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Die
Erfindung betrifft ein Maskeninspektionsmikroskop zur Erzeugung
eines Bildes der Struktur eines in einer Objektebene angeordneten
Retikels in einer Feldebene des Maskeninspektionsmikroskops aufweisend
eine Projektionslicht emittierende Lichtquelle, zumindest einen
Beleuchtungsstrahlengang und eine erste Blende zur Erzeugung einer
resultierenden Intensitätsverteilung
des Projektionslichts in einer zur Objektebene optisch konjugierten
Pupillenebene des Beleuchtungsstrahlengangs.
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In
der Lithographie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen werden
die Strukturen von Retikeln (welche auch synonym als Maske bezeichnet werden)
auf Wafer projiziert, welche mit einer lichtempfindlichen Schicht,
dem Resist, beschichtet sind. Bei Maskeninspektionsmikroskopen wird
die Struktur eines Retikels auf einen lichtempfindlichen ortsaufgelösten Detektor,
wie beispielsweise einen CCD-Chip (Charge Coupled Device), projiziert.
Bei der Projektion auf den Wafer wird die Struktur verkleinert abgebildet,
bei aktuellen Anlagen wird die Struktur um den Faktor vier verkleinert.
Bei der Projektion auf den ortsaufgelösten Detektor wird die Struktur
um beispielsweise den Faktor 150 vergrößert, um eventuell vorliegende
Defekte der Struktur genauer zu erkennen.
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Da
bei der Maskeninspektion vorwiegend Defekte von Interesse sind,
die auch bei der Waferbelichtung auftreten, müssen die im Resist und auf dem
Detektor erzeugten Luftbilder, abgesehen von der Vergrößerung,
möglichst
identisch sein. Um eine äquivalente
Bilderzeugung zu erreichen, werden bei der Maskeninspektion die
Beleuchtung und objektseitig die numerische Apertur dem verwendeten Scanner
angepasst.
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Eine
weitere Form von Maskeninspektionsmikroskopen dient zur Vermessung
der Retikel und wird auch als Registration-Tool bezeichnet. Es werden
die Positionen von speziellen Markern („Registaration Pattern”) oder
von Merkmalen der Struktur des Retikels, wie z. B. die Lage bestimmter
Kanten, bestimmt. Die Beleuchtung wird durch die genannten konventionellen
und außeraxialen
Beleuchtungseinstellungen zur Optimierung des Kontrastes eingesetzt.
So wird die Genauigkeit der Registrations-Messung erhöht.
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Maskeninspektionsmikroskope
können
in Transmission oder in Reflexion arbeiten. Das Bild des Retikels
entsteht entweder nach Transmission des Projektionslichts durch
die Maske oder nach Reflexion des Proektionslichts an der Oberfläche der Maske.
Beide Möglichkeiten
können
auch kombiniert werden.
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Die
Beleuchtung wird bei Scanner zur Waferbelichtung entsprechend der
Strukturen der jeweils abzubildenden Retikel optimiert. Üblich sind
konventionelle Beleuchtungseinstellungen mit unterschiedlichen Kohärenzgraden
sowie außeraxiale
Beleuchtungeinstellungen wie beispielsweise annularer Beleuchtung
und Dipol- oder Quadrupolbleuchtung. Diese Beleuchtungseinstellungen
beschreiben die Intensitätsverteilung
der Beleuchtung in einer Pupillenebene des Maskeninspektionsmikroskops.
Durch Beleuchtungseinstellungen zur Erzeugung einer außeraxialen,
schiefen Beleuchtung werden die Schärfentiefe bzw. das Auflösungsvermögen erhöht.
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Bei
Scannern wird der Kohärenzgrad
der Beleuchtung durch Zoom-Linsen eingestellt. Annulare Beleuchung
wird durch rotationssymmetrische Axicons erreicht, multipolare wie
z. B. quadrupolare Beleuchtung wird beispielsweise durch pyramidenförmige Axicons
erreicht. Durch Verschieben der Axicons ist die Beleuchtungseinstellung
in weiten Bereichen variierbar. Bei annularer Beleuchtung wird so
die innere Kohärenz
des Projektionslichts bestimmt. Bei Zoom-Axicons wird gleichzeitig
die äußere Kohärenz festgelegt.
Beliebige weitere Beleuchtungseinstellungen können durch spezielle diffraktive
optische Elemente erzeugt werden, die alleine oder in Verbindung mit
Axicons bzw. Zoom-Linsen verwendet werden.
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Bei
Maskeninspektionsmikroskopen werden aus Kostengründen Optiken mit kleinerem
Bildfeld als bei Scannern verwendet. Hier würden somit erheblich kleinere
Axicons als bei Scannern benötigt, deren
Herstellung sehr aufwendig ist. Da die Anforderungen an die Beleuchtungsintensität bei Maskeninspektionsmikroskopen
geringer sind, ist der Einsatz von Axicons bzw. diffraktiven optischen
Elementen hier jedoch nicht notwendig. Die Beleuchtungseinstellungen
(„Settings”) werden
durch einfache Blenden realisiert. Für jede Beleuchtungseinstellung
wird dann eine Blende benötigt.
Diese Blenden bestimmen durch lichtdurchlässige und lichtundurchlässige Bereiche
die Intensitätsverteilung
der Beleuchtung in einer Pupillenebene des Maskeninspektionsmikroskops.
Die Blenden sind bei Beleuchtung mit Projektionslicht der Wellenlänge im DUV-Bereich
beispielsweise in Chrom auf Glas gefertigt. Sie können auch aus
Blech gefertigt sein, welches an lichtdurchlässigen Stellen entsprechende Öffnungen
aufweist. Durch die Kombination mit Zoom-Linsen wird die Größe der durch
eine Blende erzeugten Intensitätsverteilung
variiert.
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Um
den immer höheren
Anforderungen an die Abbildungsleistungen von Scannern gerecht zu werden,
kommen in der Lithographie immer ausgefeiltere Beleuchtungseinstellungen
zum Einsatz. So z. B. Aqua (eine Kombination aus Low-Sigma-Annular
und Quasar), Quasare, die keine 90°-Symmetrie aufweisen, etc..
Außerdem
sind beim Scanner Beleuchtungseinstellungen bevorzugt, bei denen
die Intensitätsverteilung
in der Pupillenebene kein sogenanntes ”Top-Hat”-Profil aufweist, sondern
z. B. einen kontinuierlicheren Verlauf. Beim „Top-Hat”-Profil ist der Gradient zwischen
dunklen und hellen Bereichen sehr steil. Beispielsweise bei der
durch Axicons erreichbaren annularen Beleuchtung ist der Gradient kleiner.
Diese kleineren Gradienten sind durch die in der Maskeninspektion
bekannten oben genannten Blenden nur schlecht zu realisieren, da
hier die Transmission der Blenden fein variiert werden müsste. So
ist dies bei Lochblenden offensichtlich nicht möglich. Aber auch bei z. B.
o. g. Blenden die aus Chrom und Glas bestehen, ist die Realisierung
von teiltransparenten Bereichen in der benötigten Größe kaum möglich.
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Dies
bedeutet, dass zur Anpassung der Beleuchtungseinstellungen an den
Scanner für
Maskeninspektionsmikroskope zahlreiche unterschiedliche Beleuchtungseinstellungen
ermöglicht
werden müssen.
Sobald für
den Scanner neue Beleuchtungseinstellungen gefunden werden, sind
diese auch für
Maskeninspektionsmikroskope zu ermöglichen.
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Die
Aufgabe der Erfindung ist daher die Bereitstellung eines Maskeninspektionsmikroskops, welches
auf einfache und kostengünstige
Weise die Einstellung zahlreicher unterschiedlicher Beleuchtungseinstellungen
ermöglicht.
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Erfindungsgemäß wird diese
Aufgabe durch ein Maskeninspektionsmikroskop gelöst, welches zumindest eine
weitere Blende zur Erzeugung der resultierenden Intensitätsverteilung
aufweist, wobei die erste Blende und die zumindest eine weitere
Blende die resultierende Intensitätsverteilung des Projektionslichts
zumindest teilweise an unterschiedlichen Stellen der zur Objektebene
optisch konjugierten Pupillenebene beeinflussen.
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Die
resultierende Intensitätsverteilung
des Projektionslichts der zur Objektebene optisch konjugierten Pupillenebene
kann beispielsweise die Intensitätsverteilung
einer realen Pupillenebene sein, die beispielsweise in einem Kondensor
eines Beleuchtungsstrahlengangs liegt. Sofern die Kombination der Intensitätsverteilungen
der unterschiedlichen Blenden erst in der Objektebene erfolgt, ist
hier die Intensitätsverteilung
der virtuellen Pupillenebene zu verstehen.
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Die
resultierende Intensitätsverteilung
des Projektionslichts der zur Objektebene optisch konjugierten Pupillenebene
wird durch mehrere Blenden beeinflusst. Im folgenden wird die resultierende
Intensitätsverteilung
des Projektionslichts der zur Objektebene optisch konjugierten Pupillenebene
auch kurz mit „resultierender
Intensitätsverteilung” bezeichnet.
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Die
Anordnung der Blenden ist variabel. Sie ist beispielsweise sequentiell
längs des
zumindest einen Beleuchtungsstrahlengangs möglich. Die Blenden können innerhalb
eines Beleuchtungsstrahlengangs beispielsweise direkt hintereinander
oder voneinander beabstandet angeordnet sein.
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Es
können
bei mehreren Beleuchtungsstrahlengängen auch in den unterschiedlichen,
beispielsweise parallel angeordneten Beleuchtungsstrahlengängen, unterschiedliche
Blenden angeordnet sein. Die für
die Beleuchtung relevante Intensitätsverteilung ist dann die durch Überlagerung
der Intensitätsverteilungen
der parallelen Pupillenebenen resultierenden zur Objektebene optisch
konjugierten Pupillenebene.
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Die
sequentielle Anordnung von Blenden längs eines Beleuchtungsstrahlengangs
und jene in parallelen Beobachtungsstrahlengängen kann beliebig kombiniert
werden.
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Durch
die Erzeugung der Intensitätsverteilung
der zur Objektebene optisch konjugierten Pupillenebene durch mehrere
unterschiedliche Blenden können
einerseits Beleuchtungseinstellungen erreicht werden, die mit nur
einer Blende nicht möglich wären, beispielsweise
durch die Überlagerung
von Pupillenebenen mit unterschiedlichen Intensitätsverteilungen
des Projektionslichtes. Andererseits führt die Bereitstellung einer
Menge einzelner Blenden bei gleichzeitigem Einsatz mehrerer Blenden
zu einer Vielzahl von Kombinationsmöglichkeiten, wodurch die Anzahl
möglicher
unterschiedlicher Beleuchtungseinstellungen größer wird als die Zahl vorhandener
Blenden.
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Als
Projektionslicht kann hier jegliche Form von elektromagnetischer
Strahlung zum Einsatz kommen, so beispielsweise Laserstrahlung von
Excimer-Lasern im DUV-Bereich der Wellenlänge 365 nm, 248 nm, 193 nm,
153 nm oder 13 nm.
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In
einer Feldebene des Maskeninspektionsmikroskops, auf welche das
Retikel in der Objektebene letztendlich abgebildet wird, ist vorzugsweise
ein Detektor zur Aufnahme des Luftbildes angeordnet. So können die
Daten durch eine weiterhin vorgesehene Datenverarbeitungsanlage
weiter verarbeitet werden.
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Abgebildet
wird die auf einem Retikel dargestellte Struktur. Diese kann bei
einfachen Masken durch die auf Glas befindliche Chromschicht definiert sein.
Auch bei den unterschiedlichen Typen von Phasen-Shift-Masken wie
beispielsweise Alternating Phase Shift Masks oder Attenuated Phase
Shift Masks wird die dargestellte Struktur abgebildet.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung sind zumindest zwei Blenden,
die als erste Blende oder als weitere Blende eingesetzt werden, auf
einer Blendenplatte angeordnet, so dass ein Wechsel der einzelnen
Blenden durch Bewegung der Blendenplatte erfolgt.
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Die
Blendenplatte kann durch eine Halterung derart an der gewünschten
Position im Beleuchtungsstrahlengang angeordnet sein, dass durch
Verschieben der Blendenplatte eine gewünschte Blende in den Beleuchtungsstrahlengang
eingebracht werden kann. Dieses Verschieben kann durch einen Antrieb,
wie beispielsweise ein Piezoelement oder ein Elektromotor erfolgen.
Auch können
verschiedene Blendenplatten bereitgestellt werden, so dass durch einfaches
Auswechseln der Blendenplatte eine Vielzahl weiterer Blenden zur
Verfügung
steht.
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Die
Halterung der Blendenplatte ist so ausgestaltet, dass das Auswechseln
auf einfache Weise möglich
ist, die Lage der Blendenplatte relativ zur Halterung aber mit hoher
Genauigkeit festgelegt ist. Die Reproduzierbarkeit der Positionierung
im Beleuchtungsstrahlengang muss beim wiederholten Ein- und Ausbau
sehr hoch sein.
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Bei
der Verwendung von mehreren Blendenplatten, die gleichzeitig in
einem und, oder mehreren Beleuchtungsstrahlengängen angeordnet sind, ist durch
Kombination der jeweiligen Blenden der unterschiedlichen Blendenplatten
die Zahl der Kombinationsmöglichkeiten
noch höher.
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Diese
Maßnahme
hat den Vorteil, dass auf einfache Weise eine Vielzahl unterschiedlicher
Blenden bereitsteht, die auf schnelle und einfache Weise ausgewechselt
werden können.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist zu jeder Blendenplatte
ein Datensatz mit Informationen über
Positionen der Blenden auf der Blendenplatte vorhanden.
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Diese
Maßnahme
ermöglicht
die automatische Positionierung einer Blende einer Blendenplatte und
die Auswahl einer Blende mit bestimmten Eigenschaften z. B. nach
Wahl des Benutzers oder durch einen Algorithmus einer Datenverarbeitungsanlage.
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Die
Position einer Blende ist beispielsweise als Koordinaten des Mittelpunktes
der Blende ausgehend von einem Referenzpunkt auf der Blendenplatte
angegeben.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist zu jeder Blendenplatte
ein Datensatz mit Informationen über
Eigenschaften der Blenden vorhanden.
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Als
Eigenschaften der Blenden sind beispielsweise die äußeren und
inneren Kohärenzgrade bzw.
die Öffnungswinkel
bzw. Lagen und Durchmesser von Polen angegeben. Es kann auch die
vollständige
Form bzw. eine grafische Darstellung der Blenden angegeben werden.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist eine Datenverarbeitungsanlage
vorgesehen, die zu vorgegebenen Blendenplatten mögliche Beleuchtungseinstellungen
ermittelt.
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Durch
Kombination der vorhandenen Blenden sind nun erfindungsgemäß zahlreiche
Beleuchtungseinstellungen möglich.
Für den
Anwender ist es nun schwierig, bei dieser Vielzahl an Kombinationsmöglichkeiten
jeweils die passende auszuwählen. Sind
in der Datenverarbeitungsanlage Daten über die Eigenschaften der Blenden
und über
die durch entsprechende Kombinationsmöglichkeiten zu erreichenden
Beleuchtungseinstellungen gespeichert, können alle Kombinationsmöglichkeiten
ermittelt werden. Der Anwender kann dann die gewünschte Beleuchtungseinstellung
aus den ermittelten Möglichkeiten
auswählen.
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Die
Datenverarbeitungsanlage kann auch die unterschiedlichen Kombinationsmöglichkeiten der
Blenden in Verbindung mit der sequentiellen bzw. parallelen Anordnung
der Blenden bzw. der Möglichkeit
des Zooms von Intensitätsverteilungen
einzelner Pupillenebenen berücksichtigen
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist im zumindest einen
Beleuchtungsstrahlengang zumindest ein Polarisator angeordnet.
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Unter
Polarisator ist hier jegliche Art von die Polarisation beeinflussenden
optischen Elementen zu verstehen.
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Diese
Maßnahme
hat den Vorteil, dass das Projektionslicht bei der Maskeninspektion
noch genauer an die Bedingungen des Scanners angepasst werden kann.
Insbesondere bei hochaperturigen Scanner ist polarisierte Beleuchtung
vorteilhaft. Hier kann beispielsweise linear, radial oder tangential
polarisiertes Licht zum Einsatz kommen.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung polarisiert zumindest
einer der Polarisatoren das Projektionslicht linear.
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Lineare
Polarisation kann apparativ einfach erreicht werden, beispielsweise
durch polarisierende Strahlteiler. Bei Beleuchtungseinstellungen
z. B. in Form von Dipolen oder Disaren, kommt die lineare Polarisation
der bevorzugten tangentialen Beleuchtung nahe.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung polarisiert zumindest
einer der Polarisatoren das Projektionslicht zumindest abschnittsweise
tangential zur optischen Achse des Beleuchtungsstrahlengangs.
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Wie
bereits erwähnt
ist es bei der Maskeninspektion eine häufige Aufgabe, die tangentiale
Polarisation des Projektionslichts der Scanner nachzubilden. Bei
annularer Beleuchtungseinstellung bzw. Quasaren mit großen Öffnungswinkeln
oder bei Quadrupolen bzw. Quasaren ist der Einsatz von linear polarisiertem
Licht nicht ausreichen. Hier kann tangential polarisiertes Projektionslicht
bereit gestellt werden. Dies kann beispielsweise durch Abschnittsweise
Drehung der Richtung von linear polarisiertem Licht durch einen
weiteren Polarisator, der auch als Polarisationskonverter bezeichnet
wird, erfolgen. Dabei kann beispielsweise eine Unterteilung in 4,
8 oder 12 Abschnitte erfolgen. Es ist auch möglich, wie bei Scannern üblich, eine
kontinuierliche tangentiale Polarisation bereitzustellen.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung sind zumindest zwei Blenden
längs eines
Beleuchtungsstrahlengangs angeordnet.
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Bei
dieser sequentiellen Anordnung der Blenden trifft das Projektionslicht
nacheinander auf zumindest teilweise unterschiedliche Blenden. Jede Blende
kann somit zur Reduzierung der Intensitätsverteilung an zumindest teilweise
unterschiedlichen Stellen der der zur Objektebene optisch konjugierten Pupillenebene
beitragen.
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Diese
Maßnahme
hat den Vorteil, dass auch bei einfacher Ausgestaltung eines Maskeninspektionsmikroskops
mit nur einem Beleuchtungsstrahlengang auf einfache Weise eine Vielzahl
von Beleuchtungseinstellungen ermöglicht werden kann.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung sind zumindest zwei Blenden
in unterschiedlichen Pupillenebenen angeordnet.
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Bei
dieser Ausgestaltung wird die Intensitätsverteilung einer Pupillenebene
auf zumindest eine andere Pupillenebene abgebildet. Befindet sich
in dieser wieder eine Blende, wird die Intensitätsverteilung durch diese weiter
beeinflusst. Insbesondere durch Größenveränderung der Intensitätserteilung bei
der Abbildung, durch eine Zoomoptik, lässt sich die Zahl der Beleuchtungseinstellungen
weiter erhöhen.
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Diese
Maßnahme
hat den Vorteil, dass sich alle Blenden exakt in einer Pupillenebene
befinden können
und so scharf aufeinander abgebildet werden können.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung sind zumindest zwei Blenden
gemeinsam in einer der Pupillenebenen angeordnet.
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Die
gemeinsam in einer Pupillenebene angeordneten Blenden wirken in
guter Näherung
wie eine gemeinsame Blende.
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Die
beiden Blenden können,
wenn eine scharfe Abbildung erwünscht
ist, längs
des Beobachtungsstrahlengangs so nahe beieinander angeordnet sein,
dass beide im Bereich der Schärfentiefe
der jeweiligen Pupillenebene liegen. Ein typischer Abstand liegt
bei 2 nm, möglichst
noch darunter.
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Diese
Maßnahme
hat den Vorteil, dass der Beleuchtungsstrahlengang kurz und damit
platzsparend ausgestaltet werden kann.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist zumindest eine erste
Menge der Blenden so ausgestaltet, dass die radiusabhängige Intensitätsverteilung
des Projektionslichts und zumindest eine zweite Menge der Blenden
ist so ausgestaltet, dass die winkelabhängige Intensitätsverteilung
des Projektionslichts bestimmt wird.
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Durch
die radiusabhängigen
Blenden wird typischerweise die äußere und
die innere Kohärenz des
Beleuchtungslichts festgelegt, jene Parameter durch die die in der
Lithographie häufig
anzutreffende annulare Beleuchtung definiert wird. Durch die winkelabhängigen Blenden
beispielsweise die Anzahl und die Ausdehnung der Pole bei multipolarer
Beleuchtung, wie z. B. Disare oder Quasare. Ein Grenzfall ist die
konventionelle Beleuchtung bei einer inneren Kohärenz von null, d. h. einer
scheibenförmigen d.
h. zirkulare Intensitätsverteilung.
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Diese
Maßnahme
hat den Vorteil, dass eine Anpassung an in der Lithographie typische
Beleuchtungseinstellungen vereinfacht wird.
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Weiterhin
vorteilhaft ist insbesondere eine Kombination mit den Blendenplatten
gemäß einer oben
beschriebenen Ausgestaltung der Erfindung, wobei jede der Mengen
der Blenden auf einer Blendenplatte angeordnet ist. So sind die
gewünschten Kombinationen
der Blenden schnell zugänglich.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist der zumindest eine
Beleuchtungsstrahlengang zur Aufteilung des Projektionslichts zumindest abschnittsweise
in zumindest zwei Beleuchtungsstrahlengänge aufgeteilt und in jedem
der Beleuchtungsstrahlengänge
ist zumindest eine Blende angeordnet.
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Die
Aufteilung des Projektionslichts kann durch einfache Strahlteiler
erfolgen. Vorzugsweise kommen polarisationsunabhängige Strahlteiler zum Einsatz.
Ein vorteilhafter Kompromiss zwischen apparativem Aufwand und resultierenden
Vorteilen ist es, zwei Beleuchtungsstrahlengänge vorzusehen.
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Die
Blenden sind hier derart parallel angeordnet, dass jede der in jedem
der Beleuchtungsstrahlengängen
angeordnete zumindest einen Blende an unterschiedlichen Stellen
der zur Objektebene optisch konjugierten Pupillenebene zur Erhöhung der Intensitätsverteilung
beitragen kann. Bei Blenden mit Bereichen gleicher Transmission
kann die Höhe
der Intensität
durch die Überlagerung
von Intensitäten variiert
werden.
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So
sind mit einzelnen Blenden, bei vertretbarem Aufwand bei der Herstellung,
nur sogenannte „Top-Hat”-Profile
mit einer nahezu abrupten Änderung
der Intensitätsverteilung
realisierbar. Durch die Überlagerung
von zwei oder mehreren Intensitätsverteilungen
geringfügig
unterschiedlicher Größe sind
weichere Übergänge der
resultierenden Intensitätsverteilung
der Pupillenebene zu erreichen.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung werden die Beleuchtungsstrahlengänge vor
der Objektebene wieder vereint.
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Diese
Vereinigung erfolgt vorzugsweise durch einen polarisationsunabhängigen Strahlteiler. Dies
ist insbesondere dann von Vorteil, wenn innerhalb der Beleuchtungsstrahlengänge eine
spezielle Polarisation des Projektionslichts erreicht wurde.
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Sowohl
zur Aufteilung des Polarisationslicht als auch zur Vereinigung können polarisierende Strahlteiler
eingesetzt werden, beispielsweise in X,Y-Richtung linear polarisierende
Strahlteiler. Die in den einzelnen Beleuchtungsstrahlengängen erhaltene
Polarisation kann dann gezielt für
Beleuchtungseinstellungen genutzt werden. Bei der Vereinigung der
Beleuchtungsstrahlengänge
kann durch gezielt eingesetzte polarisierende Strahlteiler das jeweilige Projektionslicht
einzelner Beleuchtungsstrahlengänge
vollständig
genutzt werden.
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Polarisatoren
können
in einem oder in jedem der Beleuchtungsstrahlengänge oder nach einer Vereinigung
der Beleuchtungsstrahlengänge
angeordnet sein.
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Diese
Maßnahme
hat den Vorteil, dass die Intensitätsverteilung des Projektionslichts
in der Pupillenebene durch die Überlagerung
einzelner Intensitätsverteilungen
der Pupillenebenen der weiteren Beleuchtungsstrahlengänge gezielt
variiert werden kann.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung sind in zumindest einem
der Beleuchtungsstrahlengänge
Polarisationskonverter zur Elimination unerwünschter Polarisation des Projektionslichts
angeordnet.
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Durch
die Aufteilung und Vereinigung des Projektionslichts durch Strahlteiler
können
auch unerwünschte
Polarisationen des Projektionslichts auftreten. Durch die Anordnung
von Polarisationskonvertern können
die unerwünschten
Polarisationen so gegeneinander gedreht werden, dass sie eliminiert werden.
Vorzugsweise kommen hier λ/2-Platten
zum Einsatz.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung beeinflussen zumindest
zwei der Blenden die Intensitätsverteilung
der Pupillenebene an unterschiedlichen Stellen.
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Diese
Maßnahme
bietet eine weitere Möglichkeit
durch Kombination von Blenden weitere Beleuchtungseinstellungen
zu erhalten. So kann beispielsweise durch die Kombination von zwei
um 90° verdrehten
Dipolen in der Pupillenebene eine qadrupolare Intensitätsverteilung
resultieren.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist in jedem der Beleuchtungsstrahlengänge zumindest
ein Polarisator angeordnet.
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Diese
Maßnahme
bietet eine Möglichkeit
der Kombination bzw. Überlagerung
von polarisiertem Projektionslicht. So können in jedem der Beleuchtungsstrahlengänge die
oben beschriebenen Ausgestaltungen der Polarisatoren angeordnet
sein. So besteht die Möglichkeit
in unterschiedlichen Bereichen der Pupillenebene Projektionslicht
unterschiedlicher Polarisationsrichtungen bereitzustellen. Wären beispielsweise
zwei um 90° verdrehte
Dipole in jedem der Beobachtungsstrahlengänge, ist bei entsprechender
Anordnung von Polarisatoren zur Erzeugung von linear polarisiertem
Licht in jedem der Beobachtungsstrahlengänge, als Resultat eine quadrupolare
Intensitätsverteilung
mit in guter Näherung tangentialer
Polarisation zu erreichen.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird das Projektionslicht
jeweils zu gleichen Teilen auf die Beleuchtungsstrahlengänge aufgeteilt.
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Diese
Aufteilung kann durch einfache Strahlteiler erfolgen. Bei zwei Beleuchtungsstrahlengängen wird
das Licht gleichmäßig auf
beide Beleuchtungsstrahlengänge
verteilt.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist in zumindest einem
der Beleuchtungsstrahlengänge
ein Abschwächer
angeordnet.
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Dies
ermöglicht
die Intensitätsverteilung
weiter zu variieren. So kann der Anteil der Intensitätsverteilungen
der einzelnen Beleuchtungsstrahlengänge an der resultierenden Intensitätsverteilung
des Projektionslichts der zur Objektebene optisch konjugierten Pupillenebene
unterschiedlich gewichtet werden. Bevorzugt ist bei zwei Beleuchtungstrahlengängen in jedem
ein Abschwächer
angeordnet.
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Als
Abschwächer
kommen Platten zum Einsatz, deren Durchlässigkeit für das jeweilige Projektionslicht
längs der
Bewegungsrichtung zunimmt. So wird die Strahlung stärker abgeschwächt, je
stärker der
Abschwächer
in den Beleuchtungsstrahlengang eingebracht wird.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist in zumindest einem
der Beleuchtungsstrahlengänge
ein Shutter angeordnet.
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Diese
Anordnung ermöglicht
es, den für
bestimmte Beleuchtungseinstellungen nicht benötigten Beitrag von Beleuchtungsstrahlengängen durch
das Schließen
der jeweiligen Shutter zu eliminieren.
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Generell
müssen
in den Beleuchtungsstrahlengang eingebrachte Blenden zentriert,
d. h zur optischen Achse ausgerichtet werden. Dabei wird z. B. die
durch die Blende erzeugte Intensitätsverteilung der Pupillenebene
durch eine Bertrand-Linse auf dem Detektor des Maskeninspektionsmikroskops
abgebildet. Die Blende wird dann justiert, bis dieses Bild die gewünschte Lage
aufweist. Hier ist es vorteilhaft, jede der Blenden einzeln zu zentrieren.
Ist in jedem der Beleuchtungsstrahlengänge ein Shutter, kann der Beleuchtungsstrahlegang
der die jeweils zu zentrierende Blende enthält geöffnet sein, die Shutter der restlichen
Beleuchtungsstrahlengänge
geschlossen sein.
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In
einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist in dem zumindest
einen Beleuchtungsstrahlengang zumindest ein Zoomobjektiv angeordnet, durch
welches eine Pupillenebene des zumindest einen Beleuchtungsstrahlengangs
in variabler Größe auf zumindest
eine weitere Pupillenebene des Beleuchtungsstrahlengangs abgebildet
wird Durch diese Maßnahme
können
die Beleuchtungseinstellungen noch feiner variiert werden. So kann
die durch eine Blende in einer Pupillenebene erzeugte Intensitätsverteilung
in variabler Größe mit der
durch eine andere Blende erzeugte Intensitätsverteilung einer anderen
Pupillenebene kombiniert werden.
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Dies
ist sowohl bei der sequentiellen als auch bei der parallelen Anordnung
von Blenden vorteilhaft.
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Bei
der sequentiellen Anordnung von Blenden können z. B. mit einer annularen
Blende die Werte für
die äußere und
innere Kohärenz
variiert werden.
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Bei
beispielsweise zwei identischen sequentiell angeordneten Blenden
können
durch Überlagerung
zweier in der Größe geringfügig unterschiedlicher
Bilder der Pupille weiche Gradienten des Verlaufs der resultierenden
Intensitätsverteilung
realisiert werden.
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Es
versteht sich, dass die bisher genannten und die im Folgenden noch
zu erläuternden
Merkmale der Erfindung nicht nur in den beschriebenen, sondern auch
in weiteren Kombinationen oder einzeln Verwendung finden können, ohne
den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
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Die
Erfindung wird im Folgenden anhand einiger ausgewählter Ausführungsbeispiele
und anhand der Zeichnungen näher
beschrieben und erläutert.
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Es
zeigen:
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1:
Längsschnitt
eines Abschnitts eines Beleuchtungsstrahlengangs eines erfindungsgemäßen Maskeninspektionsmikroskops;
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2:
Längsschnitt
eines Abschnitts von zwei Beleuchtungsstrahlengängen eines erfindungsgemäßen Maskeninspektionsmikroskops;
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3:
Längsschnitt
eines Abschnitts eines Beleuchtungsstrahlengangs und Abbildungsstrahlengang
eines erfindungsgemäßen Maskeninspektionsmikroskops;
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4:
Draufsicht auf verschiedene Blendenplatten;
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5:
Schnellspannvorrichtung zur Befestigung einer Blendenplatte.
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Ein
Maskeninspektionsmikroskop nach einem ersten Ausführungsbeispiel
besteht, wie in 1 dargestellt, aus einer Lichtquelle 5,
einem Excimer-Laser, der Projektionslicht der Wellenlänge 193
nm emittiert. Längs
der optischen Achse 1 folgt ein Homogenisierer zur Homogeniserung
der Intensitätsverteilung
des Projektionslichts in der Pupillenebene und zu dessen Depolarisierung.
Dann folgt ein Shutter 15, der über den Antrieb 20 in
den Beleuchtungsstrahlengang 3 eingebracht oder hinausbewegt werden
kann. Dieser besteht aus einem strahlungsundurchlässigen Stahlblech.
Längs der
optischen Achse 1 folgt dann ein Abschwächer zur Variation der Beleuchtungsintensität. Dieser
kann durch Antrieb 30 stufenlos in den Beleuchtungsstrahlengang 3 eingefahren
werden kann. Der Abschwächer
besteht aus einer Platte aus Quarzglas, die mit Chrom beschichtet
ist. Die Dicke der Chromschicht nimmt längs der Bewegungsrichtung zu.
So wird die Strahlung stärker abgeschwächt, je
stärker
der Abschwächer
in dem Beleuchtungsstrahlengang 3 eingebracht wird. Der Abschwächer 3 kann
auch bei gleicher Wirkung mit einer dielektrischen Schicht versehen
sein.
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Nun
folgt die Blendenplatte 45, welche in einer Pupillenebene
des Beleuchtungsstrahlengangs 3 angeordnet ist. Die Steuerung
erfolgt über
Antrieb 50, der eine genaue Positionierung der radiusbestimmenden
Blenden 47 ermöglicht.
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Die
eingestellte Blende der radiusbestimmenden Blenden 47 wird
durch ein Zoomobjektiv 55 mit Stelltrieb 70 in
der gewünschten
Größe auf die winkelbestimmenden
Blenden 52 der weiteren Blendenplatte 65 abgebildet,
die ebenfalls in einer Pupillenebene des Beleuchtungsstrahlengangs 3 angeordnet
ist. Der Abbildungsmaßstab
kann um den Faktor 3 variiert werden. Die Blendenplatten
sind in 4 dargestellt, die Projektionslichtundurchlässigen Bereiche
sind schraffiert dargestellt. Durch Antrieb 70 wird die
Blendenplatte 65 lateral bewegt, um eine gewünschte Blende
der winkelbestimmenden Blenden 67 in den Beleuchtungsstrahlengang 3 einzubringen.
Die Blendenplatten 45, 65 sind auswechselbar mit
den Antrieben 50, 70 über Schnellspannvorrichtungen 240 verbunden.
Die Schnellspannvorrichtung 240 ist Teil des Antriebs 50.
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Schnellspannvorrichtung 240 ist
in 5 am Beispiel der Blendenplatte 45 im
Detail beschrieben. Die einzelnen Blenden sind hier nicht dargestellt. Blendenplatte 45 wird
vom Anwender an einem Griff 250 gehalten. Der Befestigungssteg 260 ist
Teil der Blendenplatte 45. Gegen die Oberflächen 261, 262 und 263 dieses
Stegs drücken
die mit Federkraft beaufschlagten Rollen 265, 266 und 267 die
Blendenplatte gegen den Halter 270, der mit den nicht näher beschriebenen
Motoren verbunden ist. Ist die Blendenplatte vollständig befestigt,
rastet die Rolle 266 in eine nicht dargestellte Vertiefung
auf der Oberfläche 262 ein.
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Durch
ein weiteres Zoomobjektiv 75 mit Antrieb 80 wird
die Pupillenebene der Blendenplatte 65 letztendlich auf
die resultierende Pupillenebene 135 des Kondensors 130,
wie in 3 dargestellt, abgebildet.
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In
weiteren nicht dargestellten Ausführungsbeispielen ist eines
der Zoomobjektive 55 oder 75 oder beide durch
Objektive mit festem Abbildungsmaßstab ersetzt.
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Beispiele
einer ersten Blendenplatte 45 und einer weiteren Blendenplatte 65 sind
in 4 gezeigt. Blendenplatte 45 enthält unter
anderem ringförmige
Blenden 47, mit Ringen unterschiedlicher Breite, um die
innere und äußere Kohärenz bzw.
dessen Verhältnis
der Beleuchtungseinstellung zu variieren. Die weitere Blendenplatte 65 enthält unter
anderem winkelbestimmende Blenden 52. Diese bestehen beispielsweise
aus alternierenden lichtdurchlässigen
und lichtundurchlässigen
Sektoren. Für
Disare sind beispielsweise Blenden mit zwei gegenüberliegenden
lichtundurchlässigen
Sektoren und zwei gegenüberliegenden
lichtdurchlässigen
Sektoren vorgesehen, für
Quasare Blenden mit jeweils 4 Sektoren. Die Öffnungswinkel der Sektoren
können
variieren.
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Beide
Blendenplatte 45, 65 weisen eine größere Öffnung 44 auf,
die nicht mehr als Blende wirkt. Diese ist vorteilhaft, wenn nur
eine Blende einer Blendenplatte 45, 65 genutzt
werden soll.
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Die
Fortsetzung des Beleuchtungsstrahlengangs 3 des ersten
Ausführungsbeispiels
ist in 3 dargestellt. Es folgt eine Feldblende 100 zur
Bestimmung der Größe des Beleuchtungsfeldes
auf dem Retikel 145. Nach der Feldblende 100 folgen
eine Tubuslinse 105 und der Kondensor 130 mit
der Pupillenebene 135.
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Zur
Polaristion des Projektionslichts können die Polarisatoren 110 und 120 durch
die Antriebe 115 und 125 in den Beleuchtungsstrahlengang 3 eingebracht
werden. Polarisator 110 polarisiert das Projektionslicht
linear, die Richtung der Polarisation kann durch Drehung des Polarisators 110 durch
Antrieb 115 eingestellt werden. Um tangentiale Polarisation des
Beleuchtungslichts zu erreichen, wird zusätzlich zu dem Polarisator 110 der
Polarisator 120, der als segmentierter Polarisationskonverter
ausgebildet ist, in den Beleuchtungsstrahlengang 3 eingebracht.
Die lineare Polarisation wird durch diesen Polarisator 120 sektorweise
gedreht, so dass näherungsweise
tangentiale Polarisation resultiert. Es stehen drei Varianten des
Polarisators 120 zur Verfügung (nicht in 3 dargestellt).
Es kann zwischen den Unterteilungen in 4, 8 oder 12 Sektoren gewählt werden.
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Die
zu inspizierende Maske 145 mit der Struktur 150 ist
durch ein Pellikel 155 geschützt. Die Maske liegt auf dem
Maskenhalter 140, der durch Antrieb 142 lateral
bewegt wird, um die Maske an die gewünschte Position zu bewegen,
so dass sich die zu inspizierende Stelle im Beleuchtungsstrahlengang 3 befindet.
Das Bild des Retikels wird durch Objektiv 160 über die
Tubus-Linse 165, Feldblende 170, Vergrößerungs-Optik 175 auf
den Detektor 200, einen CCD-Chip (Charge Coupled Device),
abgebildet. Dien numerische Apertur wird durch die NA-Blende 180 mit
Antrieb 182 eingestellt.
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Zur
Abbildung der Pupillenebene des Beleuchtungsstrahlengangs 3 auf
dem Detektor 200 wird eine Bertrand-Linse 185 durch
Antrieb 190 in den Beleuchtuingsstrahlengang 3 eingebracht.
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Alle
Antriebe 20, 30, 50, 60, 70, 80, 115, 125, 142, 182, 190, 185 und
der Detektor 200 sind mit einer Datenverarbeitungsanlage 210 mit
Ein- und Ausgabeeinheit 215 verbunden. Die Steuerung des
Maskeninspektionsmikroskops erfolgt durch diese Datenverarbeitungsanlage 210,
auch wird durch Auslesen des Detektors 200 das jeweilige
Bild abgespeichert, die Bilddaten werden weiterverarbeitet.
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Wird über Antrieb 50 oder 70 eine
Blende der Blendenplatten 45 oder 65 in den Beleuchtungsstrahlengang
eingebracht, ist diese zur optischen Achse 1 des Beleuchtungsstrahlengangs 3 zu
zentrieren. Dafür
wird das Bild der Blende über
die Bertrand Linse 185 auf dem Detektor 200 abgebildet.
Die betreffende Blendenplatte wird nun lateral bewegt, bis das Bild der
Blende die gewünschte
Position erreicht hat. Detektor 200 ist zuvor kalibriert,
d. h. die Lage des Schnittpunkts der optischen Achse mit der Oberfläche des
Detektors ist bekannt.
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Im
ersten Ausführungsbeispiel
wurde ein Maskeninspektionsmikroskop beschrieben, welches in Transmission
arbeitet. In einem weiteren in den Zeichnungen nicht dargestellten
Ausführungsbeispiel arbeitet
das Maskeninspektionsmikroskop in Reflexion. Hier wird das Retikel 145 von
der Seite der Struktur 150 beleuchtet. Das Retikel liegt
also genau mit der gegenüberliegenden
Seite auf dem Maskenhalter 140. Das an der Struktur 150 reflektierte
Licht wird in bekannter Weise durch einen Strahlteiler aus dem Beleuchtungsstrahlengang 3 ausgekoppelt
und verläuft
weiter, wie in 3 dargestellt bis zur Abbildung auf
einem Detektor 200.
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In
einem zweiten Ausgestaltung der Erfindung ist der Beleuchtungsstrahlengang 3 über einen polarisationsunabhängigen Strahlteiler 85 in
einen ersten Beleuchtungsstrahlengang 87 und einen zweiten
Beleuchtungsstrahlengang 88 aufgeteilt, wie in 2 dargestellt.
Die Beleuchtungsstrahlengänge 87 und 88 werden über einen
weiteren polarisationsunabhängigen
Strahlteiler 95 wieder zu Beleuchtungsstrahlengang 3 vereint.
Die Spiegel 90 und 91 lenken das Projektionslicht
in die notwendigen Richtungen. Strahlblocker 96 nimmt den
nicht verwertbaren Anteil des Projektionslichts aus Strahlteiler 95 auf.
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Der
erste Beleuchtungsstrahlengang 87 ist analog zu dem Beleuchtungsstrahlengang 3 des
ersten Ausführungsbeispiels
aufgebaut. Gleiche Elemente der entsprechenden Abschnitte tragen
gleiche Bezugszeichen. Er besteht aus Shutter 15, Abschwächer 25,
erste Blendenplatte 45, Zoomobjektiv 55, weitere
Blendenplatte 65 und Zoomobjektiv 75. Zusätzlich ist
ein Ablenkspiegel 90 so angeordnet, dass das Projektionslicht
auf den polarisationsunabhängigen
Strahlteiler 95 gelenkt wird.
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Auch
der zweite Beleuchtungsstrahlengang 87 ist analog zu dem
Beleuchtungsstrahlengangs 3 des ersten Ausführungsbeispiels
aufgebaut. Gleiche Elemente der entsprechenden Abschnitte tragen gleiche
Bezugszeichen, die mit „a” ergänzt sind.
Er besteht aus Shutter 15a, Abschwächer 25a, erste Blendenplatte 45a,
Zoomobjektiv 55a, weitere Blendenplatte 65a und
Zoomobjektiv 75a und den jeweiligen Antrieben 20, 30, 50, 70, 80, 20a, 30a, 50a, 70a, 80a.
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Die
Zoomobjektive können
wie im ersten Ausführungsbeispiel
beschrieben durch Objektive mit festem Abbildungsmaßstab ersetzt
werden.
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In
jeden der zwei Beleuchtungsstrahlengänge 87, 88 wird
im Bereich zwischen den polarisationsunabhängigen Strahlteilern 85 und 95 eine λ/2-Platte 35/35a je
nach Bedarf eingebracht, um unerwünschte Polarisationen des Projektionslichts,
die durch Reflexion des Projektionslichts an den Strahlteiler 85 und 95 entstehen,
zu eliminieren.
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In
einem weiteren Ausführungsbeispiel
werden gezielt X/Y-polarisierende Strahlteilern 85 und 95 eingesetzt,
die λ/2-Platten 35/35a entfallen
dann. So wird durch den Strahlteiler 85 im Beleuchtungsstrahlengang 87 X-polarisiertes
und im Beleuchtungsstrahlengang 88 Y-polarisiertes Licht (oder umgekehrt)
bereitgestellt. Durch den entsprechend ausgerichteten X/Y-polarisierenden
Strahlteiler 95 werden die Beleuchtungsstrahlengänge dann
nahezu verlustfrei wieder vereint, die jeweiligen Polarisationen bleiben
erhalten. Der Strahlblocker 96 entfällt hier.
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Der
weitere Verlauf des Beleuchtungsstrahlengangs 3 ist, wie
in 3 dargestellt, identisch zu dem im ersten Ausführungsbeispiel
beschriebenen.
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Alle
Antriebe 20, 30, 50, 60, 70, 80, 20a, 30a, 50a, 60a, 70a, 80a, 115, 125, 142, 182, 190, 185 und der
Detektor 200 sind, wie im ersten Ausführungsbeispiel, mit einer Datenverarbeitungsanlage 210 mit Ein-
und Ausgabeeinheit 215 verbunden.
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In
einem weiteren nicht dargestellten Ausführungsbeispiel sind in jedem
Beleuchtungsstrahlengang 87, 88 zwei Polarisatoren 110 und 120 zur
linearen bzw. tangentialen Polarisation des Projektionslichts mit
den Antrieben 115 und 125 angeordnet. Strahlteiler 95 ist
dann zur Vereinigung der Beleuchtungsstrahlengänge 87, 88 nach
diesen Polarisatoren 110, 120 angeordnet.
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Alle
Blendenplatten 45, 45a, 65, 65a haben eine
größere Öffnung 44,
die nicht mehr als Blende wirkt. Diese ist vorteilhaft, wenn die
entsprechende Blendenplatte nicht genutzt werden soll, da sie nicht auszubauen
ist. So sind spezielle Blenden für
Beleuchtungseinstellungen, z. B. 48, 49 vorgesehen, die
nur auf umständliche
Weise aus mehreren Blenden zusammengesetzt werden können.
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Die
Blendenplatten 45, 65 des ersten Beleuchtungsstrahlengangs 87 können identisch
zu jenen des ersten Ausführungsbeispiels
sein. Die so erhaltenen Beleuchtungseinstellungen können nun durch
die Blenden der Blendenplatten 45a, 65a des zweiten
Beleuchtungsstrahlengangs 88 weiter verändert werden.
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Werden
in den beiden Beleuchtungsstrahlengängen 87, 88 um
90° um die
optische Achse 1 gegeneinander verdrehte Disare, wie im
ersten Ausführungsbeispiel
beschrieben, eingestellt, so ist die resultierenden Intensitätsverteilung
der Pupillenebene ein Quasar. Es kann auch durch die um 90° um die optische
Achse 1 gegeneinander verdrehten Dipole 54 und 54a auf
den parallelen Blendenplatten 45 und 45a ein Quadrupol
eingestellt werden. Durch die Abschwächer 25, 25a können dann
die Intensitäten
der gegenüberliegenden
Pole des Quasars bzw. Quadrupols eingestellt werden.
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Wird
im ersten Beleuchtungsstrahlengang 87, wie im ersten Ausführungsbeispiel
beschrieben, ein Quasar eingestellt, so kann z. B. durch den zweiten
Beleuchtungsstrahlengang 88 zusätzlich der mittlere Bereich
zirkular ausgeleuchtet werden.
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Der
Gradient der resultierenden Intensitätsverteilung der Pupillenebene
kann erniedrigt werden, wenn im zweiten Beleuchtungsstrahlengang 88 die gleiche
Form der Beleuchtungseinstellung wie im ersten Beleuchtungsstrahlengang 87,
jedoch in unterschiedlicher Ausdehnung, eingestellt wird. Hierfür sind auf
den parallel eingesetzten Blendenplatten 45 und 45a bzw. 65 und 65a Blenden
in entsprechend unterschiedlicher Ausdehnung vorgesehen. So sind beispielsweise
auf den Blendenplatten 45 und 45a zwei Quadrupole 46, 46a vorgesehen.
Die Lage der Mittelpunkte der Pole ist identisch, der Durchmesser der
Pole unterscheidet sich geringfügig.
Die resultierende Intensitätsverteilung
führt im
Bereich der Überlagerung
beider Blenden zu einer höheren
Intensität als
im Randbereich der Pole, der nur von einer Blende abgedeckt wird.
Die Intensitätsverteilung
der überlagerten
Quadrupole kann durch die Abschwächer 25, 25a variiert
werden.
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Durch
die Shutter 15, 15a können die Beleuchtungsstrahlengänge 87, 88 auch
vollständig ausgeblendet
werden.
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Auch
zur Justage der Blenden aus einem der Beleuchtungsstrahlengänge 87, 88 kann
der jeweils andere durch einen der Shutter 15, 15a ausgeblendet werden.
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In
einem weiteren in den Zeichnungen nicht dargestellten Ausführungsbeispiel,
sind zwei Blendenplatten (45, 65) in einer Pupillenebene
angeordnet. Die Blendenplatten sind gegeneinander beweglich und
können
so durch einen Antrieb sowohl senkrecht zum Beleuchtungsstrahlengang
als auch gegeneinander bewegt werden. Somit können die einzelnen auf den
Blendenplatten (45, 65) angeordneten Blenden in
beliebeigen Kombinationen durch entsprechende Antriebe in den Beleuchtungsstrahlengang
eingebracht werden. Die Ausgestaltung der Blendenplatten (45, 65)
und deren Kombinationsmöglichkeiten
entsprechen jenen des ersten Ausführungsbeispiels.
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Beim
Einsetzten einer Blendenplatte in das Maskeninspektionsmikroskop
wird in der Datenverarbeitungsanlage 210 die Position der
Blendenplatte 45, 45a, 65, 65a innerhalb
des Beleuchtungsstrahlengangs 3, 87, 88 abgespeichert.
Für jede
der Blendenplatten 45 und 45a bzw. 65 und 65a wird
von der Datenverarbeitungsanlage 210 je ein Datensatz mit Informationen über Position
und Eigenschaften der Blenden dieser Blendenplatte 45, 45a, 65, 65a eingelesen.
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Zur
Festlegung der Position einer Blende sind die Koordinaten der Mittelpunkte
der einzelnen Blenden ausgehend von einem Referenzpunkt auf der
Blendenplatte 45, 65, 45a, 65a angegeben.
Zudem sind die äußeren und
inneren Kohärenzgrade bzw.
die Öffnungswinkel
bzw. Lagen und Durchmesser von Polen der Blenden angegeben. Auch
die vollständige
Form und eine grafische Darstellung jeder Blende ist gegeben.
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Durch
die Datenverarbeitungsanlage 210 können gezielt Blenden einer
Blendenplatte 45, 45a, 65, 65a ausgewählt und
durch Bewegung der jeweiligen Blendenplatte 45, 65, 45a in den
Beleuchtungsstrahlengangs 3, 87, 88 eingebracht
werden. Auf diese Weise können
beliebige Blendenkombinationen ausgewählt und eingestellt werden.
Auch die Abbildungsmaßstäbe der Zoomobjektive 55, 75 und
ggf. 55a und 75a, sowie die Lagen der Polarisatoren 110 und 120 und
Abschwächer 25, 25a werden über die Datenverarbeitungsanlage 210 eingestellt.
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Durch
die Datenverarbeitungsanlage 210 werden nun die aus der
Kombination der unterschiedlichen Blenden resultierenden Beleuchtungseinstellungen
ermittelt. Ob die Blendenplatten 45, 65, 45a sequentiell
oder parallel kombiniert werden, ist durch die beim Einsetzten der
Blendenplatten vorgegebene Positionen im Maskeninspektionsmikroskop bestimmt.
Die resultierenden Intensitätsverteilungen werden
grafisch dargestellt, die o. g. Parameter zu deren Charakterisierung,
wie z. B. innere und äußere Kohärenz, werden
angegeben. Die Beiträge
der einzelnen Blenden werden in unterschiedlichen Farben dargestellt.
Vom Anwender sind die möglichen
Abbildungsmaßstäbe durch
die Zoomobjektive 55, 75 und ggf. 55a und 75a vorzugeben.
Es werden dann die Kombinationen bei maximaler und minimaler Einstellung
der Abbildungsmaßstäbe dargestellt
oder es können
vom Anwender feste Abbildungsmaßstäbe vorgegeben
werden.
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Der
Anwender kann nun über
die Ein- und Ausgabeeinheit 215 eine der möglichen
Beleuchtungseinstellungen auswählen.
Zudem gibt er über die
Ein- und Ausgabeeinheit 215 die gewünschten Einstellungen der Polarisatoren
und Abschwächer ein.
Dann werden von der Datenverarbeitungsanlage 215 über die
Antriebe 20, 30, 50, 70, 80, 20a, 30a, 50a, 70a, 80a, 115 die
Shutter 15, 15a, Abschwächer 25, 25a,
Blendenplatten 45, 65, 45a und Polarisatoren 110, 120 derart
eingestellt, dass die gewünschte Beleuchtungseinstellung
resultiert.