DE102008043634A1 - Verdampfer für organische Materialien sowie Beschichtungsanlage zur Herstellung organischer Leuchtdioden und/oder organischer Solarzellen - Google Patents

Verdampfer für organische Materialien sowie Beschichtungsanlage zur Herstellung organischer Leuchtdioden und/oder organischer Solarzellen Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft einen Verdampfer (1) zum Verdampfen organischer Materialien im Vakuum zur Herstellung von großflächigen Beschichtungen, insbesondere bei der Herstellung organischer Leuchtdioden oder organischer Solarzellen und/oder organischer Eleketronik, umfassend einen Verdampfungsbehälter (3) mit einer Austrittsöffnung (5) für verdampftes organisches Material und mindestens eine Wärmequelle zum Erwärmen des organischen Materials. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Wärmequelle ein außerhalb des Verdampfungsbehälters (3) angeordneter, den Verdampfungsbehälter (3) von außen, ausschließlich durch Wärmestrahlung erhitzender Strahler (6) ist. Ferner betrifft die Erfindung eine Beschichtungsanlage.

Description

  • Stand der Technik
  • Die Erfindung betrifft einen Verdampfer zum Verdampfen organischer Materialien im Vakuum zur Herstellung von großflächigen Beschichtungen, insbesondere bei der Herstellung organischer Leuchtdioden und/oder organischer Solarzellen gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1, eine Beschichtungsanlage gemäß Anspruch 12 sowie die Verwendung eines Verdampfers und/oder einer Beschichtungsanlage gemäß Anspruch 13.
  • Bei der Herstellung von OLEDs (organische, Licht emittierende Dioden) und organischen Solarzellen werden für die Abscheidung von aktiven organischen Schichten sowie von Transportschichten im Vakuum überwiegend thermische Verdampfer eingesetzt. Die organischen Materialien können im Vakuum je nach verwendetem Ausgangsstoff in einem Temperaturbereich zwischen etwa 100°C und etwa 700°C verdampft werden. Zum Einsatz kommen dabei überwiegend punktförmige Verdampferquellen, bei denen das in einem Tiegel verdampfte Material in geheizten Röhren, die vorwiegend aus Keramik oder Glas bestehen, mit oder ohne zusätzliche Inertgasströmung auf eine größere Fläche verteilt wird. Für eine großflächige, homogene Verteilung des organischen Materials ergibt sich dadurch eine große Distanz zwischen dem Verdampfungstiegel und dem zu beschichtenden Substrat. Bei den bekannten Verdampfern muss die Temperatur der den Dampf führenden Rohrleitungen höher sein als die Temperatur des Verdampfers, um zu verhindern, dass sich das verdampfte Material schon in den Rohrleitungen abscheidet. Daher muss bei bekannten Verdampfern, um noch akzeptable Beschichtungsraten zu erzielen, die Verdampfungstemperatur der organischen Materialien bewusst deutlich überschritten werden, in der Regel um mehr als 50°C. Schon eine geringe Überschreitung der Verdampfungstemperatur kann jedoch bei vielen für die Herstellung von OLEDs oder organischen Solarzellen relevanten organischen Materialien zur Schädigung der Molekülstruktur führen, was in einer geringen Effizienz der erzeugten Bauteile resultiert.
  • Ein weiterer Nachteil bekannter Verdampfer ist die relativ lange Aufheizdauer bis die einzelnen Komponenten des Verdampfersystems ihre notwendige Temperatur erreichen, die für den Beschichtungszeitraum in einem engen Temperaturfenster konstant gehalten werden muss. Die Aufheizzeit bekannter Verdampfer zum Verdampfen organischer Materialien beträgt bis zu mehrere Stunden. Bekannte Verdampfer arbeiten vorwiegend mit Widerstandsheizungen, über die die keramischen oder aus Quarzglas bestehenden Verdampfungsbehälter, die sich in unmittelbarem mechanischen Kontakt zu den Widerstandsheizungen befinden, aufgeheizt werden.
  • Auf dem fachfremden Gebiet der Keramik-Verdampfungstechnologie ist es bekannt, linienförmige Verdampfer einzusetzen, in deren Verdampfungsbehälter zwei symmetrisch in unmittelbarem Kontakt zu dem Verdampfungsgut stehende Heizstäbe angeordnet sind. Ein derartiger Verdampfer ist in der DE 42 04 938 C1 beschrieben. Der bekannte Verdampfer eignet sich zum Verdampfen von hochschmelzenden Gläsern und/oder keramischen Materialien, wie SiO oder SiO2. Aufgrund der bei dem Verdampfungsprozess auftretenden, hohen Temperaturen, von teilweise bis zu 2500°C eignet sich der bekannte Verdampfer nicht zur Verwendung bei der Herstellung von OLEDs und/oder organischen Solarzellen, da das zu verdampfende organische Material aufgrund der hohen Temperatureinwirkung zerstört werden würde. Darüber hinaus ist die Aufheizzeit der Heizstäbe bei dem bekannten Verdampfer deutlich zu lang und die Regelbarkeit, aufgrund der Trägheit der Heizstäbe zu groß.
  • Offenbarung der Erfindung
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Verdampfer für organische Materialen mit verkürzter Aufheizzeit und guter temperaturgenauer Regelbarkeit vorzuschlagen. Bevorzugt sollen hohe Abscheideraten bei moderaten Verdampfungs-Temperaturen erzielbar sein. Bevorzugt soll der Verdampfer zur Herstellung großflächiger Beschichtungen bei der Herstellung organischer Leuchtdi oden und/oder organischer Solarzellen und/oder organischer Elektronik (Schaltungen) geeignet sein. Ferner besteht die Aufgabe darin, eine Beschichtungsanlage mit einem entsprechend verbesserten Verdampfer anzugeben.
  • Diese Aufgabe wird hinsichtlich des Verdampfers mit den Merkmalen des Anspruchs 1 und hinsichtlich der Beschichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 12 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben. In den Rahmen der Erfindung fallen sämtliche Kombinationen aus zumindest zwei von in der Beschreibung, den Ansprüchen und/oder den Figuren offenbarten Merkmalen.
  • Der Erfindung liegt der Gedanke zugrunde, einen gut regelbaren, d. h. eine geringe Trägheit aufweisenden, Verdampfer dadurch bereitzustellen, dass der Verdampfungsbehälter, der zur Aufnahme von organischen Materialien ausgelegt ist, ausschließlich durch Wärmestrahlung von außen erhitzt wird. Anders ausgedrückt wird außerhalb des Verdampfungsbehälters des Verdampfers mindestens ein Wärmestrahler im Vakuum angeordnet, der den Verdampfungsbehälter ausschließlich durch Wärmestrahlung, also nicht durch Konvektionserscheinungen und/oder Wärmeleitung aufgrund eines physischen Kontaktes erwärmt. Ein nach dem Konzept der Erfindung ausgebildeter Verdampfer ist nicht nur im Hinblick auf die Temperatur des zu verdampfenden organischen Materials gut regelbar, sondern es können auch kurze Aufheizzeiten von weniger als zehn Minuten bei einer sehr gleichmäßigen Wärmeverteilung realisiert werden.
  • Besonders gute Ergebnisse, im Hinblick auf die Erwärmungsgeschwindigkeit und die Regelbarkeit der Temperatur des Verdampfungsbehälters bzw. des zu verdampfenden organischen Materials, können durch den Einsatz mindestens eines Quarzstrahlers, insbesondere mindestens eines Doppelrohrquarzstrahlers erzielt werden.
  • Bevorzugt ist eine Ausführungsform, bei der der Verdampfungsbehälter dünnwandig ist. Besonders bevorzugt beträgt die Wandstärke des Verdampfungsbehälters weniger als 3 mm, um somit die Aufheizzeit weiter zu verkürzen und den Verdampfer, aufgrund der resultierenden, geringeren Wärmekapazität und der daraus folgenden geringeren Trägheit sehr exakt in engen Temperaturgrenzen regeln zu können. Mit Vorteil ist der Verdampfungsbehälter aus Metall ausgebil det, was bedingt durch die gute Wärmeleitfähigkeit des Metalls sehr schnell zu einer guten Wärmeverteilung führt.
  • Um großflächige Beschichtungen aus organischem Material möglichst gleichmäßig herstellen zu können, ist eine Ausführungsform des Verdampfers bevorzugt, bei der der Verdampfungsbehälter und/oder die Austrittsöffnung, durch die dampfförmiges organisches Material in Richtung des zu beschichtenden Substrates austritt, langgestreckt ist. Bevorzugt hat die Austrittsöffnung hierzu eine lineare Ausdehnung. Mit Vorteil entspricht die Längserstreckung der Austrittsöffnung dabei, zumindest näherungsweise, der Breitenerstreckung des relativ zu der Austrittsöffnung bewegten, zu beschichtenden Substrates. Ganz besonders bevorzugt ist eine Ausführungsform, bei der die Austrittsöffnung derart angeordnet ist, dass das verdampfte organische Material auf direktem Weg, also ohne Richtungsänderung, von der Austrittsöffnung zu dem zu beschichtenden Substrat gelangen kann. Dabei ist der Abstand zwischen der linienförmigen Austrittsöffnung und dem zu beschichtenden Substrat bevorzugt gering.
  • Wichtig ist es, mit einem linear ausgedehnten Verdampfer über die gesamte Länge einen sehr homogenen, gleichmäßigen Dampfstrom zu erzeugen. Nur so kann über die gesamte Breite des zu beschichtenden Substrats eine konstante Schichtdicke erreicht werden. Dafür ist eine gute, homogene Temperaturverteilung notwendig, aber meist nicht ausreichend. Die zu verdampfenden organischen Materialien sind in der Regel pulverförmig und bleiben selbst bei Verdampfungstemperatur in diesem Zustand. Typischerweise ist solch ein Pulver nach dem Einfüllen in das Verdampferrohr nicht exakt gleichmäßig verteilt, dadurch würde sich auch bei über die Länge gleicher Temperatur ein ungleichmäßiger Dampfstrom ergeben, wenn das Rohr im Extremfall in seiner vollen Breite geöffnet wäre. Durch die Drosselstelle bildet sich nun im Verdampferrohr ein etwa höherer, über die Länge gleichmäßiger Dampfdruck des Materials aus. Dadurch wird gewährleistet, dass durch den Schlitz über die gesamte Länge der gleiche Dampfstrom austritt. Ein enger Schlitz bedeutet somit einen sehr homogenen, aber geringen Dampfstrom. Für eine wirtschaftliche Beschichtung ist aber ein möglichst hoher Dampfstrom gewünscht. Die Schlitzbreite wird also nur so eng ausgelegt, dass die geforderte Homogenität sicher eingehalten wird. Zusätzlich kann über die Variation (Anpassung) der Schlitzbreite über die Länge ein gewünschtes Beschichtungsprofil eingestellt werden. Der Schlitz kann auch durch ein Lochraster ersetzt werden, dies kann bei einer sehr langen Ausdehnung des Verdampfers aus Stabilitätsgründen oder der einfacheren Herstellbarkeit sinnvoll sein.
  • Durch die Realisierung einer langgestreckten Ausdehnung des Verdampfungsbehälters ist dieser auf einfache Weise, bis in den Meterbereich, skalierbar. Bedingt durch die lineare Ausdehnung des Verdampfers ergibt sich ein direkter Beschichtungsweg mit einer geringen Distanz zwischen Verdampfer und dem großflächigen Substrat, wodurch das zu verdampfende Material bei Temperaturen, die nur knapp über dem Verdampfungspunkt (je nach Material zwischen etwa 100°C und etwa 700°C) liegen, aufgedampft werden kann, bei gleichzeitig höheren Beschichtungsraten. Somit können auch erstmals Materialen mit guter Aufdampfrate verdampft werden, deren Zersetzungstemperatur nur unwesentlich über der Verdampfungstemperatur liegt.
  • Idealerweise handelt es sich bei dem Verdampfungsbehälter um ein, insbesondere quer zur Substratbewegungsrichtung orientiertes, Rohr, vorzugsweise mit kreisrundem Querschnitt. Ganz besonders bevorzugt ist das dünnwandige Rohr aus Metall ausgebildet und in Richtung seiner Längserstreckung geschlitzt, vorzugsweise auf der dem Substrat zugewandten Oberseite des Rohres. Der Längsschlitz des Rohres bildet dabei bevorzugt die Austrittsöffnung, durch die verdampftes organisches Material auf direktem Weg zum beschichtenden Substrat strömen kann. Die schlitzförmige Austrittsöffnung hat bevorzugt eine geringe Breite bezogen auf den Rohrdurchmesser. Sie bildet dadurch eine Drosselstelle, die bei geeigneter Auslegung eine sehr homogene Verteilung des Dampfstroms über die gesamte Länge des Verdampfers erzeugt, selbst bei einer ungleichmäßigen Verteilung des Aufdampfmaterials im Verdampfungsrohr. Durch den anpassbaren Durchmesser und die Längenausdehnung des, vorzugsweise aus Metall ausgebildeten, Rohres kann ein großes Vorratsvolumen von zu verdampfendem organischen Material erhalten werden, so dass bei einer Verwendung des Verdampfers in Inline-Beschichtungsanlagen eine sehr lange Betriebszeit bis zum notwendigen Nachfüllen (Wartungszyklus) erreicht wird.
  • In Weiterbildung der Erfindung ist mit Vorteil vorgesehen, dass nicht nur ein einziger (Wärme-)Strahler vorgesehen ist, sondern mehrere, um den Verdampfungsbehälter verteilt angeordnete Strahler, wobei die Position und die Anzahl der Strahler so gewählt ist, dass eine möglichst homogene Erwärmung des Verdampfungsbehälters und damit eine homogene Erwärmung des zu verdampfenden, organischen Materials sichergestellt ist. Bevorzugt weist der Strahler eine größere Längenerstreckung auf als der Verdampfungsbehälter, um an den Enden des Verdampfungsbehälters einen Temperaturabfall zu verhindern.
  • Ganz besonders bevorzugt ist es, wenn die Austrittsöffnung, des vorzugsweise metallischen Verdampfungsbehälters in einen Austrittskanal mündet, der vorzugsweise trichterförmig ausgeformt ist, also sich in Richtung hin zu dem zu beschichtenden Substrat verbreitert. Der Austrittskanal dient dabei zur Führung des organischen Materialdampfes hin zu dem zu beschichtenden Substrat und schützt andere Bauelemente des Verdampfers vor parasitärer Beschichtung. Bevorzugt ist der Austrittskanal vertikal angeordnet und ermöglicht einen linearen Durchtritt für verdampftes, organisches Material.
  • Um eine parasitäre Beschichtung von Bauteilen des Verdampfers mit organischem Material weitgehend zu vermeiden, ist in Weiterbildung der Erfindung mit Vorteil vorgesehen, dass die Temperatur der Wandung des Austrittskanals leicht über der Temperatur des Verdampfungsrohres gehalten wird, so dass ein Absetzen von organischem Material auf der Austrittskanalwandung vermieden werden kann. Aufgrund des kurzen, von dem verdampften organischen Material zurückzulegenden Weges bis zum Erreichen des Substrates reicht eine über der Verdampfungstemperatur liegende Temperatur der Austrittskanalwandung aus. Bevorzugt ist die Wandung des Austrittskanals weniger als 20°C, ganz besonders bevorzugt weniger als 10°C wärmer als die Verdampfungsbehältertemperatur.
  • Wie eingangs bereits angedeutet, ist es bevorzugt, wenn dem mindestens einen Strahler eine Temperaturregeleinrichtung zugeordnet ist, die die Wärmeabstrahlung des Strahlers regelt. Um eine Ist-Temperatur im Bereich des Verdampfungsbehälters, vorzugsweise unmittelbar des Verdampfungsbehälters zu erhalten, sind mit Vorteil Sensormittel vorgesehen, die signalleitend mit der Temperaturregeleinrichtung verbunden sind. Als Sensormittel können beispielsweise Thermoelemente oder Temperaturwiderstände, beispielsweise PT100 eingesetzt werden.
  • Bevorzugt ist die Temperaturregeleinrichtung derart ausgebildet, dass diese die Temperatur des Verdampfungsbehälters derart regelt, dass sich die Temperatur des Verdampfungsbehälters nur geringfügig über der Verdampfungstemperatur des organischen Materials befindet, insbesondere in einem Temperaturbereich zwischen 100°C und etwa 700°C.
  • Um eine unzulässige Erwärmung der Umgebung des Verdampfers zu vermeiden, ist in Weiterbildung der Erfindung mit Vorteil vorgesehen, dass die Strahler, vorzugsweise zusammen mit dem Verdampfungsbehälter, in einem kühlbaren Gehäuse angeordnet sind. Bevorzugt ist dem Gehäuse eine Wasserkühlung zugeordnet, um für einen ausreichenden Wärmeabtransport zu sorgen.
  • Die Erfindung führt auch auf eine Beschichtungsanlage, die insbesondere zur Inline-Beschichtung von großflächigem Substrat bei der Herstellung organischer Leuchtdioden und/oder organischer Solarzellen und/oder organischer Schaltungen einsetzbar ist. Wesentlich ist, dass eine Relativbewegung zwischen Substrat und Verdampfer realisiert ist, wobei es besonders bevorzugt ist, wenn der Verdampfer ortsfest angeordnet und das Substrat relativ zu dem feststehenden Verdampfer bewegbar ist. Ganz besonders bevorzugt erstreckt sich die, insbesondere schlitzförmige, Austrittsöffnung des Verdampfungsbehälters des Verdampfers quer zur Bewegungsrichtung des Substrates. Alternativ können auch mehrere Austrittsdüsen in Reihe vorgesehen werden, oder eine speziell an das gewünschte Beschichtungsprofil angepasste Austrittsöffnung. Durch den Einsatz eines nach dem Konzept der Erfindung ausgebildeten Verdampfers kann eine optimale, gleichmäßige flächenhafte Beschichtung durch eine lineare Bewegung des Substrates über dem Verdampfer realisiert werden. Dabei wird das Substrat bevorzugt von Rolle zu Rolle transportiert bzw. bewegt. Die Längserstreckung des Verdampfers (quer zur Bewegungsrichtung des Substrates) kann bevorzugt an die zu beschichtende Substratbreite angepasst werden, so dass eine homogene Beschichtung über die gesamte Substratbreite gewährleistet ist. Bei einer konstanten Beschichtungsrate des Verdampfers wird die Schichtdicke mit Vorteil über die Linearbewegungsgeschwindigkeit des Substrates eingestellt.
  • Darüber hinaus führt die Erfindung auf die Verwendung eines zuvor beschriebenen Verdampfers bei der Herstellung von organischen Leuchtdioden und/oder organischen Solarzellen und/oder auf eine Verwendung einer zuvor beschriebe nen Beschichtungsanlage zum Herstellen der organischen Leuchtdioden und/oder organischen Solarzellen und/oder organischen Elektronik, insbesondere einer Schaltung.
  • Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele sowie anhand der Zeichnung. Diese zeigt in der einzigen:
  • 1: eine perspektivische, teilgeschnittene Darstellung eines Verdampfers zum Verdampfen von organischem Material.
  • In 1 ist ein Verdampfer 1 zum Verdampfen aktiver organischer Substrate in einem OLED- oder Solarzellenherstellungsprozess oder in einem Prozess zur Herstellung organischer Elektronik gezeigt. Der Verdampfer 1 umfasst ein wassergekühltes Gehäuse 2, in dem ein rohrförmiger Verdampfungsbehälter 3 aufgenommen ist. Der Verdampfungsbehälter 3 erstreckt sich quer zu einer Substratbewegungsrichtung 4 von nicht dargestelltem, zu beschichtendem Substrat.
  • Bei dem Verdampfungsbehälter 3 handelt es sich um ein Metallrohr mit einer sehr geringen Wandstärke, wobei der Verdampfungsbehälter 3 an seiner dem Substrat zugewandten Oberseite längsgeschlitzt ist, so dass eine langgestreckte, linienförmige Austrittsöffnung 5 gebildet ist, durch die verdampftes organisches Material senkrecht zur Längserstreckung des Verdampfungsbehälters 3 sowie senkrecht zur Substratbewegungsrichtung 4 in Richtung Substrat ausströmen kann.
  • Rund um den Verdampfungsbehälter 3 sind insgesamt fünf als Doppelrohrquarzstrahler ausgebildete Strahler 6 angeordnet, die für eine gleichmäßige Erwärmung des Verdampfungsbehälters 3 Sorge tragen. Die Längserstreckung der Strahler 6 ist dabei größer als die Längserstreckung des Verdampfungsbehälters 3 um Temperaturabfälle im Bereich der Enden des rohrförmigen Verdampfungsbehälters 3 sicher zu verhindern.
  • Wie sich aus 1 ergibt, sind die Strahler 6 mit Abstand zu dem Verdampfungsbehälter 3 angeordnet. Der gesamte Verdampfer 1 ist im Vakuum angeord net, so dass die Wärmeübertragung von den Strahlern 6 auf den Verdampfungsbehälter 3 ausschließlich durch Wärmestrahlung erfolgt.
  • Aufgrund der Dünnwandigkeit des metallischen, rohrförmigen Verdampfungsbehälters 3 und aufgrund des Vorsehens von Strahlern 6 zur Erwärmung des Verdampfungsbehälters 3 ist eine gute Temperaturregelbarkeit des Verdampfers 1 gegeben. Den Strahlern 6 ist hierzu eine nicht gezeigte Temperaturregeleinrichtung zugeordnet, die mit ebenfalls nicht gezeigten, im Bereich des Verdampfungsbehälters 3, vorzugsweise unmittelbar auf dem Verdampfungsbehälter 3 angeordneten Sensormitteln, die zur Erfassung der Ist-Temperatur dienen, zusammenwirkt.
  • Wie sich weiter aus 1 ergibt, mündet die Austrittsöffnung 5 in den trichterförmigen Austrittskanal 7 aus, der wie die Austrittsöffnung 5 quer zur Substratbewegungsrichtung 4 langgestreckt ist und dessen Breitenerstreckung in Substratbewegungsrichtung 4 mit zunehmendem Abstand von der Austrittsöffnung 5 zunimmt. Die Wandung 8 des geradlinigen Austrittskanals 7 ist beheizbar, wobei die Temperatur der Wandung 8 ebenfalls mittels der erwähnten Temperaturregeleinrichtung geregelt wird und zwar auf eine Temperatur, die geringfügig über der Temperatur des Verdampfungsbehälters 3 liegt. Aufgrund der langgestreckten Ausdehnung des mit organischem Material gefüllten Verdampfungsbehälters 3 ist der Verdampfer 1 auf einfache Weise skalierbar. Das Aufnahmevolumen des Verdampfungsbehälters 3 kann auf einfache Weise durch eine Änderung des Durchmessers des hier im Querschnitt kreisförmig konturierten Verdampfungsbehälters 3 angepasst werden.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • - DE 4204938 C1 [0004]

Claims (13)

  1. Verdampfer zum Verdampfen organischer Materialen im Vakuum zur Herstellung von großflächigen Beschichtungen, insbesondere bei der Herstellung organischer Leuchtdioden oder organischer Solarzellen und/oder organischer Elektronik, umfassend einen Verdampfungsbehälter (3) mit einer Austrittsöffnung (5) für verdampftes organisches Material und mindestens eine Wärmequelle zum Erwärmen des organischen Materials, dadurch gekennzeichnet, dass die Wärmequelle ein außerhalb des Verdampfungsbehälters (3) angeordneter, den Verdampfungsbehälter (3) von außen, ausschließlich durch Wärmestrahlung erhitzender Strahler (6) ist.
  2. Verdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Strahler (6) ein Quarzstrahler, insbesondere ein Doppelrohrquarzstrahler, ist.
  3. Verdampfer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der, vorzugsweise metallische, Verdampfungsbehälter (3) dünnwandig ist.
  4. Verdampfer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Verdampfungsbehälter (3) und/oder die Austrittsöffnung (5) eine langgestreckte, insbesondere lineare, Ausdehnung aufweisen/aufweist.
  5. Verdampfer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Austrittsöffnung (5) als Drossel ausgebildet ist.
  6. Verdampfer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Verdampfungsbehälter (3) als, vorzugsweise längsgeschlitztes, insbesondere metallisches, Rohr ausgebildet ist.
  7. Verdampfer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine eine homogene Erwärmung des Verdampfungsbehälters (3) gewährleistende Anzahl und Anordnung von Strahlern (6) realisiert ist.
  8. Verdampfer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Austrittsöffnung (5) ein, insbesondere trichterförmiger, Austrittskanal (7) nachgeordnet ist, durch den das verdampfte organische Material unmittelbar auf ein relativ zu dem Austrittskanal (7) bewegtes, zu beschichtendes Substrat strömen kann.
  9. Verdampfer nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass eine Wandung (8) des Austrittkanals (7) beheizbar ist, vorzugsweise auf eine Temperatur, die geringfügig über einer Verdampfungstemperatur des organischen Materials liegt.
  10. Verdampfer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass Sensormittel zum Überwachen der Temperatur im Bereich des Verdampfungsbehälters (3) vorgesehen sind, die signalleitend mit einer Temperaturregeleinrichtung verbunden sind.
  11. Verdampfer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein, insbesondere mittels eines Fluids, vorzugsweise einer Flüssigkeit, kühlbares Gehäuse (2) vorgesehen ist.
  12. Beschichtungsanlage mit, insbesondere für die Inline-Beschichtung ausgebildeten, einem Verdampfer (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit Mittel zum Erzeugen einer Relativbewegung zwischen zu beschichtendem Substrat und dem Verdampfer (1).
  13. Verwendung eines Verdampfers (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 11 und/oder einer Beschichtungsanlage nach Anspruch 12 zum Verdampfen organischer Materialen im Vakuum zur Herstellung von großflächigen Beschichtungen bei der Herstellung organischer Leuchtdioden und/oder organischer Solarzellen.
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