DE102008002475A1 - Glaskeramik mit geprägter Oberfläche und Verfahren zu deren Herstellung - Google Patents

Glaskeramik mit geprägter Oberfläche und Verfahren zu deren Herstellung Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Glaskeramikerzeugnis, das aus einem Grünglaskörper keramisiert ist und eine geprägte Oberflächenstruktur aufweist. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Umformung eines Grünglaskörpers für die Herstellung einer Glaskeramik, bei dem der aus der Glasschmelze vorgeformte und bereits unter TKb abgekühlte Grünglaskörper mittels eines Gasinfrarot-Porenstrahlers in weniger als 30 Sekunden auf eine Oberflächentemperatur wiedererwärmt wird, bei der die Viskosität des Glases zwischen 106,6 und 109 Pa s beträgt, danach einem Umformungsschritt unterzogen und anschließend mit einer hohen Abkühlrate bis auf Tg oder darunter abgekühlt wird.

Description

  • Die Erfindung hat ein Verfahren zur Umformung, insbesondere zum Strukturieren, der Oberfläche eines Grünglaskörpers für die Herstellung einer Glaskeramik, ein Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit strukturierter Oberfläche und eine nach diesem Verfahren hergestellte Glaskeramik zum Gegenstand.
  • Die formgebende Gestaltung einer Glaskeramik ist allgemein bekannt. Unterschieden werden das Urformen aus der Schmelze und das gattungsgemäße Umformen. Bekannt sind Umformverfahren wie beispielsweise das Schwerkraftsenken, Drücken, Pressen oder Vakuumziehen zur Erzielung einer anwendungsspezifischen dreidimensionalen Formgestaltung der Glaskeramik.
  • Der Formgebungsprozess findet bekanntermaßen am Grünglas, also dem glasigen Vorprodukt der Glaskeramik statt.
  • Üblicherweise wird das Grünglas bei den bekannten Formgebungsverfahren auf eine maximale Temperaturen von etwa 1000°C im Glasinneren erhitzt, um eine ausreichende Viskosität zum Umformen zu erzielen. Dabei wird ein kritischer Temperaturbereich durchfahren, bei dem die Keimbildung einsetzt, welche jedoch in dem Bearbeitungsschritt des Umformens vermieden werden muss. Eine spontane Keimbildung würde andernfalls das Ergebnis der Keramisierung verschlechtern. Aus diesem Grund muss der kritische Temperaturbereich der Keimbildung (typischerweise 720 bis 850°C) so schnell wie möglich durchfahren werden.
  • Andererseits ist es für die dreidimensionale Formgebung notwendig, dass das Grünglas durchgewärmt wird. Die bekanntermaßen eingesetzten Gasinfrarotstrahlen werden bei einer Dauerbetriebstemperatur von etwa 1100 bis 1200°C betrieben. In diesem Bereich strahlen die Gasinfrarotstrahlen ihre überwiegende Energie in einem Wellenlängenbereich ab, der oberhalb der Absorptionskante der meisten Gläser (etwa 2,7 μm) liegt. Deshalb wird die überwiegende Strahlungsleistung der Strahler bereits auf der Glasoberfläche absorbiert. Daher werden solche Gasinfrarotstrahler auch Oberflächenheizung genannt. Sie sind jedoch nicht besonders dafür geeignet, eine so schnelle Durchwärmung des Glases zu erzielen, dass die mit einer Zeitverzögerung von 20 bis 40 Sekunden eintretende Keimbildung hinreichend unterbunden werden kann.
  • Hiervon ausgehend befassen sich beispielhaft die Druckschriften EP 1 171 391 B1 , EP 1 171 392 B1 und die DE 101 10 357 C2 mit Verfahren zur schnelleren Durchwärmung der Glaskeramik zum Zwecke der dreidimensionalen Umformung eines Grünglases. Es wird darin vorgeschlagen elektrische, kurzwellige Infrarotstrahler, deren Strahlungsmaximum bei einer Wellenlänge um 1,2 μm liegt, was einer Farbtemperatur von etwa 2400°K entspricht, zu verwenden. Hier lässt sich mit geeigneten Maßnahmen eine bis in tiefe Schichten transparenten Glases homogene Erwärmung erzielen.
  • Vorliegend soll jedoch insbesondere das Umformen eines Grünglaskörpers in dessen Oberflächenbereich angestrebt werden. Insbesondere soll es mit dem erfindungsgemäßen Verfahren möglich sein, die Oberfläche mit einer Struktur zu versehen. Hierbei ist nun gerade das Durcherwärmen des Glaskörpers nachteilig, da nicht hinreichend schnelle Abkühlraten erzielt werden, welche insbesondere feine Oberflächenstrukturen gewissermaßen „einfrieren”. Außerdem wird mittels der kurzwelligen Infrarotstrahler keine ausreichende Oberflächentemperatur aufgrund des Absorptionsverhaltens des Gases in dem kurzwelligen Spektralbereich erzielt. Während die Temperatur im Inneren des Glases bei dem Einsatz kurzwelliger elektrischer Infrarotstrahler auf 1000°C ansteigt, bleibt die Temperatur im Oberflächenbereich bei 900°C. Deshalb erscheint vorliegend der Rückgriff auf langwellige Gasinfrarot-Strahler erfolgversprechender.
  • Hierbei steht der Fachmann allerdings vor dem Problem, dass beim Wiedererwärmen mit den bekannten Gasinfrarotstrahlern keine ausreichend hohe Temperatur auf der Substratoberfläche in hinreichend kurzer Zeit erzielt werden kann, die einen Prägevorgang ermöglicht ohne dabei andererseits eine spontane Keimbildung auszulösen. Dies ist damit zu begründen, dass insbesondere zum Prägen feiner Strukturen eine sehr viel niedrigere Viskosität an der Oberfläche erzielt werden muss als zum großflächigen dreidimensionalen Umformen, wie beispielsweise Schwerkraftsenken, Vakuumziehen oder Drücken.
  • Der Vollständigkeit halber sei noch auf das Urformen des Grünglaskörpers „aus der Schmelze” eingegangen. Dieses bekannte Verfahren hat ebenfalls die genannten Nachteile einer zu langsamen Abkühlung des durcherwärmten Substrates. Darüber hinaus ist das Verfahren an den Wannenbetrieb gekoppelt und bietet deshalb oftmals keine ausreichende Flexibilität des Herstellungsprozesses.
  • Aus Sicht des Erzeugnisses, also der Glaskeramik, ist als Gestaltungsmöglichkeit der Oberfläche beispielsweise die Beschichtung oder die Lackierung der Glaskeramikoberfläche bekannt. Als Funktionalschicht können beispielsweise eine Spray-Beschichtung oder ein Lack mit einem Lotuseffekt oder eine Anti-Reflexbeschichtung aufgetragen werden. Die Anforderungen an eine aufgebrachte Funktionalschicht sind gerade bei einem Glaskeramiksubstrat erwartungsgemäß hoch, muss doch die Beschichtung denselben Anforderungen gewachsen sein wie das Substrat. So wird erwartet, dass auch die Beschichtung ähnliche mechanische und/oder thermische und/oder chemische Anforderungen erfüllt und dabei vergleichbare optische Eigenschaften aufweist. Bis jetzt sind aber keine Beschichtungssubstanzen bekannt, welche eine vergleichbare Härte, mechanische Stabilität, ein ähnliches Transmissionsverhalten insbesondere im sichtbaren und IR-Bereich und vor allem eine vergleichbare geringe thermische Ausdehnung aufweisen wie eine Glaskeramik. Aus dem letztgenannten Grund stellt bereits die Haltbarkeit der Verbindung zwischen dem Glaskeramiksubstrat und der Beschichtung ein Problem dar. Alle bekannten Beschichtungen stellen in der einen oder anderen Hinsicht daher stets nur Kompromiss dar.
  • Aufgabe der Erfindung ist es vor dem Hintergrund des bekannten Standes der Technik, ein Verfahren zur Umformung eines Grünglaskörpers für die Herstellung der Glaskeramik bereitzustellen, mit dem Oberflächenstrukturen, insbesondere feinste Oberflächenstrukturen auf der Substratoberfläche des Grünglaskörpers aufgebracht werden können. Aufgabe der Erfindung ist es ferner, eine Glaskeramik mit einer Oberflächenstruktur zu versehen, welche möglichst ähnliche mechanische, thermische, optische und chemische Eigenschaften aufweist wie das Glaskeramiksubstrat selbst.
  • Die Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren sieht vor, dass der aus der Glasschmelze vorgeformte und bereits unter die Keimbildungstemperatur TKb, bevorzugt bis 150 K über die Transformationstemperatur Tg oder darunter, abgekühlte Grünglaskörper mittels eines Gasinfrarot-Porenstrahlers auf eine Oberflächentemperatur wiedererwärmt wird, bei der die Viskosität des Glases zwischen 106,6 Pa s und 109 Pa s, vorzugsweise zwischen 107,5 Pa s und 108,5 Pa s, beträgt, danach einem Umformungsschritt unterzogen und anschließend mit einer hohen Abkühlrate höchstens bis zur Transformationstemperatur Tg abgekühlt wird.
  • Die benötigte rasche Aufwärmung des Glassubstrates ist mit dem erfindungsgemäß eingesetzten Gasinfrarot-Porenstrahler möglich, welcher bei vergleichsweise großer Wellenlänge eine sehr hohe Energiedichte erreicht. Damit ist ein Wiedererwärmen auf die geforderte Oberflächentemperatur vorzugsweise in weniger als 30 Sekunden möglich.
  • Die hohe Abkühlrate beträgt bevorzugt 8 bis 40 K/s und besonders bevorzugt 20 bis 40 K/s, um die umgeformte Oberfläche zu stabilisieren. Eine Abkühlung unterhalb Tg mit einer so hohen Abkühlrate ist allerdings nicht günstig, da sich hierbei unerwünschte Spannungen in dem Glas aufbauen. Dieser ersten Abkühlzeit folgt deshalb eine zweite Abkühlzeit mit wesentlich geringerer Abkühlrate. Diese liegt bevorzugt bei 14 K/Min oder weniger.
  • Bevorzugt umfasst der Umformungsschritt ein Glätten und/oder ein Druckumformen und besonders bevorzugt das Einprägen einer Struktur in die Oberfläche des Grünglaskörpers.
  • Gemäß einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird ein Prägewerkzeug mit einer strukturierten Kontaktfläche auf eine Betriebstemperatur von Tg ± 100 K vorgewärmt und beim Umformen mit der strukturierten Kontaktfläche auf die erwärmte Oberfläche aufgedrückt.
  • Es hat sich herausgestellt, dass bei einer Werkzeugtemperatur unterhalb Tg – 100 K die Wärme aus der Oberfläche des Grünglaskörpers aufgrund der hohen Temperaturdifferenz zu schnell abgeführt wird und der Prägevorgang nicht vollständig ausgeführt werden kann. Andererseits hat sich bei einer Werkzeugtemperatur oberhalb Tg + 100 K gezeigt, dass aufgrund der zu geringen Temperaturdifferenz nicht genügend Wärme beim Prägen über das Prägewerkzeug abgeführt wird und die Gefahr besteht, dass das Glas mit dem Werkzeug verklebt.
  • Besonders bevorzugt wird das Prägewerkzeug nach dem Aufdrücken auf die erwärmte Oberfläche beim Abkühlen zusammen mit dem Grünglaskörper abgekühlt.
  • Das geschieht bevorzugt höchstens bis zur Transformationstemperatur Tg, um besagte Spannungen in dem Glas zu vermeiden. Aufgrund der Abkühlung des Werkzeuges wird zugleich eine effektive Abkühlung der Glasoberfläche erreicht, die während des Abkühlens noch in vollflächigem Kontakt mit der Kontaktfläche des Werkzeuges steht. Vorzugsweise wird zeitgleich auch die Unterseite des Grünglaskörpers mit der gleichen Geschwindigkeit abgekühlt, um thermische Spannungen zu vermeiden.
  • Gemäß einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens strahlt der Gasinfrarot-Porenstrahler beim Wiedererwärmen mit einer Energiedichte von mehr als 200 kW/m2, vorzugsweise mehr als 1 MW/m2 und besonders bevorzugt mehr als 2 MW/m2 ab.
  • Insbesondere diese hohen Energiedichten ermöglichen eine extrem schnelle Erwärmung der Glasoberfläche bis zu den benötigten niedrigen Viskositäten des Glases.
  • Gerade für eine reine Oberflächenenwärmung ist es vorteilhaft, wenn der Gasinfrarot-Porenstrahler beim Wiedererwärmen mit einem Strahlungsleistungsmaximum bei einer Wellenlänge > 2 μm, vorzugsweise in einem Bereich von 2 bis 5 μm und besonders bevorzugt von 2 bis 3 μm betrieben wird.
  • In diesem Bereich ist die Absorption des Glases ausreichend hoch (die Absorptionskante des Glases liegt bei einer Wellenlänge von etwa 2,7 μm) und zugleich ist die Temperatur und Energiedichte des Gasinfrarot-Porenstrahlers ausreichend hoch, um die erforderlichen Oberflächentemperaturen zu erzielen, ohne das Glas auch in der Tiefe zu erwärmen. Die Tiefe der Absorption langwelliger IR-Strahlung in dem Glas liegt typischer Weise zwischen 50 μm und 100 μm. In diesem Oberflächenbereich wird die maximale Temperatur erreicht. Hierbei wird eine ausreichend tiefe Aufweichung des Glases an seiner Oberfläche erreicht, die insbesondere die angesprochene Prägeumformung gestattet.
  • Ein optimaler Einsatz des Gasinfrarot-Porenstrahlers sieht vor, dass dieser beim Wiedererwärmen einen Abstand von unter 5 cm, bevorzugt von 1 bis 3 cm von der Oberfläche des Grünglaskörpers eingesetzt wird.
  • Bei diesem Abstand und bei der bevorzugten Energiedichte von mehr als 200 kW/m2, insbesondere mehr als 1 MW/m2 ist eine Aufwärmung der Substratoberfläche in weniger als 30 Sekunden auf die erforderliche Oberflächentemperatur von ca. 1000 bis 1150°C möglich.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit einer strukturierten Oberfläche gemäß Patentanspruch 14 sieht vor, zunächst einen Grünglaskörper nach einem Verfahren gemäß der zuvor beschriebenen Art herzustellen und anschließend mit der strukturierten Oberfläche nach oben weisend zu keramisieren.
  • Auf diese Weise bleiben die Strukturen auf der Oberfläche bei einem Standardkeramisierungsprozess unverändert erhalten.
  • Die oben genannte Aufgabe wird ferner durch ein Glaskeramikerzeugnis mit den Merkmalen der Ansprüche 15 und 18 gelöst.
  • Das erfindungsgemäße Glaskeramikerzeugnis, welches aus einem Grünglaskörper hergestellt ist, der mittels des zuvor beschriebenen Verfahrens umgeformt wurde, weist erfindungsgemäß eine geprägte Oberflächenstruktur auf.
  • Eine gezielt geprägte Oberflächenstruktur war bislang nicht bekannt und deren Herstellung mit Standardumformverfahren nicht möglich. Zwar hat jede Glaskeramikoberfläche eine gewisse Struktur, die auch durch Prägen erzielt worden sein kann. Beispielsweise werden sichtbare Strukturen auch durch einen Walzenabzug aus der Schmelze erzeugt. Die Oberflächenstruktur des erfindungsgemäßen Glaskeramikerzeugnisses ist dem gegenüber eine regelmäßige Struktur mit bestimmten Abmessungen und definierten Formen.
  • Ein weiterer Unterschied besteht darin, dass sich etwaige Rauhigkeiten der Walzen oder anderweitige Strukturen, die in das Glas bei der Heißformgebung der Schmelze eingeprägt wurden, wegen der Rückerwärmung aus dem Glasinnern zu einem großen Teil verlaufen bzw. geglättet werden. Deswegen war es nicht möglich, mit den bekannten Verfahren „scharfe” Strukturen herzustellen.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren indes erlaubt es, „scharfe” Strukturen herzustellen. Hierunter sind insbesondere Strukturen mit Kantenprofilen von bis zu 88° zur Glasoberfläche zu verstehen, also fast senkrechte Strukturen. Ferner kann durch das erfindungsgemäße Verfahren ein Aspektverhältnis (Breite zu Tiefe) von 1:1 oder darunter erzielt werden. Eckenabrundungen, welche durch die Oberflächenspannung des Glases bedingt sind, können durch das erfindungsgemäße Verfahren bis auf 10%, in manchen Fällen bis zu 2% reduziert werden. Die Abmessungen der Strukturen, welche nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt werden können, sind im Einzelnen bis zu 5 Nanometer klein. Die Gesamtfläche, welche erfindungsgemäß in der Praxis auf einmal strukturiert werden kann, kann von einigen Quadratmillimetern bis zu einigen Quadratmetern reichen.
  • Die Strukturierung der Oberfläche hat gegenüber den bekannten Oberflächengestaltungen durch Beschichtung den Vorteil, dass das gesamte Erzeugnis aus demselben Glaskeramikmaterial besteht und deshalb keine unterschiedlichen Eigenschaften zwischen der Oberflächenschicht und der Glaskeramik als solche bestehen.
  • Die Oberflächenstruktur des erfindungsgemäßen Glaskeramikerzeugnisses ist bevorzugt eine geprägte Mikro-Nanostruktur und besonders bevorzugt ist die Oberflächenstruktur hydrophob bzw. superhydrophob.
  • Letztgenannte Oberfläche verwirklicht den so genannten Lotuseffekt, welcher durch eine geringe Benetzbarkeit der Oberfläche des Substrates gekennzeichnet ist. Oberflächen mit einer solchen Struktur werden aufgrund ihrer schlechten Benetzbarkeit auch als selbstreinigend bezeichnet oder sind zumindest sehr leicht zu reinigen.
  • Weitere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der Erfindung werden nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispiels mit Hilfe der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
  • 1 ein Temperatur-Zeit-Diagramm des erfindungsgemäßen Umformungsverfahrens und
  • 2 ein Schema des erfindungsgemäßen Umformungsschrittes.
  • In dem Temperatur-Zeit-Diagramm gemäß 1 ist gestrichelt der Temperaturverlauf an der Oberfläche des Grünglaskörpers und als durchgezogene Linie der Temperaturverlauf an der Oberfläche des Prägewerkzeugs beispielhaft zur Erzeugung einer strukturierten Oberfläche auf dem Grünglas für eine Lithium-Aluminium-Silikat(LAS)-Glaskeramik aufgetragen. Die Zeitmessung startet mit dem Beginn des Wiedererwärmens des Grünglases bei einer Temperatur von 500°C und damit deutlich unter der Keimbildungstemperatur TKb. Über eine Wiedererwärmungsperiode t1 von weniger als 30 Sekunden wird die Oberfläche des Grünglaskörpers auf eine Temperatur von etwa 1100°C mittels des zuvor beschriebenen Gasinfrarot-Porenstrahlers erhitzt. Bei dieser Temperatur besitzt die Oberfläche des Grünglaskörpers eine Viskosität von 106,6 Pa s oder weniger. Nach Erreichen der Temperatur wird das Glassubstrat mit dem Werkzeug in Berührung gebracht, welches zuvor auf eine Temperatur von etwa 670°C und damit auf eine Betriebstemperatur etwas oberhalb der Transformationstemperatur Tg vorgewärmt wurde. Zu diesem Zeitpunkt beginnt die Periode des Prägens und zugleich eine erste Abkühlzeit t2. Während des Prägens kühlt durch die Berührung der unterschiedlich temperierten Substratoberfläche und Werkzeugoberfläche nämlich zunächst die Substratoberfläche rasch um mehrere 10° ab während die Temperatur der Werkzeugoberfläche auf über 1000°C ansteigt. Hat sich ein Temperaturgleichgewicht eingestellt kühlt die Substratoberfläche zusammen mit dem Werkzeug aufgrund einer aktiven Kühlung desselben mit einer hohen Abkühlrate innerhalb der ersten Abkühlzeit von etwa 40 Sekunden auf ca. 700°C ab. Dies entspricht einer Abkühlrate von 10 K/s pro Sekunde an der Oberfläche des Grünglaskörpers. Nach der ersten Abkühlzeit schließt sich eine zweite Abkühlzeit t3 an, in welcher der Grünglaskörper (nunmehr ohne Kontakt zum Werkzeug) langsam, beginnend bei 700°C und damit deutlich oberhalb des Transformationspunktes, weiter abkühlt, um Spannungen zu vermeiden.
  • 2 zeigt in einer schematischen Darstellung den erfindungsgemäßen Prägevorgang in zwei Schritten. Gemäß Teilfigur 2A kommt zunächst jeweils ein Gasinfrarot-Porenstrahler (kurz: Porengasbrenner) 10 und 12 zum Einsatz, mit dem eine obere Oberfläche 14 eines Grünglassubstrates 16 und (zweckmäßigerweise aber nicht zwingend gleichzeitig) eine strukturierte Kontaktfläche 18 an der Unterseite eines Werkzeugs 20 erwärmt wird. Hierbei werden durch Abstandsregulierung und/oder Brenngaszufuhrregulierung unterschiedliche Temperaturen auf der Substratoberfläche 14 und der Kontaktfläche 18 eingestellt, vergleiche 1. Danach werden die Porengasbrenner 10 und 12 entfernt und das Werkzeug 20 wird in einem zweiten Schritt gemäß Teilfigur 2B auf die vorgewärmte Oberfläche 14 des Grünglasstrubtrats 16 aufgedrückt. Das Grünglassubtrat 16 liegt zum Zweck der Unterstützung auf einer Auflage 24 auf, die (aktiv oder passiv) einen entsprechenden Gegendruck zu dem Anpressdruck des Werkzeuges 20 liefert. Unmittelbar nach dem Zusammenpressen des Werkzeugs 20 mit dem Grünglassubstrat 16 beginnt die schnelle Abkühlung der Oberflächen, indem dem Werkzeug 20 mittels Kühlmedium in einem Kühlvolumen 22 innerhalb des Werkzeugs 20 Wärme entzogen wird. In gleicher Weise kann auch eine aktive Kühlung in der Auflage 24 zum gleichmäßigen Abkühlen des Grünglassubstrates 16 von beiden Seiten vorgesehen sein (nicht dargestellt).
  • In einem dritten Schritt (nicht dargestellt) werden das Werkzeug 20 und das Grünglassubstrat 16 in entgegengesetzter Richtung wieder auseinander gefahren. Das Grünglassubstrat 16 kühlt dann unabhängig von dem Werkzeug mit geringerer Abkühlrate von 14 K/Min oder weniger kontrolliert weiter ab.
  • 10
    Gasinfrarot-Porenstrahler
    12
    Gasinfrarot-Porenstrahler
    14
    Substratoberflächen
    16
    Grünglassubstrat/-Körper
    18
    strukturierte Kontakfläche
    20
    (Präge-)Werkzeug
    22
    Kühlvolumen
    24
    Auflage
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • - EP 1171391 B1 [0006]
    • - EP 1171392 B1 [0006]
    • - DE 10110357 C2 [0006]

Claims (18)

  1. Verfahren zur Umformung eines Grünglaskörpers (16) für die Herstellung einer Glaskeramik, bei dem der aus der Glasschmelze vorgeformte und bereits unter TKb abgekühlte Grünglaskörper (16) mittels eines Gasinfrarot-Porenstrahlers (10, 12) auf eine Oberflächentemperatur wiedererwärmt wird, bei der die Viskosität des Glases zwischen 106,6 und 109 Pa s beträgt, danach einem Umformungsschritt unterzogen und anschließend mit einer hohen Abkühlrate höchstens bis Tg abgekühlt wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Wiedererwärmen in weniger als 30 Sekunden erfolgt.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die hohe Abkühlrate 8 bis 40 K/s beträgt.
  4. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Grünglaskörper (16) vor dem Wiedererwärmen bis mindestens Tg + 150 K abgekühlt wird.
  5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Grünglaskörper (16) auf eine Oberflächentemperatur wiedererwärmt wird, bei der die Viskosität des Glases zwischen 107,5 und 108,5 Pa s beträgt.
  6. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Umformungsschritt ein Glätten und/oder ein Druckumformen umfasst.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass beim Umformen eine Struktur in die Oberfläche des Grünglaskörpers (16) eingeprägt wird.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass eine Mikro- oder Nanostruktur in die Oberfläche eingeprägt wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass ein Prägewerkzeug (20) mit einer strukturierten Kontaktfläche (18) auf eine Betriebstemperatur von Tg ± 100 K vorgewärmt und beim Umformen mit der strukturierten Kontaktfläche (18) auf die erwärmte Oberfläche aufgedrückt wird.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Prägewerkzeug (20) nach dem Aufdrücken auf die erwärmte Oberfläche beim Abkühlen zusammen mit dem Grünglaskörper (16) abgekühlt wird.
  11. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Gasinfrarot-Porenstrahler (10, 12) beim Wiedererwärmen mit einer Energiedichte von mehr als 200 kW/m2, vorzugsweise mehr als 1 MW/m2 und besonders bevorzugt mehr als 2 MW/m2 abstrahlt.
  12. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Gasinfrarot-Porenstrahler (10, 12) beim Wiedererwärmen mit einem Strahlungsleistungsmaximum bei einer Wellenlänge größer als 2 μm, vorzugsweise in einem Bereich von 2 μm bis 5 μm und besonders bevorzugt von 2 μm bis 3 μm betrieben wird.
  13. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Gasinfrarot-Porenstrahler (10, 12) beim Wiedererwärmen in einem Abstand von unter 5 cm, bevorzugt 1 cm bis 3 cm von der Oberfläche des Grünglaskörpers (16) eingesetzt wird.
  14. Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit einer strukturierten Oberfläche, wobei zunächst ein Grünglaskörper (10, 12) nach dem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 13 hergestellt und anschließend mit der strukturierten Oberfläche nach oben liegend keramisiert wird.
  15. Glaskeramikerzeugnis mit einer geprägten Oberflächenstruktur.
  16. Glaskeramikerzeugnis nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die geprägte Oberflächenstruktur eine Mikro- oder Nanostruktur ist.
  17. Glaskeramikerzeugnis nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die geprägte Oberflächenstruktur hydrophob ist.
  18. Glaskeramikerzeugnis, das aus einem Grünglaskörper keramisiert ist, der mittels eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 14 umgeformt wurde.
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