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GEBIET DER
ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung
zum Bilden mehrerer Laserstrahlen mit einer Wellenlänge im Ultraviolett
und auf eine Laser-Bearbeitungsvorrichtung.
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Als
Laser zur Verwendung in einer Laser-Bearbeitungsvorrichtung zum
Bearbeiten von Leiterplatten werden hauptsächlich CO2-Laser
und Ultraviolett-Laser verwendet. Im Allgemeinen werden CO2-Laser zum Herausarbeiten von Löchern, deren Durchmesser
nicht kleiner als 50 μm
ist, verwendet, während
Ultraviolett-Laser zum Herausarbeiten von Löchern, deren Durchmesser nicht
größer als
50 μm ist,
verwendet werden.
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In
den letzten Jahren ist mit der Zunahme der Einbaudichte von elektronischen
Teilen gefordert worden, Löcher,
deren Durchmesser nicht größer als 50 μm sind, bei
hoher Geschwindigkeit herauszuarbeiten. Folglich besteht ein zunehmender
Bedarf an Ultraviolett-Lasern mit hoher Leistung und hoher Wiederholbarkeit
(beispielsweise mit einer mittleren Ausgangsleistung von mindestens
10 W und einer Impulsfolgefrequenz von mindestens 100 kHz).
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Wenn
ein Ultraviolett-Laserstrahl erzeugt wird, wird ein nichtlinearer
optischer Kristall wie etwa ein LBO-(Lithiumtriborat; chemische
Formel LiB3O5)-Kristall
oder ein CLBO-(Cäsium-Lithium-Borat;
chemische Formel CsLiB6O10)-Kristall
als Wellenlängen-Umsetzungsvorrichtung
verwendet, um einen Laserstrahl mit einer Wellenlänge im nahen
Infrarot in einen Laserstrahl mit einer Wellenlänge im Ultraviolett umzusetzen.
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3 ist ein Konfigurationsdiagramm
einer Ultraviolett-Laserausgangsvorrichtung im Stand der Technik
zur Verwendung in einer Laserperforationsvorrichtung.
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Eine
Ultraviolett-Laserausgangsvorrichtung 100 ist durch einen
Laseroszillator 1 und eine Laserbildungseinheit 50 gebildet.
Der Laseroszillator 1 (z. B. ein Festkörperlaser, der Nd-(Neodym)-Ionen
als Verstärkungsmedium
verwendet) gibt einen impulsförmigen
Laserstrahl 2a aus (der im Folgenden als "Grundwelle" bezeichnet wird),
der eine Nahinfrarot-Wellenlänge
von 0,7–2 μm (1,064 μm bei dem Festkörperlaser,
der Nd-Ionen als Verstärkungsmedium
verwendet) aufweist und eine hohe mittlere Ausgangsleistung besitzt.
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Eine
Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 3 der
Laserbildungseinheit 50 setzt einen Teil des in sie eingegebenen
Laserstrahls 2a in eine zweite Harmonische 2b um,
deren Wellenlänge
gleich der halben Wellenlänge
des Laserstrahls 2a ist. Eine Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 setzt
die Grundwelle 2a und die zweite Harmonische 2b in
eine dritte Harmonische 2t (die im Folgenden als "Ultraviolett-Laserstrahl" bezeichnet wird)
um, deren Wellenlänge gleich
einem Drittel der Wellenlänge
des Laserstrahls 2a ist. Eine Wellenlängentrennvorrichtung 5 trennt
einen in sie eingegebenen Laserstrahl in den Ultraviolett-Laserstrahl 2t und
den anderen Laserstrahl 7 (der die Grundwelle 2a und
die zweite Harmonische 2b umfasst).
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Als
Nächstes
wird die Funktionsweise der Ultraviolett-Laserausgangsvorrichtung 100 beschrieben.
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Wenn
eine von dem Laseroszillator 1 ausgegebene Grundwelle 2a mit
einer Wellenlänge
im nahen Infrarot durch die Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 3 geht,
wird ein Teil der Grundwelle 2a in eine zweite Harmonische 2b umgesetzt.
Wenn eine Mischwelle 7, zu der die Grundwelle 2a und
die zweite Harmonische 2b gemischt sind, durch die Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 geht,
wird ein Teil der Mischwelle 7 in einen Ultraviolett-Laserstrahl 2t umgesetzt.
Von der Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 wird
eine Mischwelle 8, zu der die Grundwelle 2a, die
zweite Harmonische 2b und der Ultraviolett-Laserstrahl 2t gemischt
sind, ausgegeben. Die Mischwelle 8 wird durch die Wellenlängentrennvorrichtung 5 in
den Ultraviolett-Laserstrahl 2t und den anderen Laserstrahl 7 getrennt.
Danach wird ein zu bearbeitender Abschnitt mit dem Ultraviolett-Laserstrahl 2t bestrahlt,
während
der andere Laserstrahl 7 auf einen Laserdämpfer 6 auftrifft
und in Wärme
umgesetzt wird (Patentdokument 1).
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Bei
einer Bearbeitung, die eine hohe Impulsenergie erfordert, wird der
durch die Wellenlängentrennvorrichtung 5 getrennte
Ultraviolett-Laserstrahl 2t so wie er ist verwendet. Jedoch
wird beim Bearbeiten mit niedriger Impulsenergie der Ultraviolett-Laserstrahl 2t durch
eine Laserverteilungseinheit 9 (beispielsweise einen Strahlenteiler)
in n Zweigstrahlen 2td geteilt, wie in 3 gezeigt ist. Die Bearbeitung wird durch
jeden Zweigstrahl 2td ausgeführt.
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Die
Leistung der Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 verschlechtert
sich durch das Auftreffen von Laserstrahlen graduell. Daher wird
beispielsweise die Mantelfläche
der Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 im
Vergleich zur Fleckgröße (spot
size) eines auftreffenden Strahls hinreichend vergrößert, wobei
die Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 auf einem
Tisch, der senkrecht zur optischen Achse des Strahls verstellbar
ist, angeordnet ist. Wenn die sich Leistung der Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 verschlechtert,
wird eine neue Fläche
von dieser an der optischen Achse angeordnet, um eine Verschlechterung
des Bearbeitungswirkungsgrads zu vermeiden (Patentdokument 2).
- Patentdokument 1:
Japanische Patentoffenlegungsschrift
Nr. 2004-220051
- Patentdokument 2:
Japanische Patentoffenlegungsschrift
Nr. 2004-022946
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Ein
Kristall zum Erzeugen von Ultraviolettstrahlen muss dadurch gekennzeichnet
sein, dass die Selbsterwärmung,
die durch die Absorption von Ultraviolettstrahlen, die in dem Kristall
erzeugt werden, hervorgerufen wird, gering ist und dass die abgebende
Oberfläche
des Kristalls durch die Ultraviolettstrahlen kaum beschädigt wird.
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Wenn
die mittlere Ausgangsleistung eines auf eine Wellenlängenumsetzungsvorrichtung
auftreffenden Laserstrahls niedrig ist oder wenn die Wellenlänge des
ausgegebenen Laserstrahls im Bereich des Sichtbaren liegt, besteht
kein Problem hinsichtlich eines durch das Absorbieren des Laserstrahls hervorgerufenen
Temperaturanstiegs in der Wellenlängenumsetzungsvorrichtung.
Wenn der Wert des Temperaturanstiegs infolge eines mehrfach wiederholten
Auftreffens eines Laserstrahls mit einer hohen Ausgangsleistung
einen zulässigen
Wert überschreitet
(z. B. die Ausgangsleistung einige Watt oder einige zehn Watt beträgt und die Wellenlänge in der Nähe des Ultraviolettbandes
liegt), werden Phasenanpassungsbedingungen infolge der Temperaturabhängigkeit
der Brechungszahl des Kristalls außer Kraft gesetzt, so dass
der Umsetzungswirkungsgrad herabgesetzt wird, was dazu führt, dass
sich die Bearbeitungsqualität
verschlechtert. Dieses Phänomen tritt
mit zunehmender Ausgangsleistung des erzeugten Ultraviolett-Laserstrahls
stärker
auf.
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ZUSAMMENFASSUNG
DER ERFINDUNG
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Um
das Problem beim Stand der Technik zu lösen, besteht eine Aufgabe der
Erfindung darin, ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Bilden mehrerer Laserstrahlen
mit einer Wellenlänge
im Ultraviolett und eine Laser-Bearbeitungsvorrichtung zu schaffen, bei
der, um die laufenden Kosten zu senken, der Bearbeitungswirkungsgrad
dank einer einfachen Wartung und Inspektion verbessert werden kann,
während
eine Verschlechterung der Wellenlängenumsetzungsmittel vermieden
werden kann.
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Um
die oben genannte Aufgabe zu lösen,
ist gemäß einer
ersten Konfiguration der Erfindung ein Verfahren zum Bilden mehrerer
Laserstrahlen mit einer Wellenlänge
im Ultraviolett geschaffen, wobei die Laserstrahlen mit einer Wellenlänge im Ultraviolett durch
Wellenlängenumsetzung
eines Laserstrahls mit einer Wellenlänge im nahen Infrarot gebildet
werden, wobei das Verfahren die Schritte umfasst: Teilen eines Laserstrahls
mit einer Wellenlänge
im nahen Infrarot oder jeweils von Laserstrahlen, deren Wellenlänge gleich
der halben Wellenlänge
im nahen Infrarot ist, in mehrere Laserstrahlen sowie einzelnes Umsetzen
von Wellenlänge
der mehreren Zweig-Laserstrahlen, um mehrere Laserstrahlen mit einer
Wellenlänge
im Ultraviolett zu bilden.
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Gemäß einer
zweiten Konfiguration der Erfindung ist eine Vorrichtung zum Bilden
mehrerer Laserstrahlen mit einer Wellenlänge im Ultraviolett geschaffen,
wobei die Vorrichtung umfasst: einen Laseroszillator zum Ausgeben
eines ersten Laserstrahls mit einer Wellenlänge im nahen Infrarot, Teilungsmittel
zum Teilen des ersten Laserstrahls in mehrere erste Zweig-Laserstrahlen,
erste Wellenlängenumsetzungsmittel
zum Umsetzen eines Teils der ersten Zweig-Laserstrahlen in zweite
Laserstrahlen, deren Wellenlänge
gleich der halben Nahinfrarot-Wellenlänge des ersten Laserstrahls
ist, und zweite Wellenlängenumsetzungsmittel
zum Bilden von Laserstrahlen, deren Ultraviolett-Wellenlänge gleich
einem Drittel der Nah infrarot-Wellenlänge des ersten Laserstrahls
ist, aus den zweiten Laserstrahlen, die von den ersten Wellenlängenumsetzungsmitteln
ausgegeben werden, und den ersten Zweig-Laserstrahlen, deren Wellenlänge durch
die ersten Wellenlängenumsetzungsmittel
nicht umgesetzt wird, wobei: nach dem Teilen des ersten Laserstrahls
in mehrere Zweig-Laserstrahlen durch die Teilungsmittel die mehreren
ersten Zweig-Laserstrahlen durch die ersten und die zweiten Wellenlängenumsetzungsmittel einzeln
zu Laserstrahlen mit einer Wellenlänge im Ultraviolett gebildet
werden.
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Gemäß einer
dritten Konfiguration der Erfindung ist eine Vorrichtung zum Bilden
mehrerer Laserstrahlen mit einer Wellenlänge im Ultraviolett geschaffen,
wobei die Vorrichtung umfasst: einen Laseroszillator zum Ausgeben
eines ersten Laserstrahls mit einer Wellenlänge im nahen Infrarot, zwei
Wellenlängenumsetzungsmittel
zum Umsetzen des auf diese auftreffenden ersten Laserstrahls in
einen Laserstrahl, dessen Wellenlänge gleich der halben Nahinfrarot-Wellenlänge des
ersten Laserstrahls ist, und einem Teilungsmittel zum Teilen eines
auftreffenden Laserstrahls in mehrere Laserstrahlen, wobei: der erste
Laserstrahl mit der Wellenlänge
im nahen Infrarot durch eines der Wellenlängenumsetzungsmittel in einen
zweiten Laserstrahl, dessen Wellenlänge gleich der halben Nahinfrarot-Wellenlänge ist,
umgesetzt wird, der zweite Laserstrahl danach durch die Teilungsmittel
in mehrere zweite Zweig-Laserstrahlen geteilt wird und die zweiten
Zweig-Laserstrahlen durch
das andere Wellenlängenumsetzungsmittel
zu Laserstrahlen gebildet werden, deren Ultraviolett-Wellenlänge gleich
der halben Wellenlänge
des zweiten Laserstrahls ist.
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Gemäß einer
vierten Konfiguration der Erfindung ist eine Laser-Bearbeitungsvorrichtung
geschaffen, die umfasst: einen Laseroszillator zum Ausgeben eines
ersten Laserstrahls mit einer Wellenlänge im nahen Infrarot, mehrere
Teile zum Bilden der Vorrichtung zum Bilden mehrerer Laserstrahlen
mit einer Wellenlänge
im Ultraviolett gemäß der dritten oder
der vierten Konfiguration der Erfindung und Laserpositionierungsmittel,
wobei: der vom Laseroszillator ausgegebene erste Nahinfrarot-Wellenlängen-Laserstrahl
durch die Bildungsvorrichtung zu mehreren Laserstrahlen mit einer
Wellenlänge
im Ultraviolett gebildet wird und die mehreren gebildeten Laserstrahlen
mit der Wellenlänge
im Ultraviolett durch die Positionierungsmittel einzeln positioniert werden,
um die Bearbeitung auszuführen.
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Der
Bearbeitungswirkungsgrad kann, um die laufenden Kosten zu senken,
dank einer einfachen Wartung und Inspektion verbessert werden, während eine
Verschlechterung der Wellenlängenumsetzungsmittel
vermieden werden kann.
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KURZBESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNG
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1 ist
ein Konfigurationsdiagramm eines Hauptabschnitts einer Laser-Bearbeitungsvorrichtung
mit einer Wellenlängenumsetzungseinheit
gemäß der Erfindung;
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2 ist
ein Konfigurationsdiagramm eines Hauptabschnitts einer weiteren
Laser-Bearbeitungsvorrichtung
mit einer Wellenlängenumsetzungseinheit
gemäß der Erfindung;
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3 ist
ein Konfigurationsdiagramm einer Ultraviolett-Laserausgangsvorrichtung
im Stand der Technik.
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GENAUE BESCHREIBUNG
DER ERFINDUNG
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Die
Erfindung wird im Folgenden mit Bezug auf die Zeichnung genau beschrieben.
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1 ist
ein Konfigurationsdiagramm eines Hauptabschnitts einer Laser-Bearbeitungsvorrichtung
mit einer Wellenlängenumsetzungseinheit
gemäß der Erfindung.
Teile, die jenen in 3 gleichen oder funktional gleichen,
sind demgemäß mit denselben
Bezugszeichen bezeichnet, wobei deren redundante Beschreibung weggelassen
ist.
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Eine
Laser-Bearbeitungsvorrichtung 200 ist durch eine Ultraviolett-Laserausgangseinheit 300, eine
Laserpositionierungseinheit 20 und eine nicht gezeigte
Werkstückbewegungseinheit,
die in einer Position gegenüber
der Laserpositionierungseinheit 20 angeordnet ist, gebildet.
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Die
Ultraviolett-Laserausgangseinheit 300 ist durch einen Laseroszillator 1 und
eine Laserbildungseinheit 400 gebildet. Der Laseroszillator 1 ist ein
Festkörperlaser,
der Nd-Ionen als Verstärkungsmedium
verwendet und eine impulsförmige
Hochleistungs-Grundwelle 2a im nahen Infrarot mit einer
Wellenlänge
von 1,064 μm
ausgibt.
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Die
Laserbildungseinheit 400 ist durch eine Laserverteilungseinheit 9,
Wellenlän genumsetzungsvorrichtungen 3 und 4,
Wellenlängentrennvorrichtungen 5 und
Laserdämpfer 6 gebildet.
Die Wellenlängenumsetzungsvorrichtungen 3 und 4 sind jeden
auszugebenden Ultraviolett-Laserstrahl vorgesehen, wie weiter unten
beschrieben wird.
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Die
Laserpositionierungseinheit 20 ist beispielsweise durch
ein Paar Galvanometerscanner und eine fθ-Linse gebildet.
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Als
Nächstes
wird die Funktionsweise dieser Ausführungsform beschrieben.
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Die
Grundwelle 2a, die vom Laseroszillator 1 ausgegeben
wird, wird durch die Laserverteilungseinheit 9 in n (n ≥ 2, 3 in 1)
Strahlen 2ad geteilt. Jeder Zweigstrahl 2ad, der
durch die entsprechende Wellenlängenvorrichtung 3 geht,
wird teilweise in eine zweite Harmonische 2b umgesetzt.
Eine Mischwelle 7, zu der die Grundwelle 2a und
die zweite Harmonische 2b gemischt sind, geht durch die
entsprechende Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4, um
teilweise in einen Ultraviolett-Laserstrahl 2td, dessen
Wellenlänge
gleich einem Drittel der Wellenlänge
der Grundwelle 2a ist, umgesetzt zu werden. Eine Mischwelle 8,
zu der die Grundwelle 2a und die zweite Harmonische 2b (d.
h. die Mischwelle 7) sowie der Ultraviolett-Laserstrahl 2td gemischt
sind, wird durch die entsprechende Wellenlängentrennvorrichtung 5 in
den Ultraviolett-Laserstrahl 2td und die Mischwelle 7 getrennt.
Danach wird ein zu bearbeitender Abschnitt mit dem Ultraviolett-Laserstrahl 2td bestrahlt,
während
die Mischwelle 7 auf den entsprechenden Laserdämpfer 6 auftrifft
und in Wärme
umgesetzt wird.
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Jeder
Ultraviolett-Laserstrahl 2td wird zum Bearbeiten eines
Werkstücks
durch die entsprechende Laserpositionierungseinheit 20 in
einer gewünschten
Position positioniert.
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Als
Nächstes
wird die Erfindung unter Verwendung spezifischer Zahlenwerte beschrieben.
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Heutzutage
wird in der Praxis ein Laseroszillator mit einer mittleren Ausgangsleistung
von etwa 20 W als Festkörper-Laseroszillator 1 zum
Ausgeben der Grundwelle 2a mit einer Wellenlänge von
0,7–2 μm verwendet.
Bei einem zu bearbeitenden Abschnitt ist zum Herausarbeiten eines
Lochs mit einem Durchmesser von 50 μm in einem Harzabschnitt einer
Leiterplatte eine Impulsenergiedichte von etwa 1 J/cm2 erforderlich.
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Wenn
beispielsweise ein zu bearbeitender Abschnitt mit einem Ultraviolett-Laserstrahl
mit einer Wellenlänge
von 355 nm bestrahlt wird, genügt
eine Impulsbreite von einigen zehn Nanosekunden und eine Impulsfolgefrequenz
von 50 kHz, falls die mittlere Ausgangsleistung auf 1,5 W festgelegt
ist, um die Energiedichte auf 1 J/cm2 einzustellen.
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Es
sei nun angenommen, dass der Wirkungsgrad beim Umsetzen der Grundwelle 2a in
den Ultraviolett-Laserstrahl 2t 30 % beträgt. Um einen
Ultraviolett-Laserstrahl mit einer mittleren Ausgangsleistung von
15 W zu bilden, ist es ausreichend, wenn der Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 3 die Grundwelle 2a (1,064
nm in der Wellenlänge)
mit einer mittleren Ausgangsleistung von 5 W zugeführt wird.
Wenn als Laseroszillator 1 beispielsweise ein Laseroszillator
mit einer mittleren Ausgangsleistung von 20 W verwendet wird, können drei
oder vier Ultraviolett-Laserstrahlen gleichzeitig gebildet werden.
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Wenn
die mittlere Leistung der auftreffenden Grundwelle 2a etwa
5 W beträgt,
ist der Temperaturanstieg in jeder Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 3, 4 so
gering, dass deren Umsetzungsleistung kaum herabgesetzt wird. Wenn
die Erfindung angewandt wird, sind dementsprechend die Lebensdauern
der Wellenlängenumsetzungsvorrichtungen 3 und 4 verlängert, so
dass der Bearbeitungswirkungsgrad verbessert werden kann und die
laufenden Kosten gesenkt werden können.
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Zum
anderen besteht beim Ausführen
derselben Bearbeitung im Stand der Technik erfahrungsgemäß kein Problem
hinsichtlich der Lebensdauer der Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 3,
jedoch besitzt die Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 eine
kurze Lebensdauer. Es ist daher notwendig, die Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 häufig durch eine
neue auszutauschen, so dass sich der Bearbeitungswirkungsgrad verschlechtert.
Außerdem
kann die Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 bei
gewisser Art der Verwendung beschädigt werden.
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[Ausführungsform 2]
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2 ist
ein Konfigurationsdiagramm eines Hauptabschnitts einer Laser-Bearbeitungsvorrichtung
mit einer Wellenlängenumsetzungseinheit
gemäß einer
zweiten Ausführungsform
der Erfindung. Teile, die jenen in den 1 und 3 gleichen
oder funktional gleichen, sind demgemäß mit denselben Bezugszeichen
bezeichnet, wobei deren redundante Beschreibung weggelassen ist.
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In
dieser Ausführungsform
ist eine Anzahl von Wellenlängenumsetzern
vorgesehen, die um eins größer ist
als die Anzahl von auszugebenden Ultraviolett-Laserstrahlen.
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Als
Nächstes
wird die Funktionsweise dieser Ausführungsform beschrieben.
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Eine
von einem Laseroszillator 1 ausgegebene Grundwelle 2a wird
durch eine Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 3 teilweise
in eine zweite Harmonische 2b umgesetzt. Eine Mischwelle 7,
zu der die Grundwelle 2a und die zweite Harmonische 2b gemischt
sind, wird durch eine Wellenlängentrennvorrichtung 5 in
die zweite Harmonische 2b und die Grundwelle 2a getrennt.
Die zweite Harmonische 2b trifft auf eine Laserverteilungseinheit 9 auf
und wird in n (n ≥ 2,
3 in 2) zweite Harmonische 2bd geteilt. Die
Grundwelle 2a trifft auf einen Laserdämpfer 6 auf und wird
in Wärme
umgesetzt.
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Jede
zweite Zweigharmonische 2bd wird durch eine entsprechende
Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4 teilweise
in eine vierte Harmonische 2fb, deren Wellenlänge gleich
einem Viertel der Wellenlänge
der Grundwelle 2a ist, umgesetzt (die Wellenlänge der
vierten Harmonischen 2fb beträgt 266 nm, wenn die Wellenlänge der
Grundwelle 2a 1,064 nm beträgt). Ein Laserstrahlausgang
von jeder Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 4,
zu der die zweite Harmonische 2bd und die vierte Harmonische 2fd gemischt
sind, wird durch eine entsprechende Wellenlängentrennvorrichtung 5 in
die vierte Harmonische 2fd und die zweite Harmonische 2bd getrennt.
Danach wird ein zu bearbeitender Abschnitt mit der vierten Harmonischen 2fd bestrahlt,
während die
zweite Harmonische 2bd auf einen entsprechenden Laserdämpfer 6 auftrifft
und in Wärme
umgesetzt wird.
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Die
vierte Harmonische 2fd besitzt eine Bearbeitungsleistung,
die gleich jener der dritten Harmonischen 2td oder größer als
jene ist. Es ist daher möglich,
die Bearbeitungsleistung zu verbessern.
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Der
gesamte Grundwellen-2a-Ausgang vom Laseroszillator 1 trifft
auf die Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 3 auf.
Da die zweite Harmonische 2b von der Wel lenlängenumsetzungsvorrichtung 3 ausgegeben
wird, wird jedoch auch dann, wenn die auftreffende Grundwelle 2a eine
hohe mittlere Ausgangsleistung besitzt, keine thermische Beschädigung verursacht.
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In
den oben erwähnten
zwei Ausführungsformen
ist die Beschreibung für
den Fall ausgeführt
worden, in dem zu bearbeitenden Abschnitten drei Ultraviolett-Laserstrahlen
zugeführt
werden. Jedoch kann die Anzahl von Ultraviolett-Laserstrahlen, die
zu bearbeitenden Abschnitten zugeführt werden, erhöht werden,
sofern die mittlere Ausgangsleistung des Laseroszillators 1 erhöht werden
kann.
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In
der zweiten Ausführungsform
kann dann, wenn die mittlere Ausgangsleistung des Laseroszillators 1 größer als
die Kapazität
der Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 3 ist,
eine Laserverteilungseinheit 9 zwischen den Laseroszillator 1 und
die Wellenlängenumsetzungsvorrichtung 3 geschaltet
werden.
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Beim
Bearbeiten einer Leiterplatte durch einen Laserstrahl beträgt dessen
Wellenlänge
in der Praxis 0,19–0,4 μm. Demgemäß wird in
der Praxis ein Laseroszillator, der einen Laserstrahl mit einer Wellenlänge von
0,76–1,6 μm ausgibt,
als Nahinfrarot-Laser verwendet.