DE102006043251A1 - Mikrolithographie-Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Objektiv, Herstellungsverfahren mikrostrukturierter Bauteile mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauteil - Google Patents

Mikrolithographie-Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Objektiv, Herstellungsverfahren mikrostrukturierter Bauteile mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauteil Download PDF

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009024164A1 (en) * 2007-08-20 2009-02-26 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective having mirror elements with reflective coatings
DE102007062198A1 (de) 2007-12-21 2009-06-25 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Katoptrisches Objektiv zur Abbildung eines im Wesentlichen linienförmigen Objektes
DE102009030501A1 (de) * 2009-06-24 2011-01-05 Carl Zeiss Smt Ag Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes
DE102011080408A1 (de) 2011-08-04 2013-02-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Semiaktive Kippkorrektur für feste Spiegel
US9164394B2 (en) 2009-03-06 2015-10-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination optical system and optical systems for microlithography
US9304408B2 (en) 2008-03-20 2016-04-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective for microlithography

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008042438B4 (de) * 2008-09-29 2010-11-04 Carl Zeiss Smt Ag Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens zwei Arbeitszuständen
DE102009008644A1 (de) 2009-02-12 2010-11-18 Carl Zeiss Smt Ag Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einer derartigen abbildenden Optik
EP2447753A1 (en) * 2009-03-30 2012-05-02 Carl Zeiss SMT GmbH Imaging optics and projection exposure installation for microlithography with an imaging optics of this type
DE102010039745A1 (de) * 2010-08-25 2012-03-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik
DE102010040811A1 (de) * 2010-09-15 2012-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik
JP6559105B2 (ja) * 2016-08-31 2019-08-14 富士フイルム株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004252358A (ja) * 2003-02-21 2004-09-09 Canon Inc 反射型投影光学系及び露光装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009024164A1 (en) * 2007-08-20 2009-02-26 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective having mirror elements with reflective coatings
US8279404B2 (en) 2007-08-20 2012-10-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective having mirror elements with reflective coatings
US9013678B2 (en) 2007-08-20 2015-04-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective having mirror elements with reflective coatings
DE102007062198A1 (de) 2007-12-21 2009-06-25 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Katoptrisches Objektiv zur Abbildung eines im Wesentlichen linienförmigen Objektes
US9304408B2 (en) 2008-03-20 2016-04-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective for microlithography
EP2255251B1 (en) * 2008-03-20 2017-04-26 Carl Zeiss SMT GmbH Projection objective for microlithography
US9164394B2 (en) 2009-03-06 2015-10-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination optical system and optical systems for microlithography
DE102009030501A1 (de) * 2009-06-24 2011-01-05 Carl Zeiss Smt Ag Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes
US9182578B2 (en) 2009-06-24 2015-11-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical system and illumination optical system
DE102011080408A1 (de) 2011-08-04 2013-02-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Semiaktive Kippkorrektur für feste Spiegel

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