicherelement mit vermindertem magnetischen schaltfeld

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
R020 Patent grant now final

Effective date: 20110703

R082 Change of representative
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee