DE102006002904A1 - Bauelementanordnung und Verfahren zur Ermittlung der Temperatur in einem Halbleiterbauelement - Google Patents

Bauelementanordnung und Verfahren zur Ermittlung der Temperatur in einem Halbleiterbauelement Download PDF

Info

Publication number
DE102006002904A1
DE102006002904A1 DE102006002904A DE102006002904A DE102006002904A1 DE 102006002904 A1 DE102006002904 A1 DE 102006002904A1 DE 102006002904 A DE102006002904 A DE 102006002904A DE 102006002904 A DE102006002904 A DE 102006002904A DE 102006002904 A1 DE102006002904 A1 DE 102006002904A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
temperature
signal
low
filter
pass filter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE102006002904A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102006002904B4 (de
Inventor
Wolfgang Dr. Horn
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Infineon Technologies AG
Original Assignee
Infineon Technologies AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
Priority to DE102006002904A priority Critical patent/DE102006002904B4/de
Priority to US11/655,749 priority patent/US7448797B2/en
Publication of DE102006002904A1 publication Critical patent/DE102006002904A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102006002904B4 publication Critical patent/DE102006002904B4/de
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02HEMERGENCY PROTECTIVE CIRCUIT ARRANGEMENTS
    • H02H6/00Emergency protective circuit arrangements responsive to undesired changes from normal non-electric working conditions using simulators of the apparatus being protected, e.g. using thermal images
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01KMEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01K7/00Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements
    • G01K7/01Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements using semiconducting elements having PN junctions
    • G01K7/015Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements using semiconducting elements having PN junctions using microstructures, e.g. made of silicon
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01KMEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01K7/00Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements
    • G01K7/42Circuits effecting compensation of thermal inertia; Circuits for predicting the stationary value of a temperature
    • G01K7/425Thermal management of integrated systems
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02HEMERGENCY PROTECTIVE CIRCUIT ARRANGEMENTS
    • H02H5/00Emergency protective circuit arrangements for automatic disconnection directly responsive to an undesired change from normal non-electric working conditions with or without subsequent reconnection
    • H02H5/04Emergency protective circuit arrangements for automatic disconnection directly responsive to an undesired change from normal non-electric working conditions with or without subsequent reconnection responsive to abnormal temperature
    • H02H5/044Emergency protective circuit arrangements for automatic disconnection directly responsive to an undesired change from normal non-electric working conditions with or without subsequent reconnection responsive to abnormal temperature using a semiconductor device to sense the temperature
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01KMEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01K3/00Thermometers giving results other than momentary value of temperature
    • G01K3/08Thermometers giving results other than momentary value of temperature giving differences of values; giving differentiated values
    • G01K3/14Thermometers giving results other than momentary value of temperature giving differences of values; giving differentiated values in respect of space
    • G01K2003/145Hotspot localization
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Bauelementanordnung mit einem Halbleiterbauelement, das einen Halbleiterkörper (100) aufweist, und mit einer Temperaturmessanordnung zur Ermittlung einer Temperatur an einer bestimmten Position (20) in dem Halbleiterkörper, die folgende Merkmale umfasst: - einen in dem Halbleiterkörper (100) integrierten Temperatursensor (10), der dazu ausgebildet ist, ein von einer Temperatur in dem Halbleiterkörper (100) abhängiges erstes Temperatursignal (V10) zu erzeugen, - eine Regelvorrichtung mit einem Regelverstärker (40), der einen ersten und einen zweiten Eingang (41, 42) und einen Ausgang (43) aufweist, und mit einem Tiefpassfilter (50), das einen Eingang (51) und einen Ausgang (52) aufweist, wobei der Eingang (51) des Tiefpassfilters (50) an den Ausgang (43) des Regelverstärkers (40) gekoppelt ist, der erste Eingang des Regelverstärkers (40) an den Temperatursensor (10) und der zweite Eingang (42) des Regelverstärkers (40) an den Ausgang (52) des Tiefpassfilters (50) gekoppelt ist, - einen Ausgang, der an den Ausgang des Regelverstärkers (40) gekoppelt ist und an dem ein zweites Temperatursignal (V40) zur Verfügung steht. Die Erfindung betrifft außerdem ein Verfahren zur Ermittlung der Temperatur in einem Halbleiterbauelement.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Bauelementanordnung mit einem Halbleiterbauelement und einer Temperaturmessanordnung und ein Verfahren zur Ermittlung der Temperatur in einem Halbleiterbauelement, insbesondere zur Ermittlung der Temperatur an einem während des Betriebs des Bauelements heißesten Punkt, der sogenannten "Hot-Spot"-Temperatur.
  • Beim Betrieb von Halbleiterbauelementen führt die unweigerlich anfallende Verlustleistung zur Erwärmung des Halbleiterbauelements. Diese Erwärmung ist umso stärker, je mehr Leistung in dem Halbleiterbauelement umgesetzt wird. Kritisch ist diese Wärmeentwicklung insbesondere bei Leistungsbauelementen, wie beispielsweise Leistungstransistoren, die dazu ausgebildet sind, Spannungen bis zu einigen hundert Volt bei entsprechend großen Strömen zu schalten. Solche Leistungstransistoren werden beispielsweise zur Ansteuerung von Verbrauchern in Endstufen und Schaltstufen für die Industrieelektronik und die Automobiltechnik eingesetzt.
  • Die Temperatur eines Halbleiterbauelements, insbesondere eines Leistungshalbleiterbauelements stellt einen wesentlichen während des Betriebs zu überwachenden Parameter dar. Eine zu hohe Temperatur des Bauelements, die beispielsweise durch eine erhöhte Umgebungstemperatur, durch eine Fehlfunktion des Halbleiterbauelements oder durch eine Fehlfunktion eines angeschlossenen Verbrauchers bedingt ist, kann zu einer Beschädigung oder Zerstörung des Bauelements und darüber hinaus auch zur Beeinträchtigung oder sogar Zerstörung des Verbrauchers führen. Die maximal zulässige Sperrschichttemperatur von Transistoren auf Siliziumbasis beträgt beispielsweise etwa 175°C bis 200°C, die von Transistoren auf Germaniumbasis etwa 75°C bis 90°C. Eine Überschreitung dieses Temperaturbe reiches führt zur Zerstörung des jeweiligen Halbleiterbauelements. Es ist daher wesentlich, eine etwaige Übertemperatur von Halbleiterbauelementen rechtzeitig und sicher zu erkennen, um geeignete Maßnahmen, wie beispielsweise das Abschalten des Halbleiterbauelements oder des Verbrauchers, vor Erreichen kritischer Temperaturwerte, und damit vor Eintreten eines schädigenden Ereignisses, ergreifen zu können.
  • In diesem Zusammenhang kann es wünschenswert sein, nicht nur die Übertemperatur eines Halbleiterbauelements zuverlässig zu erkennen, sondern in Echtzeit auch den jeweils aktuellen Temperaturwert des Bauelements erfassen zu können. Dies ermöglicht eine Analyse des Temperaturverhaltens einer Schaltung, beispielsweise in Abhängigkeit von unterschiedlichen Betriebszuständen.
  • Zur Ermittlung der Temperatur eines Halbleiterbauelements ist es bekannt, einen Temperatursensor auf dem Gehäuse des Halbleiterbauelements oder auf dem in dem Gehäuse angeordneten Halbleiterkörper/Chip selbst anzubringen. Ein derartiges Vorgehen ist für so genannte TEMP-FET, die in Chip-on-Chip Technologie gefertigt werden, in Stengl/Tihanyi: "Leistungs-MOS-FET-Praxis", Pflaum Verlag, München, 1992, Seite 112 beschrieben. Nachteilig ist hierbei, dass der Sensor und das eigentliche Halbleiterbauelement zwei getrennte Bauelemente sind, so dass durch den Sensor nur die Temperatur außen an dem Halbleiterbauelement erfasst wird. Diese Außentemperatur kann erheblich von der Temperatur im Inneren des Halbleiterbauelementes abweichen, insbesondere dann, wenn die Position des Temperatursensor weit von der Position des heißesten Punkts in dem Halbleiterkörper entfernt ist. Darüber hinaus wirken sich Temperaturändrungen im Inneren des Halbleiterkörpers nur zeitverzögert auf Temperaturänderungen im Bereich des Sensors aus. Gerade die exakte Erfassung der Temperatur im Inneren des Halbleiterkörpers ist jedoch zur Ermittlung kritischer Betriebszustände oder der Analyse dynamischer Vorgänge relevant.
  • Zur Ermittlung der internen Temperatur eines Halbleiterbauelements ist es weiterhin bekannt, einen Temperatursensor in demselben Halbleiterkörper, in den das Halbleiterbauelement integriert ist, vorzusehen. Dieser Sensor ist beispielsweise eine Diode, die in Sperrrichtung betrieben wird und deren Sperrstrom oder Sperrspannung erfasst wird. Ein solches Vorgehen ist beispielsweise in der DE 203 15 053 A beschrieben. Man macht sich hierbei zu Nutze, dass der durch eine Auswerteeinheit erfasste Sperrstrom der Diode exponentiell von der Temperatur abhängig ist, so dass von dem Sperrstrom auf die Temperatur in dem Halbleiterkörper geschlossen werden kann. Allerdings weist dieser Sperrstrom erst bei hohen Temperaturen einen nennenswerten, das heißt auswertbaren Betrag auf, so dass der Signalhub eines derartigen Diodenstruktur-Temperatursensors gering ist. Außerdem weisen Diodenstrukturen stets eine Sperrschichtkapazität auf, in der Ladung gespeichert ist. Diese gespeicherte Ladung kann einen Strom verursachen, der unter Umständen größer ist als der zur Temperaturerfassung herangezogene Sperrstrom, was das Messergebnis verzerrt.
  • Den bekannten Anordnungen bzw. Verfahren zur Temperaturmessung ist gemeinsam, dass selbst bei integrierten Temperatursensoren die gemessene Temperatur immer niedriger ist als die tatsächliche Spitzentemperatur an der auch als "Hot Spot" bezeichneten heißesten Stelle des Halbleiterbauelements. Ein wesentlicher Grund hierfür ist, dass der Temperatursensor nicht direkt an der Position des Hot Spot selbst, beispielsweise an der Sperrschicht eines Leistungstransistors positioniert werden kann, ohne dabei die wunschgemäße Funktion des Halbleiterbauelementes selbst zu beeinträchtigen. Der Sensor wird daher beabstandet zu dem Hot Spot angeordnet.
  • Darüber hinaus weist die Messung der Temperatur eines Halbleiterbauelementes über einen mitintegrierten Temperatursensor stets eine zeitliche Trägheit auf. Insbesondere bei schnellen transienten Änderungen der Temperatur im Hot Spot eines Halbleiterbauelements, wie sie beispielsweise beim Anschalten einer Last über einen Leistungstransistors auftreten, wirkt sich eine Änderung der Temperatur im Hot Spot erst zeitlich verzögert auf einen räumlich von diesem Hot Spot entfernten Temperatursensor aus. Bedingt durch eine unweigerlich vorhandene Wärmekapazität des Halbleiterkörpers wirkt die thermische Übertragungsstrecke für die Temperatur zwischen dem Hot Spot und dem Temperatursensor wie ein Tiefpass. Auf eine schnell auftretende Übertemperatur des Halbleiterbauelementes kann daher gegebenenfalls nicht schnell genug, wie beispielsweise durch Abschalten oder Zurückregeln einer Last, reagiert werden.
  • Weiterhin sind Verfahren bekannt bei denen, die Temperatur des Hot Spot eines Halbleiterbauelementes durch Auswertung einer Vielzahl von Temperatursensoren approximiert wird. Nachteilig sind bei diesem Verfahren der erhöhte Integrationsaufwand einer Vielzahl von Sensoren und die Komplexität der Auswertung der Einzelsignale. Um möglichst genaue Näherungswerte aus den Einzelergebnissen zu erhalten, ist hier beispielsweise die Berechnung von Polynomen höherer Ordnung notwendig.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Bauelementanordnung mit einem Halbleiterbauelement und einer Temperaturmessanordnung zur Verfügung zu stellen, bei der die Temperaturmessanordnung zuverlässig und in Echtzeit ein Temperatursignal bereitstellt, das von einer Temperatur an einer vorgegebenen Position in dem Halbleiterkörper, insbesondere an einem Hot Spot, abhängig ist, und ein zuverlässiges und schnelles Verfahren zur Ermittlung der Temperatur an einer vorgegebenen Position in einem Halbleiterkörper zur Verfügung zu stellen.
  • Diese Aufgabe wird durch eine Bauelementanordnung nach Anspruch 1 und durch ein Verfahren nach Anspruch 5 gelöst. Vor teilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
  • Die erfindungsgemäße Bauelementanordnung umfasst ein Halbleiterbauelement, das einen Halbleiterkörper aufweist, und eine Temperaturmessanordnung zur Ermittlung einer Temperatur an einer bestimmten Position in dem Halbleiterkörper auf. Die Temperaturmessanordnung umfasst dabei einen in dem Halbleiterkörper integrierten Temperatursensor, der dazu ausgebildet ist, ein von einer Temperatur in dem Halbleiterkörper abhängiges erstes Temperatursignal zu erzeugen, und eine Regelvorrichtung. Die Regelvorrichtung umfasst einen Regelverstärker, der einen ersten und einen zweiten Eingang und einen Ausgang aufweist, und ein Tiefpassfilter, das einen Eingang und einen Ausgang aufweist. Der Eingang des Tiefpassfilters ist dabei an den Ausgang des Regelverstärkers gekoppelt, der erste Eingang des Regelverstärkers ist an den Temperatursensor gekoppelt und der zweite Eingang des Regelverstärkers ist an den Ausgang des Tiefpassfilters gekoppelt. Das Regelsignal bildet bei dieser Temperaturmessanordnung ein von der Temperatur an der bestimmten Position des Halbleiterkörpers abhängiges Signal, wobei ein von diesem Regelsignal abhängiges Temperaturausgangssignal an der Temperaturmessanordnung zur Verfügung steht.
  • Das Halbleiterbauelement weist eine thermische Übertragungsstrecke zwischen der vorgegebenen Position in dem Halbleiterkörper und der Position des Temperatursensors mit einer thermische Übertragungsfunktion auf, die ein Tiefpassverhalten aufweist. Das Tiefpassverhalten des Tiefpassfilters der Regelvorrichtung ist dabei an das Tiefpassverhalten der thermischen Übertragungsstrecke angepasst und weist ein zu der thermischen Übertragungsfunktion entsprechendes Tiefpassverhalten auf.
  • Von der thermischen Übertragungsstrecke ist über das erste Temperatursignal nur die Temperatur am Ende der Übertragungs strecke, nämlich die Temperatur in dem Halbleiterkörper an der Position des Temperatursensors bekannt. Der Regelverstärker stellt bei der erfindungsgemäßen Anordnung das Eingangssignal des Tiefpassfilters so ein, dass das Ausgangssignal dieses Filters dem ersten Temperatursignal entspricht. Das Eingangssignal dieses Filters stellt dann unmittelbar und in Echtzeit ein Maß für die Temperatur an der bestimmten Position in dem Halbleiterkörper dar.
  • Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Ermittlung der Temperatur an einer vorgegebenen Position in einem Halbleiterkörper sind folgende Verfahrensschritte vorgesehen:
    • – Ermitteln der Temperatur an einer zu der bestimmten Position beabstandeten Position und Bereitstellen eines von dieser Temperatur abhängigen Temperatursignals,
    • – Ermitteln einer thermischen Übertragungsfunktion zwischen der bestimmten Position und der Position Temperaturermittlung,
    • – Bereitstellen eines Filters für ein elektrisches Eingangssignals, das eine zu der thermischen Übertragungsfunktion entsprechend Übertragungsfunktion aufweist,
    • – Einspeisen eines Regelsignals in das Filter, das von einem Vergleich des Temperatursignals mit einem Ausgangssignal des Filters abhängig ist und Bereitstellen dieses Regelsignals oder eines von diesem Regelsignal abhängigen Signals als ein von der Temperatur an der bestimmten Position abhängiges Temperatursignal.
  • Das Tiefpassfilter kann insbesondere digital als FIR-Filter (FIR = Finite Impulse Response) oder als IIR-Filter (IIR = Infinite Impulse Response) realisiert werden, was gegenüber der Ausgestaltung als diskrete oder integrierte Schaltung eine Nachbildung des elektrischen Ersatzschaltbildes der ther mischen Übertragungsstrecke mit geringerem Aufwand und größerer Flexibilität bei der Optimierung der Filterparameter erlaubt.
  • Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Figuren näher erläutert.
  • 1 zeigt im Querschnitt einen Halbleiterkörper eines Halbleiterbauelements mit einem Temperatursensor und ein elektrisches Ersatzschaltbild einer thermischen Übertragungsstrecke zwischen einer bestimmten Position in dem Halbleiterkörper und der Position des Temperatursensors,
  • 2 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Bauelementanordnung, die ein Halbleiterbauelement mit einem Halbleiterkörper und eine Temperaturmessanordnung mit einem Temperatursensor und eine Regelanordnung mit einem Tiefpass aufweist.
  • 3 zeigt ein Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Bauelementanordnung, bei der das Tiefpassfilter als digitales Filter realisiert ist.
  • 4 zeigt anhand von Simulationen gewonnene zeitliche Verläufe ausgewählter, in den Bauelementanordnungen nach den 2 und 3 vorkommender Signale.
  • In den Figuren bezeichnen, sofern nicht anders angegeben, gleiche Bezugszeichen gleiche Teile mit gleicher Bedeutung.
  • 1 zeigt schematisch einen Querschnitt durch einen Halbleiterkörper 100 eines Halbleiterbauelements, insbesondere eines Leistungsbauelements, wie beispielsweise eines Leis tungstransistors. Zum besseren Verständnis, ohne die Erfindung jedoch auf Leistungstransistoren zu beschränken, ist im rechten Teil der Figur ausschnittsweise eine Bauelementstruktur eines vertikalen Leistungstransistors dargestellt. Diese Struktur umfast eine Sourcezone 101, eine Bodyzone 102, eine Driftzone 103 und eine Drainzone 104, sowie eine benachbart zu der Bodyzone 102 angeordnete Gate-Elektrode 105, die durch eine Isolationsschicht 106 gegenüber der Bodyzone 102 isoliert ist und die zur Steuerung eines Akkumulationskanals in der Bodyzone 102 zwischen der Sourcezone 101 und der Driftzone 103 dient. Die dargestellter zellenartige Bauelementstruktur kann sich regelmäßig wiederholen und in nicht näher dargestellter Weise einen großen teil des in dem Halbleiterkörper zur Verfügung stehenden Platz einnehmen.
  • Das Bezugszeichen 20 bezeichnet in 1 eine Position in dem Halbleiterkörper 100, an der die Temperatur des Halbleiterkörpers ermittelt werden soll. Diese Position befindet sich zur Vereinfachung der weiteren Erläuterungen in dem dargestellten Beispiel nahe einer Oberfläche des Halbleiterkörpers 100, kann jedoch beliebig in dem Halbleiterkörper 100 angeordnet sein. Die Position 20 ist insbesondere die Position, an der höchsten Temperaturen in dem Halbleiterkörper vorkommen. Ohne Beschränkung der Allgemeingültigkeit der Erfindung wird diese Position 20 nachfolgend als "Hot Spot" Position und die Temperatur an dieser Position 20 als Hot Spot Temperatur bezeichnet.
  • Beabstandet zu der Hot Spot Position 20 ist in dem Halbleiterkörper 100 ein Temperatursensor 10 angeordnet, der dazu ausgebildet ist ein Temperatursignal V10 zu erzeugen, das von einer Temperatur an der Position des Halbleiterkörpers 100 abhängig ist, an der der Temperatursensor 10 angeordnet ist. Der Temperatursensor 10 kann ein üblicher Temperatursensor 10 sein und beispielsweise eine in Sperrrichtung gepolte pn-Diode umfassen. Das Temperatursignal V10 ist in diesem Fall exponentiell von der Temperatur an dem Sensor 10 abhängig.
  • Bedingt durch den Abstand zwischen der Hot Spot Position 20 und der Position des Temperatursensor und einer unweigerlich vorhandenen Wärmekapazität eines Halbleiterbereiches 110 zwischen diesen Positionen, unterschiedet sich die Temperatur an dem Sensor 10 üblicherweise von der Hot Spot Temperatur. Gravierend ist zudem, dass Änderungen der Hot Spot Temperatur erst zeitverzögert zu Temperaturänderungen an dem Sensor 10 führen.
  • Eine "Wärmeübertragungsstrecke" zwischen der Hot Spot Position 20 und der Sensorposition besitzt somit ein Tiefpassverhalten. T20(t) bezeichnet nachfolgend die Hot Spot Temperatur, die von der Zeit t abhängig ist und, und T10(t) bezeichnet nachfolgend die Temperatur an dem Sensor 10, die ebenfalls von der Zeit t abhängig ist. Eine Übertragungsfunktion HT(s) der Wärmeübertragungsstrecke zwischen der Hot Spot Position und der Sensorposition lässt sich unter Verwendung der Laplace-Transformierten T20(s) und T10(s) der Hot Spot Temperatur T20(t) und der Sensortemperatur T10(t) wie folgt darstellen:
    Figure 00090001
  • Das Übertragungsverhalten einer solchen Wärmeübertragungsstrecke mit der Übertragungsfunktion HT(s) lässt sich durch ein elektrisches Tiefpassfilter 30 N-ter Ordnung nachbilden, das in 1 ebenfalls dargestellt ist. Dieses Tiefpassfilter weist einen Eingang 31 zur Zuführung eines Eingangssignals V31 und einen Ausgang 32 zur Bereitstellung eines Ausgangssignals V32 auf.
  • Die Filterordnung und die Filterparameter sind durch Simulationen unter Anwendung der Methode der finiten Elemente ermittelbar. Diese Verfahren sind hinlänglich bekannt so dass auf weitere Ausführungen hierzu verzichtet werden kann.
  • Die Ordnung N des Filters hängt dabei insbesondere von der Länge der Wärmeleitungsstrecke zwischen Hot Spot 20 und Temperatursensor 10 ab und bildet die Trägheit und Dämpfung der Übertragung der Temperatur auf dem Weg zwischen dem Hot Spot 20 des Halbleiterbauelements und dem räumlich entfernten Temperatursensor 10 ab. Dieses Filter 30 ist so gewählt, dass dessen Übertragungsverhalten dem Übertragungsverhalten der Wärmeübertragungsstrecke entspricht, es gilt also:
    Figure 00100001
  • V31(s), V32(s) bezeichnen dabei die Laplace-Transformierten der Filtereingangs- und -ausgangssignale.
  • Das in 1 dargestellte Ersatzschaltbild für die Wärmeübertragung in dem Halbleiterkörper 100 zwischen dem Hot Spot 20 und der Sensorposition umfasst neben dem Tiefpassfilter 30 eine Stromquelle Q, die bezogen auf die Wärmeübertragungsstrecke eine Wärmequelle repräsentiert und die einen Strom Iq erzeugt, der eine durch die Wärmequelle bereitgestellten Wärmeleistung bzw. eine in dem Bauelement im Bereich des Hot Spot 20 anfallende Verlustleistung repräsentiert.
  • Das Tiefpassfilter weist in dem Beispiel einen Eingangskondensator C0 und eine Anzahl in Kaskade zu dem Eingangskondensator C0 geschaltete RC-Glieder mit je einem Widerstand R1, R2, R3 und einem Kondensator auf. Das dargestellte Tiefpassfilter 30 ist ein Filter dritter Ordnung, weist also drei RC-Glieder, auf, wobei die Filterordnung in bereits erläuterter Weise abhängig von den Eigenschaften der nachzubildenden Wärmeübertragungsstrecke beliebig variiert werden kann.
  • Dem Eingangssignal V31 des Filters 30 entspricht eine durch den Strom Iq hervorgerufene Spannung über dem Eingangskondensator C0. Diese Eingangsspannung V31 des Filters repräsen tiert die Hot Spot Temperatur T20(t) des Halbleiterkörpers. Das Ausgangssignal V32 des Filters 30 entspricht der Spannung über dem Kondensator C3 des letzten RC-Glieds der Kaskade. Diese Ausgangsspannung V32 des Filters repräsentiert die Temperatur T10 an dem Temperatursensor.
  • Spannungen, die in dem Filter 30 über den Kondensatoren C1, C2 der weiteren RC-Glieder anliegen, repräsentieren jeweils Temperaturen an Positionen des Halbleiterkörpers 100 in dem Bereich 110 zwischen der Hot Spot Position 20 und der Sensorposition. Jedes der RC-Glieder des Filter repräsentiert einen Halbleiterabschnitt bzw. das Temperaturübertragungsverhalten eines solchen Halbleiterabschnitts zwischen der Hot Spot Position und der Sensorposition.
  • Gemäß der Analogie zwischen dem thermischem Übertragungsverhalten der Strecke zwischen Hot Spot 20 und räumlich entferntem Temperatursensor 10 im Halbleiterbauelement und dem elektrischen Ersatzschaltbild entsprechen die in Wärme umgesetzte und die Temperatur des Hot Spot 20 bestimmende Verlustleistung dem Strom Iq. Die Kondensatoren C0, C1, C2, C3 entsprechen den Wärmekapazitäten des Halbleiterbauelements am jeweiligen Ort der thermischen Übertragungsstrecke auf dem Weg vom Hot Spot 20 zum Temperatursensor 10 und die Widerstände R1, R2, R3 entsprechen den thermischen Widerständen des Halbleiterbauelements am jeweiligen Ort der thermischen Übertragungsstrecke auf dem Weg vom Hot Spot zum Temperatursensor TS.
  • 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Bauelementanordnung, die eine Temperaturmessanordnung aufweist, die dazu ausgebildet ist, die Hot Spot Temperatur genau und in Echtzeit zu ermitteln.
  • Die Temperaturmessanordnung weist neben dem bereits zuvor erläuterten Temperatursensor 10 eine Regelanordnung mit einem Regelverstärker 40 und einem Tiefpassfilter 50 auf. Das Tief passfilter 50 weist einen Eingang 51 zur Zuführung eines Eingangssignals V51 und einen Ausgang zur Bereitstellung eines Ausgangssignals V52 auf und ist derart ausgebildet, dass dessen elektrisches Übertragungsverhalten dem thermischen Übertragungsverhalten der Wärmeübertragungsstrecke zwischen dem Hot Spot 20 und dem Temperatursensor 10 entspricht. Es gilt also:
    Figure 00120001
  • V52(s), V51(s) bezeichnen dabei die Laplace-Transformierten der Eingangs- und -ausgangssignale des Tiefpassfilters 50. k bezeichnet einen konstanten Faktor, um den sich die Übertragungsfunktionen unterscheiden dürfen.
  • Das Übertragungsverhalten des Tiefpassfilters 50 entspricht somit dem Übertragungsverhalten des zuvor erläuterten Tiefpassfilters 30 des elektrischen Ersatzschaltbilds der Wärmeübertragungsstrecke. Das Tiefpassfilter 50 der Regelanordnung kann somit entsprechend des Tiefpassfilters des elektrischen Ersatzschaltbildes als RC-Filter N-ter Ordnung mit einem Eingangskondensator C01 und mehreren in Kaskade zu dem Eingangskondensator C01 geschalteten RC-Gliedern mit jeweils einem Widerstand R11, R21, R31 und einem Kondensator C11, C21, C31 realisiert werden. Die dem Tiefpassfilter 50 zugeführte Eingangsspannung V51 entspricht dabei der Spannung über dem Eingangskondensator C01, und die Ausgangsspannung V52 des Tiefpassfilters 50 entspricht der Spannung über dem Kondensator C31 des letzten RC-Glieds der Kaskade.
  • Der Regelverstärker 40 ist beispielsweise als Operationsverstärker ausgebildet und weist einen ersten und zweiten Eingang 41, 42 und einen Ausgang 40, an dem eine Ausgangsspannung V40 zur Verfügung steht, auf. Der Ausgang des Regelverstärkers 40 ist an den Eingang des Tiefpassfilters 50 gekoppelt, und dem ersten Eingang 41 des Regelverstärkers 40 ist das von der Temperatur T10 an dem Sensor abhängige Sensorsignal V10 zugeführt. Die Regelanordnung weist außerdem eine Rückkopplungsschleife auf, über welche die Ausgangsspannung V52 des Tiefpassfilters an den zweiten Eingang 42 des Regelverstärkers zurückgekoppelt wird.
  • Der Regelverstärker 40 erzeugt bei dieser Anordnung, das Eingangssignal V51 des Tiefpassfilters 50 derart, dass das Ausgangssignal V51 des Tiefpassfilters 50 dem Sensorsignal V10 entspricht. Da das Übertragungsverhalten des Tiefpassfilters 50 für das elektrische Eingangssignal V51 bzw. das Verstärkerausgangssignal V40 angepasst ist an das thermische Übertragungsverhalten der Wärmeübertragungsstrecke zwischen dem Hot Spot 20 und dem Sensor, stellt das am Ausgang des Regelverstärkers anliegende Signal V40 unmittelbar ein Maß für Temperatur T20 an dem Hot Spot dar. Die Abhängigkeit des Verstärkerausgangssignals V40 von der Hot Spot Temperatur T20 entspricht dabei der Abhängigkeit des Sensorsignals V10 von der Temperatur T10 an dem Sensor 10. Diese Abhängigkeit zwischen dem Sensorsignal V10 und der Sensortemperatur T10 lässt sich wie folgt darstellen: V10 = f(T10) (4a)
  • f(.) bezeichnet hierbei eine Funktion, die von der Art des verwendeten Sensors abhängig ist. Für das Verstärkerausgangssignal V40 gilt entsprechend: V40 = f(T20) (4b)
  • Das am Ausgang des Regelverstärkers 40 abgreifbare Signal V40 entspricht somit einem Temperatursignal, das man bei direkter Positionierung des Sensors 10 an dem Hot Spot 20 erhalten würde. Die Regelvorrichtung mit dem die Wärmeübertragungsstrecke nachbildenden Tiefassfilter ermöglicht somit eine Erfassung der Hot Spot Temperatur T20 in Echtzeit, d.h. verzögerungsfrei, ohne den Sensor jedoch an der Hot Spot Position 20 anordnen zu müssen, was vielfach technisch ohnehin nicht realisierbar wäre.
  • Die Temperaturmessanordnung mit dem Sensor 10 und der Regelanordnung 40, 50 kann monolithisch in dem Halbleiterkörper 100 integriert werden. Darüber hinaus besteht die Möglichkeit, die Regelanordnung außerhalb des Halbleiterkörpers, beispielsweise in einem separaten Halbleiterkörper zu integrieren, der in Chip-on-Chip-Technologie oder in Chip-by-Chip-Technologie auf oder neben dem Halbleiterkörper 100 angeordnet ist (nicht dargestellt).
  • Die Zeitkonstanten der thermischen Übertragungsstrecke sind wegen der vergleichsweise langsamen Temperaturausbreitung in dem Halbleiterkörper 100 vergleichsweise groß, so dass entsprechend große Zeitkonstanten für das Tiefpassfilter vorzusehen sind. Die Realisierung großer Zeitkonstanten setzt allerdings die Verwendung großer Kapazitäten und Widerstände voraus, die nur platzaufwendig zu realisieren sind.
  • Um dieses Problem zu umgehen, besteht bezugnehmend auf 3 die Möglichkeit, das Tiefpassfilter 50 als digitales Filter, beispielsweise unter Verwendung eines Signalprozessors, dem das Sensorsignal 10 zugeführt ist, zu implementieren. Dieses Filter kann als FIR-Filter oder IIR-Filter realisiert werden und weist wiederum die gleiche Übertragungsfunktion auf wie die thermische Übertragungsstrecke bzw. das elektrische Ersatzschaltbild der thermischen Übertragungsstrecke des Halbleiterbauelements zwischen Hot Spot 20 und Temperatursensor 10.
  • FIR-Filter zeichnen sich dadurch aus, dass sie über eine endliche Impulsantwort verfügen und in diskreten Zeitschritten arbeiten, die üblicherweise bestimmt werden durch die Abtastfrequenz eines analogen Signals. Ein FIR-Filter der Ordnung N wird dabei beschrieben durch die Differenzengleichung:
    Figure 00150001
    wobei y[n] der Ausgangswert zum Zeitpunkt n ist und sich errechnet aus der mit den Filterkoeffizienten bi gewichteten Summe der N letzten abgetasteten Eingangswerte x[n-N] bis x[n]. Über die Festlegung der Filterkoeffizienten bi wird dabei die gewünschte Übertragungsfunktion realisiert.
  • Bei IIR-Filtern werden im Gegensatz zu FIR-Filtern auch bereits berechnete Ausgangswerte in die Berechnung mit einbezogen (rekursives Filter) und zeichnen sich dadurch aus, dass sie über eine unendliche Impulsantwort verfügen. Da die berechneten Werte jedoch nach einer endlichen Zeit sehr klein sind, kann die Berechnung in der Praxis nach einer endlichen Anzahl von Abtastwerten n abgebrochen werden. Die Berechnungsvorschrift für ein IIR-Filter lautet:
    Figure 00150002
    wobei y[n] der Ausgangswert zum Zeitpunkt n ist und sich errechnet aus der mit den Filterkoeffizienten bi gewichteten Summe der abgetasteten Eingangswerte x[n] addiert zu der mit den Filterkoeffizienten ai gewichteten Summe der Ausgangswerte y[n]. Über die Festlegung der Filterkoeffizienten ai und bi wird dabei wiederum die gewünschte Übertragungsfunktion realisiert.
  • IIR-Filter können im Gegensatz zu FIR-Filtern unstabil sein, weisen jedoch bei gleichem Aufwand für die Realisierung eine höhere Selektivität auf. In der Praxis wird dasjenige Filter gewählt, welches unter Berücksichtigung der Anforderungen und des damit verbundenen Rechenaufwandes die notwendigen Bedingungen am besten erfüllt. Es ist ersichtlich, dass sich mit Hilfe dieser digitalen Filter auch andere Filtercharakteristika als die des beschriebenen Tiefpassfilters realisieren lassen, wenn dies für die Abbildung der Übertragungsfunktion der thermischen Übertragungsstrecke zwischen Hot Spot HS und Temperatursensor TS notwendig ist.
  • 4 zeigt die Ergebnisse einer Simulation der Bauelementanordnungen gemäß der 2 und 3 unter der Annahme eines stark transienten Verlaufs der Temperatur im Hot Spot 20 des Halbleiterelements. Alle Signale sind linear über der Zeit t aufgetragen.
  • Dargestellt ist in 4A die Eingangsspannung V31 des elektrischen Ersatzschaltbildes der thermischen Übertragungsstrecke des Halbleiterbauelements zwischen Hot Spot 20 und Temperatursensor 10, die ein Maß für eine angenommene Änderung der Temperatur im Hot Spot 20 des Halbleiterbauelements darstellt. In dem Beispiel steigt diese Spannung V31 ab einem Zeitpunkt t0 rasch von einem unteren Wert auf einen oberen Wert an. Der untere Wert kann dabei einer Temperatur des Hot Spot 20 bei ausgeschaltetem Halbleiterbauelement entsprechen, wenn also keine Wärme erzeugende Verlustleistung auftritt und die Temperaturen im Hot Spot 20 und am Temperatursensor 10 gleich der Umgebungstemperatur des Halbleiterbauelementes sind. Der obere Wert kann beispielsweise einer im stationären Temperaturzustand erreichten Spitzentemperatur des Hot Spot 20 entsprechen, wie sie bei eingeschaltetem Halbleiterbauelement erreicht wird.
  • 4B zeigt den zu dem Verlauf der Spannung V31 gehörenden Verlauf der Ausgangsspannung V10 des Temperatursensors 10 als Reaktion auf den Temperaturverlauf im Hot Spot HS des Halbleiterelements. Deutlich zu erkennen ist der durch die Tiefpasswirkung der thermischen Übertragungsstrecke zwischen Hot Spot 20 und räumlich entferntem Temperatursensor 10 bewirkte verlangsamte Signalanstieg dieser Sensorspannung V10 im Vergleich zu der Spannung V31. Dieser durch das thermische Übertragungsverhalten auf dem Weg vom Hot Spot 20 zum Ort des Temperatursensors 10 bedingte verzögerte Anstieg des Sensor signals lässt einen Temperaturanstieg über eine vorgegebene Grenze am Hot Spot 20 nicht rechtzeitig erkennen, so dass Gegenmaßnahmen, wie beispielsweise das rechtzeitige Abschalten des Halbleiterbauelements oder eines darüber betriebenen Verbrauchers, nicht rechtzeitig eingeleitet werden können.
  • 4C zeigt den Verlauf der Eingangsspannung V51, V40 des Tiefpassfilters 50 der Regelanordnung. Dieser zeitliche Verlauf entspricht bedingt durch die Anpassung des Übertragungsverhaltens des Tiefpassfilters 50 an das Übertragungsverhalten der thermischen Übertragungsstrecke bzw. das Übertragungsverhalten des elektrischen Ersatzmodells dieser Übertragungsstrecke dem zeitlichen Verlauf des Eingangssignals V31 des Ersatzmodells, und damit dem zeitlichen Verlauf der Hot Spot Temperatur. Diese Spannung V51, V40 ist in Echtzeit ein Maß für Temperaturänderungen im Hot Spot 20 und kann damit nicht nur für die rechtzeitige Reaktion auf das Eintreten unerwünschter Betriebszustände herangezogen werden, beispielsweise durch Abschalten des Halbleiterbauelementes oder eines darüber betriebenen Verbrauchers, sondern kann auch zur generellen Analyse des dynamischen Temperaturverhaltens im Hot Spot eines Halbleiterbauelements verwendet werden.
  • 100
    Halbleiterkörper
    101
    Sourcezone
    102
    Bodyzone
    103
    Driftzone
    104
    Drainzone
    105
    Gate-Elektrode
    106
    Gate-Isolationsschicht
    110
    Bereich des Halbleiterkörpers
    10
    Temperatursensor
    20
    Hot Spot
    30
    Tiefpassfilter
    31,32
    Filterein- und -ausgänge
    50
    Tiefpassfilter
    51,52
    Filterein- und -ausgänge
    40
    Regelverstärker
    41,42
    Eingänge des Regelverstärkers
    43
    Ausgang des Regelverstärkers
    V10
    Sensorsignal
    C0,C1,C2,C3
    Kondensatoren
    R1,R2,R3
    Widerstände
    V31,V32
    Filtereingangs- und -ausgangssignale
    V51,V52
    Filtereingangs- und -ausgangssignale
    FIR
    Finite Impulse Response Filter
    IIR
    Infinite Impulse Response Filter
    x[n]
    abgetasteter Wert eines digitalisierten Eingangssignals
    y[n]
    errechneter Wert eines digitalen Ausgangssignals
    ai
    Filterkoeffizienten
    bi
    Filterkoeffizienten
    i
    Laufvariable

Claims (10)

  1. Bauelementanordnung mit einem Halbleiterbauelement, das einen Halbleiterkörper (100) aufweist, und mit einer Temperaturmessanordnung zur Ermittlung einer Temperatur an einer bestimmten Position (20) in dem Halbleiterkörper, die folgende Merkmale umfasst: – einen in dem Halbleiterkörper (100) integrierten Temperatursensor (10), der dazu ausgebildet ist, ein von einer Temperatur in dem Halbleiterkörper (100) abhängiges erstes Temperatursignal (V10) zu erzeugen, – eine Regelvorrichtung mit einem Regelverstärker (40), der einen ersten und einen zweiten Eingang (41, 42) und einen Ausgang (43) aufweist, und mit einem Tiefpassfilter (50), das einen Eingang (51) und einen Ausgang (52) aufweist, wobei der Eingang (51) des Tiefpassfilters (50) an den Ausgang (43) des Regelverstärkers (40) gekoppelt ist, der erste Eingang des Regelverstärkers (40) an den Temperatursensor (10) und der zweite Eingang (42) des Regelverstärkers (40) an den Ausgang (52) des Tiefpassfilters (50) gekoppelt ist, – einen Ausgang, der an den Ausgang des Regelverstärkers (40) gekoppelt ist und an dem ein zweites Temperatursignal (V40) zur Verfügung steht.
  2. Bauelementanordnung nach Anspruch 1, bei der eine thermische Übertragungsstrecke zwischen der vorgegebenen Position (20) in dem Halbleiterkörper (100) und einer Position des Temperatursensors (10) eine thermische Übertragungsfunktion mit einem Tiefpassverhalten aufweist und bei der das Tiefpassfilter eine zu dem Tiefpassverhalten der thermischen Übertragungsstrecke entsprechendes Verhalten aufweist.
  3. Bauelementanordnung nach Anspruch 1 oder 2, bei dem die Temperaturmessanordnung (10, 40, 50) in dem Halbleiterkörper (100) integriert ist.
  4. Bauelementanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem der Regelverstärker (40) als Operationsverstärker ausgebildet ist.
  5. Bauelementanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem das Tiefpassfilter (50) als FIR-Filter realisiert ist.
  6. Bauelementanordnung nach einem Ansprüche 1 bis 4, bei dem das Tiefpassfilter (50) als IIR-Filter realisiert ist.
  7. Verfahren zur Ermittlung der Temperatur an einer vorgegebenen Position (20) in einem Halbleiterkörper (100), das folgende Verfahrensschritte umfasst: – Ermitteln der Temperatur an einer zu der bestimmten Position (20) beabstandeten Position und Bereitstellen eines von dieser Temperatur abhängigen Temperatursignals (V10), – Ermitteln einer thermischen Übertragungsfunktion zwischen der bestimmten Position (20) und Position der Temperaturermittlung, – Bereitstellen eines Filters (50) für ein elektrisches Eingangssignals, das eine der thermischen Übertragungsfunktion entsprechende Übertragungsfunktion aufweist, – Einspeisen eines Regelsignals (V40) in das Filter (40), das von einem Vergleich des Temperatursignals (V10) mit einem Ausgangssignal (V50) des Filters (50) abhängig ist und Bereitstellen dieses Regelsignals (V40) oder eines von diesem Regelsignal abhängigen Signals als ein von der Temperatur an der bestimmten Position (20) abhängiges Temperatursignal.
  8. Verfahren nach Anspruch, bei dem das Regelsignal (V40) abhängig ist von einer Differenz zwischen dem Temperatursignal (V10) und dem Ausgangssignal (V50) des Tiefpassfilters (50).
  9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, bei dem das Tiefpassfilter ein FIR-Filter ist.
  10. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, bei dem das Tiefpassfilter ein IIR-Filter ist.
DE102006002904A 2006-01-20 2006-01-20 Bauelementanordnung und Verfahren zur Ermittlung der Temperatur in einem Halbleiterbauelement Expired - Fee Related DE102006002904B4 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006002904A DE102006002904B4 (de) 2006-01-20 2006-01-20 Bauelementanordnung und Verfahren zur Ermittlung der Temperatur in einem Halbleiterbauelement
US11/655,749 US7448797B2 (en) 2006-01-20 2007-01-19 Component arrangement and method for determining the temperature in a semiconductor component

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006002904A DE102006002904B4 (de) 2006-01-20 2006-01-20 Bauelementanordnung und Verfahren zur Ermittlung der Temperatur in einem Halbleiterbauelement

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102006002904A1 true DE102006002904A1 (de) 2007-08-02
DE102006002904B4 DE102006002904B4 (de) 2008-11-27

Family

ID=38268045

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102006002904A Expired - Fee Related DE102006002904B4 (de) 2006-01-20 2006-01-20 Bauelementanordnung und Verfahren zur Ermittlung der Temperatur in einem Halbleiterbauelement

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7448797B2 (de)
DE (1) DE102006002904B4 (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1937037A2 (de) * 2006-12-21 2008-06-25 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Verfahren zur Bestimmung der Temperatur am Tc-Punkt eines Vorschaltgerätes sowie Vorschaltgerät
DE102008011816A1 (de) * 2008-02-29 2009-09-10 Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale Temperaturüberwachung in einem Halbleiterbauelement unter Anwendung eines pn-Übergangs auf der Grundlage von Silizium/Germaniummaterial
WO2010045124A2 (en) * 2008-10-13 2010-04-22 Apple Inc. A method for estimating temperature at a critical point
US8315746B2 (en) 2008-05-30 2012-11-20 Apple Inc. Thermal management techniques in an electronic device

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8057094B2 (en) * 2007-11-16 2011-11-15 Infineon Technologies Ag Power semiconductor module with temperature measurement
US8301408B2 (en) 2010-03-09 2012-10-30 Invensys Systems, Inc. Temperature prediction transmitter
RU2506548C1 (ru) * 2012-06-08 2014-02-10 Федеральное государственное военное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Военный авиационный инженерный университет" (г. Воронеж) Министерства обороны Российской Федерации Цифровой измеритель скорости изменения температуры
US9923363B2 (en) * 2012-07-23 2018-03-20 Yamaha Corporation Temperature measurement device and protective device for acoustic signal converter
CN107562978B (zh) * 2017-07-05 2020-12-29 上海交通大学 热阻抗拓扑结构以及热功率滤波器
US10788376B2 (en) * 2017-09-27 2020-09-29 Silicon Laboratories Inc. Apparatus for sensing temperature in electronic circuitry and associated methods
US20220018720A1 (en) * 2020-07-20 2022-01-20 Dana Tm4 Inc. Sensing junction temperature of power transistors

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1285841A1 (de) * 2001-08-17 2003-02-26 Delphi Technologies, Inc. Aktive Temperaturschätzung für elektrische Maschinen

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5724865A (en) * 1980-06-13 1982-02-09 Lucas Industries Ltd Method of and apparatus for measuring resistance
US4475823A (en) * 1982-04-09 1984-10-09 Piezo Electric Products, Inc. Self-calibrating thermometer
DE20315053U1 (de) * 2003-09-29 2003-12-11 Infineon Technologies Ag Bauelementanordnung mit einem Leistungs-Halbleiterbauelement und einer Defekterkennungsschaltung
US7322743B2 (en) * 2005-07-25 2008-01-29 Caterpillar Inc. Temperature measurement system and method
KR100832029B1 (ko) * 2006-09-28 2008-05-26 주식회사 하이닉스반도체 온도 정보 출력 장치 및 그를 갖는 반도체 소자

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1285841A1 (de) * 2001-08-17 2003-02-26 Delphi Technologies, Inc. Aktive Temperaturschätzung für elektrische Maschinen

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1937037A2 (de) * 2006-12-21 2008-06-25 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Verfahren zur Bestimmung der Temperatur am Tc-Punkt eines Vorschaltgerätes sowie Vorschaltgerät
EP1937037A3 (de) * 2006-12-21 2011-01-12 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Verfahren zur Bestimmung der Temperatur am Tc-Punkt eines Vorschaltgerätes sowie Vorschaltgerät
DE102008011816A1 (de) * 2008-02-29 2009-09-10 Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale Temperaturüberwachung in einem Halbleiterbauelement unter Anwendung eines pn-Übergangs auf der Grundlage von Silizium/Germaniummaterial
US8796807B2 (en) 2008-02-29 2014-08-05 Advanced Micro Devices, Inc. Temperature monitoring in a semiconductor device by using a PN junction based on silicon/germanium materials
DE102008011816B4 (de) * 2008-02-29 2015-05-28 Advanced Micro Devices, Inc. Temperaturüberwachung in einem Halbleiterbauelement unter Anwendung eines pn-Übergangs auf der Grundlage von Silizium/Germaniummaterial
US8315746B2 (en) 2008-05-30 2012-11-20 Apple Inc. Thermal management techniques in an electronic device
US8554389B2 (en) 2008-05-30 2013-10-08 Apple Inc. Thermal management techniques in an electronic device
WO2010045124A2 (en) * 2008-10-13 2010-04-22 Apple Inc. A method for estimating temperature at a critical point
WO2010045124A3 (en) * 2008-10-13 2011-01-06 Apple Inc. A method for estimating temperature at a critical point
US9546914B2 (en) 2008-10-13 2017-01-17 Apple Inc. Method for estimating temperature at a critical point

Also Published As

Publication number Publication date
DE102006002904B4 (de) 2008-11-27
US20070200193A1 (en) 2007-08-30
US7448797B2 (en) 2008-11-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102006002904B4 (de) Bauelementanordnung und Verfahren zur Ermittlung der Temperatur in einem Halbleiterbauelement
DE19841202C1 (de) Temperatursensor
DE602005005822T2 (de) Schaltkreis und adaptives Verfahren zum Antrieb einer Halbbrückenschaltung
DE102009061841B3 (de) Halbleiterchip
DE102007058740B4 (de) Schaltungsanordnung mit einer Überstromsicherung
DE102017107523A1 (de) Elektronische Schalt- und Schutzschaltung
DE69931120T2 (de) Temperaturerfassung in einem spannungsgesteuerten Halbleiter-Bauelement
DE102017107522A1 (de) Elektronische Schalt- und Schutzschaltung mit Testbetriebsfunktion
EP0623257A1 (de) Monolithisch integriertes mos-endstufenbauteil mit einer überlast-schutzeinrichtung.
DE102014100528A1 (de) Verfahren zum ansteuern einer last
EP2565608B1 (de) Halbleiterbauelement in Chipbauweise
DE102014216610A1 (de) Überwachung einer Spule
WO2014060330A1 (de) Verfahren und einrichtung zur messung eines stroms durch einen schalter
EP2616827A1 (de) Vorrichtung zur betriebsparameter-überwachung integrierter schaltkreise und integrierter schaltkreis mit betriebsparameter-überwachung
EP2905901B1 (de) Schaltungsanordnung und Verfahren zur Erfassung einer Kapazität und/oder einer Kapazitätsänderung eines kapazitiven Bauelements
DE102012214717A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Leistungssteuerung oder Spannungssteuerung eines elektrischen Verbrauchers
EP1026569B1 (de) Spannungsregler
DE112011102591T5 (de) Einrichtung zum Erhöhen einer Temperatur und Verfahren zum Testen bei erhöhter Temperatur
DE102016206590A1 (de) Verfahren zum Ermitteln einer Temperatur eines Transistors, Steuergerät und Schaltvorrichtung
DE102012006009A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung einer Sperrschichttemperatur eines Halbleiterbauelements
EP3380821A1 (de) Halbleiterbauelement mit einem ersten temperaturmesselement sowie verfahren zum bestimmen eines durch ein halbleiterbauelement fliessenden stromes
DE102008053064B3 (de) Verfahren zur Temperaturüberwachung
DE102016105506A1 (de) Temperaturmessvorrichtung
DE10132452A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Messen von Betriebstemperaturen eines elektrischen Bauteils
EP3640652A1 (de) Verfahren zum betrieb eines batteriesensors und batteriesensor

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee