DE102007059886A1 - A method for producing a reflection-reducing layer and an optical element having a reflection-reducing layer - Google Patents
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Abstract
Bei einem Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Schicht auf der Oberfläche eines optisches Elements (1) wird eine UV-härtbare oder thermisch härtbare Lackschicht (2) im flüssigen Zustand auf die Oberfläche des optischen Elements (1) aufgebracht, die Lackschicht (2) durch Bestrahlung mit UV-Licht oder durch Tempern teilweise verfestigt, nachfolgend eine Nanostruktur (6) an der Oberfläche der Lackschicht (2) erzeugt, und nach der Erzeugung der Nanostruktur (6) die Lackschicht (2) durch weitere Bestrahlung mit UV-Licht oder durch weiteres Tempern vollständig ausgehärtet.In a method for producing a reflection-reducing layer on the surface of an optical element (1), a UV-curable or thermally curable lacquer layer (2) is applied in the liquid state to the surface of the optical element (1), the lacquer layer (2) by irradiation partially solidified with UV light or by tempering, subsequently producing a nanostructure (6) on the surface of the lacquer layer (2), and after the formation of the nanostructure (6) the lacquer layer (2) by further irradiation with UV light or by further Tempering fully cured.
Description
Zur Reflexionsminderung der Oberflächen von optischen Elementen werden herkömmlicherweise eine oder mehrere dielektrische Schichten auf das optische Element aufgebracht.to Reflection reduction of the surfaces of optical elements conventionally one or more dielectric layers applied to the optical element.
Eine
alternative Möglichkeit zur Verminderung der Reflexion
eines optischen Elements ist aus der Patentschrift
Die Entspiegelung eines optischen Elements durch die Erzeugung einer Nanostruktur an dessen Oberfläche hat den Vorteil, dass eine geringe Reflexion über einen weiten Einfallswinkelbereich erzielt wird. Allerdings ist die Nanostruktur nur bedingt mechanisch beständig, so dass das Risiko besteht, dass die Nanostruktur zum Beispiel bei der Reinigung der Oberfläche beschädigt wird.The Anti-reflection of an optical element by the generation of a Nanostructure on its surface has the advantage that a low reflection over a wide angle of incidence range is achieved. However, the nanostructure is only conditionally mechanical resistant, so there is a risk that the nanostructure for example, when cleaning the surface damaged becomes.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein verbessertes Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Schicht und ein optisches Element mit einer reflexionsmindernden Schicht anzugeben, bei der sich die reflexionsmindernde Schicht durch eine Nanostruktur mit einer verbesserten mechanischen Beständigkeit auszeichnet.Of the Invention is based on the object, an improved method for producing a reflection-reducing layer and an optical To specify element with a reflection-reducing layer, in the The reflection-reducing layer with a nanostructure with characterized an improved mechanical resistance.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren gemäß Patentanspruch 1 oder ein optisches Element gemäß Patentanspruch 15 gelöst.These Task is by a method according to claim 1 or an optical element according to claim 15 solved.
Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.advantageous Embodiments and developments of the invention are the subject the dependent claims.
Bei einem Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Schicht auf der Oberfläche eines optischen Elements gemäß der Erfindung wird zunächst eine UV-härtbare oder thermisch härtbare Lackschicht im flüssigen Zustand auf die Oberfläche des optischen Elements aufgebracht, zum Beispiel durch Spincoating oder Tauchbeschichtung. Das Aufbringen der Lackschicht erfolgt also insbesondere nasschemisch.at a method for producing a reflection-reducing layer on the surface of an optical element according to the Invention is initially a UV-curable or thermally curable lacquer layer in the liquid state applied to the surface of the optical element, for example by spin coating or dip coating. The application The lacquer layer thus takes place in particular wet-chemically.
Die Lackschicht wird nach dem Aufbringen auf die Oberfläche des optischen Elements durch Bestrahlung mit UV-Licht oder durch Tempern teilweise verfestigt. Die Lackschicht wird dabei vorteilhaft derart teilvernetzt, dass ein Materialabtrag durch ein Plasmaätzverfahren oder durch ein Prägeverfahren möglich ist.The Paint layer is applied after application to the surface of the optical element by irradiation with UV light or by Annealing partially solidified. The lacquer layer is advantageous so partially crosslinked that a material removal by a plasma etching or by a stamping process is possible.
Nach der teilweisen Verfestigung der Lackschicht wird eine Nanostruktur an der Oberfläche der Lackschicht erzeugt. Erst nach der Erzeugung der Nanostruktur wird die Lackschicht durch weitere Bestrahlung mit UV-Licht oder durch weiteres Tempern vollständig ausgehärtet.To the partial solidification of the lacquer layer becomes a nanostructure produced on the surface of the paint layer. Only after the Generation of the nanostructure becomes the lacquer layer by further irradiation completely cured with UV light or by further annealing.
Dadurch, dass die Lackschicht durch Bestrahlung mit UV-Licht oder durch Tempern zunächst teilweise verfestigt wird, ist es möglich, eine reflexionsmindernde Nanostruktur an der Oberfläche einer Lackschicht zu erzeugen, bei der dies im noch flüssigen Zustand oder nach der Aushärtung jeweils nicht möglich wäre.Thereby, that the lacquer layer by irradiation with UV light or by annealing is partially solidified at first, it is possible a reflection-reducing nanostructure on the surface to produce a lacquer layer in which this is still liquid Condition or after curing not possible would.
Auf diese Weise kann vorteilhaft eine reflexionsmindernde Nanostruktur in einer Lackschicht erzeugt werden, die sich durch eine hohe mechanische Beständigkeit, insbesondere eine vergleichsweise hohe Härte, auszeichnet.On this way can advantageously a reflection-reducing nanostructure be produced in a lacquer layer, which is characterized by a high mechanical resistance, in particular a comparatively high hardness.
Die Lackschicht ist bevorzugt aus einem anorganischorganischem Hybridpolymer gebildet. Vorzugsweise enthält die Lackschicht ein Siloxan. Besonders bevorzugt ist die Lackschicht aus dem Polymer Ormocer® gebildet, das sich durch eine hohe mechanische Beständigkeit auszeichnet. Auf diese Weise wird die Oberfläche des optischen Elements insbesondere vor mechanischen Beschädigungen, die beispielsweise bei der Reinigung der Oberfläche auftreten könnten, geschützt.The lacquer layer is preferably formed from an inorganic-organic hybrid polymer. Preferably, the lacquer layer contains a siloxane. Particularly preferably, the coating layer of the polymer Ormocer ® is formed, which is characterized by a high mechanical resistance. In this way, the surface of the optical element is protected, in particular, from mechanical damage which might occur, for example, when cleaning the surface.
Das
Erzeugen der Nanostruktur in der teilvernetzten Lackschicht erfolgt
vorzugsweise mittels eines Plasmaätzverfahrens. Die Durchführung
des Plasmaätzprozesses erfolgt vorteilhaft mittels eines Plasmas,
das Argon und/oder Sauerstoff enthält. Der Plasmaätzprozess
ist an sich aus der Patentschrift
Vor der Erzeugung der Nanostruktur mittels eines Plasmaätzverfahrens wird vorzugsweise eine dünne Schicht auf die teilweise verfestigte Lackschicht aufgebracht. Die dünne Schicht kann beispielsweise eine Oxidschicht, eine Nitridschicht oder eine Fluoridschicht sein. Insbesondere kann die dünne Schicht Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Titanoxid oder Magnesiumfluorid enthalten.In front the generation of the nanostructure by means of a plasma etching process is preferably a thin layer on the partially solidified paint layer applied. The thin layer For example, an oxide layer, a nitride layer or a Fluoride be. In particular, the thin layer Contain silica, silicon nitride, titanium oxide or magnesium fluoride.
Die dünne Schicht weist vorteilhaft eine Dicke von nur 2 nm oder weniger auf. Das Aufbringen dieser dünnen Schicht vor der Durchführung des Plasmaätzprozesses hat den Vorteil, dass die dünne Schicht als Initialschicht für den Plasmaätzprozess wirkt und somit das Erzeugen einer Nanostruktur auch in Polymeren ermöglicht, bei denen dies ohne die zuvorige Aufbringung der dünnen Schicht nur schwer oder gar nicht möglich wäre.The thin layer advantageously has a thickness of only 2 nm or less. The application of this thin layer before performing the plasma etching process the advantage that the thin layer as an initial layer for the plasma etching process and thus the generating a nanostructure also possible in polymers in which This is difficult without the previous application of the thin layer or not possible.
Bei einer alternativen Ausführungsform der Erfindung wird die reflexionsmindernde Nanostruktur mittels eines Prägeverfahrens in der Lackschicht erzeugt.at an alternative embodiment of the invention is the reflection-reducing nanostructure by means of an embossing process generated in the paint layer.
Die mittels des Plasmaätzprozesses oder mittels des Prägeverfahrens erzeugte Nanostruktur erstreckt sich vorteilhaft von der Oberfläche der Lackschicht aus bis in eine Tiefe von 50 nm oder mehr in die Lackschicht hinein. Besonders bevorzugt erstreckt sich die Nanostruktur von der Oberfläche der Lackschicht aus bis in eine Tiefe zwischen 80 nm und 600 nm in die Lackschicht hinein.The by the plasma etching process or by the embossing process produced nanostructure extends advantageous from the surface the paint layer to a depth of 50 nm or more in the Paint layer into it. Particularly preferably, the nanostructure extends from the surface of the lacquer layer down to a depth between 80 nm and 600 nm into the lacquer layer.
Bei einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung wird nach der Erzeugung der Nanostruktur eine hydrophobe oder eine hydrophile Schicht auf die Nanostruktur aufgebracht. Auf diese Weise wird vorteilhaft erreicht, dass die Oberfläche des optischen Elements nicht nur entspiegelt wird, sondern auch hydrophobe oder hydrophile Eigenschaften aufweist.at An advantageous embodiment of the invention is after the generation the nanostructure on a hydrophobic or a hydrophilic layer applied the nanostructure. In this way it is advantageously achieved that the surface of the optical element is not only anti-reflective but also has hydrophobic or hydrophilic properties.
Als hydrophobe Schicht ist beispielsweise eine Schicht geeignet, die Silikon oder fluorhaltiges organisches Material enthält. Die hydrophobe Schicht kann beispielsweise eine Dicke zwischen 1 nm und 10 nm aufweisen.When hydrophobic layer, for example, a layer is suitable, the Contains silicone or fluorine-containing organic material. The hydrophobic layer may, for example, have a thickness between 1 nm and 10 nm.
Als hydrophile Schicht ist zum Beispiel eine Schicht aus einem Siliziumoxid, insbesondere SiO2, geeignet. Die Dicke der hydrophilen Schicht beträgt vorteilhaft zwischen 10 nm und 50 nm, besonders bevorzugt zwischen 30 nm und 40 nm. Das Aufbringen einer Siliziumoxidschicht hat den Vorteil, dass sie nicht nur hydrophile Eigenschaften hat, sondern gleichzeitig auch eine Hartschicht darstellt, die die Nanostruktur zusätzlich schützt. Aufgrund dieser Eigenschaft kann eine hydrophile Siliziumoxidschicht auch als zusätzliche Schicht unterhalb einer nachfolgenden hydrophoben Schicht aufgebracht werden.As a hydrophilic layer, for example, a layer of a silicon oxide, in particular SiO 2 , is suitable. The thickness of the hydrophilic layer is advantageously between 10 nm and 50 nm, particularly preferably between 30 nm and 40 nm. The application of a silicon oxide layer has the advantage that it not only has hydrophilic properties, but at the same time represents a hard layer which additionally adds to the nanostructure protects. Due to this property, a hydrophilic silicon oxide layer can also be applied as an additional layer below a subsequent hydrophobic layer.
Die hydrophile und/oder die hydrophobe Schicht können sowohl vor der vollständigen Aushärtung der Lackschicht als auch nach der vollständigen Aushärtung der Lackschicht aufgebracht werden.The hydrophilic and / or the hydrophobic layer can both before complete curing of the lacquer layer as well as after complete curing of the Paint layer are applied.
Bei einem optischen Element mit einer reflexionsmindernden Schicht gemäß der Erfindung ist die reflexionsmindernde Schicht aus einer vernetzten thermisch oder UV-härtbaren Lackschicht gebildet, die an ihrer Oberfläche eine Nanostruktur aufweist. Die Lackschicht ist insbesondere aus einem anorganisch-organischem Hybridpolymer gebildet und kann insbesondere ein Siloxan enthalten.at an optical element having a reflection-reducing layer according to Invention is the reflection-reducing layer of a crosslinked thermal or UV-curable lacquer layer formed on its surface has a nanostructure. The lacquer layer is made in particular an inorganic-organic hybrid polymer and may in particular contain a siloxane.
Die Nanostruktur erstreckt sich vorteilhaft von der Oberfläche der Lackschicht aus bis in eine Tiefe von 50 nm oder mehr, besonders bevorzugt von 80 nm bis 600 nm in die Lackschicht hinein. Weiterhin ist vorteilhaft eine dünne hydrophobe oder hydrophile Schicht auf die Nanostruktur aufgebracht.The Nanostructure advantageously extends from the surface the lacquer layer to a depth of 50 nm or more, especially preferably from 80 nm to 600 nm into the lacquer layer. Furthermore is advantageously a thin hydrophobic or hydrophilic layer applied to the nanostructure.
Die
Erfindung wird im Folgenden anhand eines Ausführungsbeispiels
im Zusammenhang mit den
Es zeigen:It demonstrate:
Gleiche oder gleichwirkende Elemente sind in den Figuren mit den gleichen Bezugszeichen dargestellt. Die Figuren sind nicht als maßstabsgerecht anzusehen, vielmehr können einzelne Elemente zur Verdeutlichung übertrieben groß dargestellt sein.Same or equivalent elements are in the figures with the same Reference number shown. The figures are not to be considered as true to scale Rather, individual elements can be exaggerated for clarity be shown large.
Wie
in
Die
thermisch härtbare oder UV-härtbare Lackschicht
Das
Aufbringen der Lackschicht
Bei
dem in
Nach
der teilweisen Verfestigung der Lackschicht
Bei
der Herstellung der Nanostruktur mittels eines Plasmaätzverfahrens
wird bevorzugt vor der Durchführung des Plasmaätzprozesses
eine dünne Schicht
Die
dünne Schicht
Das
Aufbringen der dünnen Schicht
Alternativ
kann die Nanostruktur an der Oberfläche der Lackschicht
Nach
der Durchführung des Plasmaätzverfahrens oder
des Prägeverfahrens weist die Oberfläche der Lackschicht
In
einem weiteren Verfahrensschritt kann, wie in
Beispielsweise
ist das Aufbringen einer hydrophilen Schicht
Eine
hydrophobe Schicht
Die
hydrophobe Schicht
Nach
dem optionalen Aufbringen der optionalen hydrophilen und/oder hydrophoben
Schicht
Die
in den
Das
auf diese Weise hergestellte Ausführungsbeispiel eines
optischen Elements gemäß der Erfindung, das in
Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist.The The invention is not by the description based on the embodiments limited. Rather, the invention includes every new feature as well any combination of features, especially any combination includes features in the claims, also if this feature or combination itself is not explicit specified in the patent claims or exemplary embodiments is.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
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---|---|
DE (1) | DE102007059886B4 (en) |
WO (1) | WO2009074146A2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013045111A1 (en) | 2011-09-28 | 2013-04-04 | Leybold Optics Gmbh | Method and apparatus for producing a reflection‑reducing layer on a substrate |
DE102013103075A1 (en) * | 2013-03-26 | 2014-10-02 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Process for producing an antireflection coating on a substrate and substrate with an antireflection coating |
DE102016125197A1 (en) * | 2016-12-21 | 2018-06-21 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for producing a reflection-reducing layer system |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITMI20101529A1 (en) * | 2010-08-09 | 2012-02-10 | Consiglio Nazionale Ricerche | PLASTIC OPTICAL ELEMENTS WITH ANTI-FOLDING CHARACTERISTICS AND METHOD FOR THEIR REALIZATION |
CN103732390B (en) * | 2011-08-16 | 2015-07-01 | 三菱丽阳株式会社 | Microscopic roughness structure with protective film and fabrication method therefor |
DE102014003922B3 (en) * | 2014-03-19 | 2015-05-28 | Rodenstock Gmbh | Process for the hydrophobization of hardcoat surfaces and hard-lacquered substrate with hydrophobized surface |
DE102018108053A1 (en) | 2018-04-05 | 2019-10-10 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Microstructured object |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030138555A1 (en) * | 1999-11-30 | 2003-07-24 | 3M Innovative Properties Company | Thermal transfer of microstructured layers |
US20040156983A1 (en) * | 2002-12-17 | 2004-08-12 | Vision-Ease Lens, Inc. | Rapid, thermally cured, back side MAR resistant and antireflective coating for ophthalmic lenses |
DE10318566A1 (en) * | 2003-04-15 | 2004-11-25 | Fresnel Optics Gmbh | Process and tool for producing transparent optical elements from polymeric materials |
DE10241708B4 (en) | 2002-09-09 | 2005-09-29 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | A method of reducing the interfacial reflection of plastic substrates and such modified substrate and its use |
US20060019114A1 (en) * | 2003-05-20 | 2006-01-26 | Thies Jens C | Method of preparing nano-structured surface coatings and coated articles |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002189106A (en) * | 2000-12-20 | 2002-07-05 | Dainippon Printing Co Ltd | Glare-proof film, method for manufacturing the same and display device using glare-proof film |
JP2006039450A (en) * | 2004-07-30 | 2006-02-09 | Seiko Epson Corp | Method for forming antireflection film, apparatus for forming antireflection film, antireflection film and optical component |
DE102007009512A1 (en) * | 2007-02-27 | 2008-08-28 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Optical element with anti-fogging polymer layer, for use e.g. as spectacle lenses or display covers, has a reflection-reducing nano-structure formed on the surface of the polymer layer |
-
2007
- 2007-12-12 DE DE102007059886.8A patent/DE102007059886B4/en active Active
-
2008
- 2008-12-09 WO PCT/DE2008/002057 patent/WO2009074146A2/en active Application Filing
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030138555A1 (en) * | 1999-11-30 | 2003-07-24 | 3M Innovative Properties Company | Thermal transfer of microstructured layers |
DE10241708B4 (en) | 2002-09-09 | 2005-09-29 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | A method of reducing the interfacial reflection of plastic substrates and such modified substrate and its use |
US20040156983A1 (en) * | 2002-12-17 | 2004-08-12 | Vision-Ease Lens, Inc. | Rapid, thermally cured, back side MAR resistant and antireflective coating for ophthalmic lenses |
DE10318566A1 (en) * | 2003-04-15 | 2004-11-25 | Fresnel Optics Gmbh | Process and tool for producing transparent optical elements from polymeric materials |
US20060019114A1 (en) * | 2003-05-20 | 2006-01-26 | Thies Jens C | Method of preparing nano-structured surface coatings and coated articles |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013045111A1 (en) | 2011-09-28 | 2013-04-04 | Leybold Optics Gmbh | Method and apparatus for producing a reflection‑reducing layer on a substrate |
US9589768B2 (en) | 2011-09-28 | 2017-03-07 | Leybold Optics Gmbh | Method and apparatus for producing a reflection-reducing layer on a substrate |
DE102013103075A1 (en) * | 2013-03-26 | 2014-10-02 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Process for producing an antireflection coating on a substrate and substrate with an antireflection coating |
DE102013103075B4 (en) * | 2013-03-26 | 2015-11-12 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Method for producing an antireflection coating on a substrate |
DE102016125197A1 (en) * | 2016-12-21 | 2018-06-21 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for producing a reflection-reducing layer system |
DE102016125197B4 (en) | 2016-12-21 | 2020-07-02 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Process for producing a reflection-reducing layer system |
US10782451B2 (en) | 2016-12-21 | 2020-09-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for producing a reflection-reducing layer system |
EP3559710B1 (en) * | 2016-12-21 | 2023-07-19 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for producing a reflection-reducing layer system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2009074146A2 (en) | 2009-06-18 |
DE102007059886B4 (en) | 2014-03-06 |
WO2009074146A3 (en) | 2009-10-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R079 | Amendment of ipc main class |
Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: G02B0001110000 Ipc: G02B0001118000 |
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R082 | Change of representative | ||
R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20141209 |
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R079 | Amendment of ipc main class |
Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: G02B0001110000 Ipc: G02B0001118000 Effective date: 20150212 |