DE102005048375A1 - Device for illuminating an aperture plate of an optical system e.g. microscope comprises a source which releases an optical bean bundle and a diffractive element arranged in the beam path from the source to the aperture plate - Google Patents
Device for illuminating an aperture plate of an optical system e.g. microscope comprises a source which releases an optical bean bundle and a diffractive element arranged in the beam path from the source to the aperture plate Download PDFInfo
- Publication number
- DE102005048375A1 DE102005048375A1 DE200510048375 DE102005048375A DE102005048375A1 DE 102005048375 A1 DE102005048375 A1 DE 102005048375A1 DE 200510048375 DE200510048375 DE 200510048375 DE 102005048375 A DE102005048375 A DE 102005048375A DE 102005048375 A1 DE102005048375 A1 DE 102005048375A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- diffractive element
- pupil
- illumination
- optical
- source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 45
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 title abstract 2
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 title abstract 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 3
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 53
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/06—Means for illuminating specimens
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/16—Microscopes adapted for ultraviolet illumination ; Fluorescence microscopes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/001—Axicons, waxicons, reflaxicons
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1866—Transmission gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/32—Holograms used as optical elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Erzeugung einer vorbestimmten Ausleuchtung einer Pupille eines optischen Systems. Bisher wird bei optischen Systemen (wie z.B. ein Mikroskop) die Pupillenausleuchtung mittels einer Kreis- oder Irisblende eingestellt. Das bedeutet, daß beispielsweise die Formung der Lichtverteilung dadurch erreicht wird, daß das Licht für die nicht gewollte Raumwinkel weggeschnitten bzw. abgeschattet wird. Das führt zu unerwünschten Lichtverlusten.The The invention relates to an apparatus and a method for producing a predetermined illumination of a pupil of an optical system. So far In the case of optical systems (such as a microscope), the pupil illumination becomes set by means of a circular or iris diaphragm. That means, that, for example the shaping of the light distribution is achieved in that the light for the unwanted solid angle is cut away or shadowed. Leading too unwanted Light losses.
Ausgehend hiervon ist es Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Erzeugung einer vorbestimmten Ausleuchtung einer Pupille eines optischen Systems bereitzustellen, bei denen möglichst wenig optische Strahlung mittels Blenden abzuschatten ist, um die vorbestimmte Ausleuchtung zu erzielen.outgoing It is the object of the invention to provide a device and a method for generating a predetermined illumination of a pupil of a provide optical system where as little as possible optical radiation shade by means of apertures to the predetermined illumination to achieve.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gelöst durch eine Vorrichtung zur Erzeugung einer vorbestimmten Ausleuchtung einer Pupille eines optischen Systems mit einer Quelle, die ein optisches Strahlenbündel abgibt, und einem diffraktiven Element, das in einem Strahlengang von der Lichtquelle bis zur Pupille angeordnet ist und das optische Strahlenbündel so beugt, daß die gewünschte Ausleuchtung der Pupille vorliegt. Unter Ausleuchtung wird hier insbesondere die räumliche Energieverteilung und damit die örtliche und winkelmäßige Verteilung der Strahlenfeldes über den gesamten Strahlquerschnitt in der Pupille verstanden. Dies schließt insbesondere auch die Fälle ein, daß sich die räumliche Energieverteilung von Ort zu Ort ändert und daß sich auch die Winkelverteilung von Ort zu Ort unterscheiden kann. Ferner kann die Phasenlage bezogen auf eine Referenz und/oder die Polarisation ortsabhängig sein.According to the invention Task solved by a device for generating a predetermined illumination a pupil of an optical system with a source, the one optical beam emits, and a diffractive element, in a beam path is arranged from the light source to the pupil and the optical ray beam so bows that the desired Illumination of the pupil is present. Under illumination will be here especially the spatial Energy distribution and thus the local and angular distribution the radiation field over understood the entire beam cross section in the pupil. This includes in particular also the cases a, that yourself the spatial Energy distribution changes from place to place and that too can differentiate the angular distribution from place to place. Furthermore, the Phase relation relative to a reference and / or the polarization be location-dependent.
Durch den Einsatz eines diffraktiven Elementes wird vorteilhaft die Strahlung in gewünschter Weise umgelenkt, ohne abgeschattet zu werden, so daß die vorbestimmte Pupillenausleuchtung erreicht werden kann, ohne daß ein großer Teil der optischen Strahlung mittels Blenden abgeschattet werden muß. Insbesondere nutzt die Vorrichtung zur Ausleuchtung der Pupille zumindest eine vorbestimmte, nicht-nullte Beugungsordnung des diffraktiven Elementes. Dabei kann das diffraktive Element bezüglich der zumindest einen vorbestimmten Beugungsordnung optimiert sein, so daß eine möglichst große Beugungseffizienz bezüglich dieser zumindest einen vorbestimmten Beugungsordnung vorliegt. Dazu kann z.B. das diffraktive Element geblazet sein.By the use of a diffractive element is advantageous the radiation in the desired Way deflected without being shaded, so that the predetermined pupil illumination can be achieved without a greater Part of the optical radiation are shaded by aperture got to. Especially the device for illuminating the pupil uses at least one predetermined, non-zero diffraction order of the diffractive element. In this case, the diffractive element with respect to the at least one predetermined Beugungsordnung be optimized so that the greatest possible diffraction efficiency with respect to this at least one predetermined diffraction order is present. This can e.g. the diffractive element has blazed.
Zwischen dem diffraktiven Element und der Pupille kann ein abbildendes Optikmodul vorgesehen sein. Insbesondere kann das Optikmodul als Kollimator und/oder Zoomsystem wirken. Damit kann weiterer Einfluß auf die Ausleuchtung der Pupille genommen werden.Between the diffractive element and the pupil may be an imaging optical module be provided. In particular, the optical module as a collimator and / or zoom system act. This can further influence on the Illumination of the pupil be taken.
In der Pupille kann eine Blende zur Abschattung der nullten Beugungsordnung des diffraktiven Elementes angeordnet sein. Damit wird vorteilhaft verhindert, daß die nullte Beugungsordnung unerwünschterweise in den der Pupille nachfolgenden Strahlengang gelangt.In The pupil may be an aperture for shading the zeroth order of diffraction be arranged of the diffractive element. This is advantageously prevented that the zeroth diffraction order unwanted in the pupil subsequent beam path passes.
Das diffraktive Element kann entlang des Strahlengangs verschiebbar angeordnet sein. Insbesondere ist dazu ein Aktuator zum Verschieben des diffraktiven Elementes vorhanden. Damit können unterschiedliche vorbestimmte Ausleuchtungen der Pupille realisiert werden.The diffractive element can be displaced along the beam path be arranged. In particular, this is an actuator for moving of the diffractive element present. This can be different predetermined Illuminations of the pupil can be realized.
Das diffraktive Element kann eine laterale Verschiebungsinvarianz aufweisen. Dies erleichtert die Justierung des diffraktiven Elements im Strahlengang. Dies kann beispielsweise bei einem Beugungsgitter zur Erzeugung einer Dipolbeleuchtung bzw. -ausleuchtung gegeben sein. Das Beugungsgitter kann z.B. zwei unterschiedliche Perioden für zwei unterschiedliche Beugungswinkel (z.B. der gleichen Beugungsordnung für beide Perioden) aufweisen, wobei das Beugungsgitter als Blaze-Gitter zur Minimierung der 0.-ten Beugungsordnung ausgebildet sein kann. Die genutzte Beugungsordnung der beiden Perioden kann beispielsweise die +1.-te oder –1.-te Beugungsordnung sein. Wenn mit dem Beugungsgitter eine Dipolbeleuchtung erzeugt wird, ist bevorzugt nur darauf zu achten, daß das diffraktive Element aus Symmetriegründen senkrecht im Strahlengang steht und die gewollte Orientierung hat.The diffractive element may have a lateral displacement invariance. This facilitates the adjustment of the diffractive element in the beam path. This can, for example, in a diffraction grating for the production be given a dipole lighting or illumination. The diffraction grating can e.g. two different periods for two different diffraction angles (e.g., the same diffraction order for both periods), wherein the diffraction grating as a blaze grating to minimize the 0.-th order of diffraction can be trained. The used diffraction order of the two periods may be, for example, the + 1st or -1st order of diffraction. When creating a dipole illumination with the diffraction grating, is preferred only to make sure that the diffractive element symmetry is perpendicular to the beam path and has the intended orientation.
Das diffraktive Element kann senkrecht zur optischen Achse des Strahlengangs angeordnet sein. Es ist jedoch auch möglich, daß das diffraktive Element nicht senkrecht zur optischen Achse des Strahlengangs angeordnet ist. In diesem Fall kann vorteilhaft erreicht werden, daß die nullte Beugungsordnung nicht in die Pupille gelangt. Man kann dann auf die zentrale Abschattungsblende für die nullte Beugungsordnung verzichten.The diffractive element can be perpendicular to the optical axis of the beam path be arranged. However, it is also possible that the diffractive element is not is arranged perpendicular to the optical axis of the beam path. In this case, it can be advantageously achieved that the zeroth Diffraction order does not get into the pupil. You can then go on the central shading stop for the zeroth diffraction order without.
Das diffraktive Element kann als transmissives oder reflektives Element ausgebildet sein. Wenn es als reflektives Element ausgebildet ist, führt es zu einer Faltung des Strahlengangs, wodurch die Vorrichtung insgesamt kompakt ausgebildet werden kann.The diffractive element can act as a transmissive or reflective element be educated. If it is designed as a reflective element, Lead it to a folding of the beam path, whereby the device as a whole can be made compact.
Ferner kann im Strahlengang zumindest eine Blende zur Beeinflussung der geometrischen Form der Ausleuchtung und/oder des Winkelspektrums der Ausleuchtung angeordnet sein.Furthermore, in the beam path at least one aperture for influencing the geometric shape of the illumination and / or the angular spectrum of the Illumination be arranged.
Die Blende kann so ausgebildet sein, daß ihre Blendengeometrie bzw. die Form, Anordnung, Ausrichtung und/oder Anzahl der Blendenöffnungen einstellbar und veränderbar ist. Insbesondere kann sie elektronisch ansteuerbar und einstellbar sein. Dazu kann die Blende beispielsweise als ansteuerbarer Flüssigkristallfilter für Strahlung mit einer Wellenlänge vorzugsweise im sichtbaren Wellenlängenbereich oder Infrarotbereich ausgebildet sein. Es ist auch möglich, eine Kippspiegelmatrix vorzusehen, bei der eine Vielzahl von einzelnen Kippspiegeln bevorzugt in Zeilen und Spalten angeordnet und individuell ansteuerbar sind. Damit kann der Strahlengang örtlich selektiv den Strahlquerschnitt abknicken, so daß somit eine Filterung bzw. örtliche Einstellung der Blendengeometrie erfolgen kann.The Aperture can be designed so that their aperture geometry or the shape, arrangement, orientation and / or number of apertures adjustable and changeable is. In particular, it can be electronically controlled and adjustable be. For this purpose, the aperture, for example, as a controllable liquid crystal filter for radiation with one wavelength preferably in the visible wavelength range or infrared range be educated. It is also possible, to provide a tilting mirror array in which a plurality of individual Tilt mirrors preferably arranged in rows and columns and individually are controllable. Thus, the beam path locally selectively the beam cross section bend so that so a filtering or local Adjustment of the diaphragm geometry can be done.
Es kann ferner ein Wechsler vorgesehen sein, der mindestens zwei unterschiedliche Blenden enthält und selektiv eine der Blenden in den Strahlengang einbringen kann. Damit kann automatisch eine Änderung der Blendengeometrie durch Auswechseln der Blende durchgeführt werden.It Furthermore, a changer may be provided which has at least two different ones Contains diaphragms and selectively introduce one of the diaphragms in the beam path. This can automatically change the aperture geometry can be performed by replacing the aperture.
Ferner kann auch ein Wechsler für das diffraktive Element vorgesehen sein, wobei in diesem Fall der Wechsler ebenfalls unterschiedliche diffraktive Elemente enthält, die er selektiv in den Strahlengang anordnen kann. Damit ist ein automatisches Auswechseln des diffraktiven Elements und somit ein automatisches Ändern der Pupillenausleuchtung möglich.Further can also have a changer for the diffractive element may be provided, in which case the Changer also contains different diffractive elements, the he can selectively arrange in the beam path. This is an automatic replacement of the diffractive element and thus an automatic change of Pupil illumination possible.
Ferner können mehrere diffraktive Elemente hintereinander angeordnet sein. So können die diffraktiven Elemente beispielsweise als Hologramme ausgebildet sein. Mit zwei Hologrammen ist es grundsätzlich möglich, aus einer beliebigen bekannten räumlichen Energieverteilung eine andere beliebig vorgegebene Energieverteilung (bezogen auf die räumliche Verteilung und die Winkelverteilung) zu erzeugen. Dabei muß der Fachmann lediglich die Parameter für die beugenden Strukturen und der räumlichen Anordnung der beiden Hologramme gemäß seinem Fachwissen geeignet wählen.Further can several diffractive elements can be arranged one behind the other. So can the diffractive elements formed for example as holograms be. With two holograms it is possible in principle, from any one known spatial Energy distribution another arbitrary predetermined energy distribution (related to the spatial Distribution and the angular distribution). In this case, the expert only the parameters for the diffractive structures and the spatial arrangement of the two Holograms according to his Choose appropriate expertise.
Die Quelle zur Erzeugung des optischen Strahlenbündels kann insbesondere eine Quelle zur Erzeugung kohärenter Strahlung sein. Die Quelle kann Strahlung im fernen oder nahen Infrarotbereich, im sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich (bis 100 nm) oder auch darunter im Bereich liegen, der in der Halbleiterlithographie als EUV-Bereich bezeichnet wird.The A source for generating the optical beam can in particular a Source for generating coherent Be radiation. The source may be far or near infrared radiation, in the visible and ultraviolet spectral range (up to 100 nm) or are also in the range, which in semiconductor lithography is referred to as the EUV area.
Die Vorrichtung kann zusammen mit dem optischen System eine Beleuchtungseinrichtung bilden. Insbesondere bildet sie eine Mikroskop-Beleuchtungseinrichtung. Es wird dann eine Beleuchtungseinrichtung bereitgestellt, bei der die Ausleuchtung der Pupille gemäß einer vorbestimmten Ausleuchtung verwirklicht werden kann, ohne allzu große Lichtverluste in Kauf nehmen zu müssen.The Device may together with the optical system, a lighting device form. In particular, it forms a microscope illumination device. There is then provided a lighting device in which the illumination of the pupil according to a predetermined illumination can be realized without too much big light losses to have to accept.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe noch gelöst durch ein Verfahren zur Erzeugung einer vorbestimmten Ausleuchtung einer Pupille eines optischen Systems, bei dem ein optisches Strahlenbündel erzeugt und so gebeugt wird, daß die gewünschte Ausleuchtung der Pupille vorliegt.According to the invention Task still solved by a method for generating a predetermined illumination a pupil of an optical system in which generates an optical beam and is bent so that the desired Illumination of the pupil is present.
Die Erfindung wird nachfolgend beispielshalber anhand von Zeichnungen noch näher erläutert. Es zeigen:The The invention will be described by way of example with reference to drawings even closer explained. It demonstrate:
Bei
der in
Dem
diffraktiven Element
Das
mittels dem diffraktiven Element
Die
Zoomoptik
In
Die
Beleuchtungseinrichtung umfaßt
zusätzlich
zu den in Verbindung mit
In
Im
Unterschied zu der Vorrichtung von
Das
diffraktive Element
Bei
der beschriebenen Ausführungsform
ist das diffraktive Element
Ferner
ist es möglich,
daß auch
das diffraktive Element
Wird die Pupille noch mit einem geeigneten prismenartigen Ring versehen, so wird auch die Neigung des Kegelbündels korrigiert, so daß in der Pupille eine ringförmige Lichtquelle entstanden ist, die in einem gegebenen Winkelbereich, abstrahlt. Die Schwerstrahlen aller dieser Bündel sind beispielsweise symmetrisch zur optischen Achse OA (beispielsweise parallel) angeordnet.Becomes the pupil still provided with a suitable prism-like ring, so also the inclination of the cone bundle is corrected, so that in the Pupil an annular Light source has arisen, which in a given angular range, radiates. The beams of all these bundles are symmetrical, for example to the optical axis OA (for example, parallel) arranged.
In
In
In
In
Die
nachfolgende Optik
Claims (13)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200510048375 DE102005048375A1 (en) | 2005-10-10 | 2005-10-10 | Device for illuminating an aperture plate of an optical system e.g. microscope comprises a source which releases an optical bean bundle and a diffractive element arranged in the beam path from the source to the aperture plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200510048375 DE102005048375A1 (en) | 2005-10-10 | 2005-10-10 | Device for illuminating an aperture plate of an optical system e.g. microscope comprises a source which releases an optical bean bundle and a diffractive element arranged in the beam path from the source to the aperture plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102005048375A1 true DE102005048375A1 (en) | 2007-04-19 |
Family
ID=37896271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE200510048375 Withdrawn DE102005048375A1 (en) | 2005-10-10 | 2005-10-10 | Device for illuminating an aperture plate of an optical system e.g. microscope comprises a source which releases an optical bean bundle and a diffractive element arranged in the beam path from the source to the aperture plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102005048375A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9835839B2 (en) | 2011-09-23 | 2017-12-05 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Apparatus and method for transmitted light illumination for light microscopes and microscope system |
-
2005
- 2005-10-10 DE DE200510048375 patent/DE102005048375A1/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9835839B2 (en) | 2011-09-23 | 2017-12-05 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Apparatus and method for transmitted light illumination for light microscopes and microscope system |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1260849B1 (en) | Polarisation compensator and microlithography projection device with polarisation compensator | |
EP1984789B1 (en) | Illumination system for microlithographic projection exposure apparatus comprising an illumination system of this type | |
DE102010001388A1 (en) | Facet mirror for use in microlithography | |
EP0970395A1 (en) | Fiber-integrated microlenses and optical fiber bragg grating coupler, and spectrometer and multiplexer assembled with the same | |
EP0873565B1 (en) | Condenser-monochromator arrangement for x-radiation | |
DE102012209132A1 (en) | Illumination optics for projection lithography | |
DE102007023411A1 (en) | Field illumination system for microlithographic projection exposure system, has illumination angle variation device influencing intensity and/or phase of light so that intensity contribution of raster units to total intensity is varied | |
DE102011076658A1 (en) | Illumination lens for use in projection illumination system for extreme UV-projection lithography for manufacturing e.g. semiconductor chip, has first selection facet comprising larger surface than surfaces of second and third facets | |
DE10132988B4 (en) | Projection exposure system | |
DE10130212A1 (en) | lens | |
DE102018214223A1 (en) | Pupil facet mirror | |
WO2024052059A1 (en) | Fiber strand for a sector heater, sector heater and projection device | |
EP3475750A1 (en) | Illumination apparatus for a microscope | |
DE102007055443A1 (en) | Reticle illumination system for microlithography, has light mixing rod provided for homogenization of light, and feedback lens leading back portion of light from light mixing rod at outlet end for guiding into light mixing rod at entry end | |
DE102015118790A1 (en) | Arrangement for spectrally selective filtering or beam splitting with a gradient color filter | |
DE102005048375A1 (en) | Device for illuminating an aperture plate of an optical system e.g. microscope comprises a source which releases an optical bean bundle and a diffractive element arranged in the beam path from the source to the aperture plate | |
DE102007011561A1 (en) | Correcting device for adjusting wavelength dependence in diffraction-based optical systems has a diffractive optical light modulator with controllable structures and a source of light for illuminating the light modulator | |
DE102012210073A1 (en) | Illumination optics for projection exposure system for extreme UV projection lithography for manufacturing micro or nano-structured component, has partial optics designed such that light strikes on facet mirror with convergent optical path | |
DE102005049572A1 (en) | Homogenizing and beam forming device for microscope light, has lenses, where each lens represents output plane downstream its basic distributions, such that distributions are formed superimposed, and intensity distribution exists in plane | |
DE102009011207A1 (en) | Mask illuminating method for microlithographic projection exposure system, involves determining intensity distribution such that lights in Y-direction and X-direction despite of anamorphic effect has same numerical apertures | |
EP1490733A1 (en) | Collector unit comprising a reflective element for lighting systems having a wavelength of less than 193 nm | |
DE102020200371A1 (en) | Facet mirror for an illumination optics for projection lithography | |
DE102015224522B4 (en) | Illumination system of a microlithographic projection system and method for operating such a system | |
WO2003081712A2 (en) | Grating element for filtering wavelengths ≤ 100nm | |
DE102019118676A1 (en) | Optical system for homogenizing the intensity of light radiation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OR8 | Request for search as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
R012 | Request for examination validly filed |
Effective date: 20120920 |
|
R163 | Identified publications notified | ||
R163 | Identified publications notified |
Effective date: 20140325 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: CARL ZEISS SMT GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: CARL ZEISS SMS GMBH, 07745 JENA, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: GEYER, FEHNERS & PARTNER (G.B.R.), DE Representative=s name: PATENTANWAELTE GEYER, FEHNERS & PARTNER MBB, DE |
|
R120 | Application withdrawn or ip right abandoned |