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Zusammenfassung:
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Oben
beschriebene Meßaufgaben
werden gemäß dem Stand
der Technik mit folgenden Verfahren gelöst:
- 1.
mechanische (taktile) Abtastung,
- 2. projizierende Verfahren, jedoch ohne ausreichend tiefenscharfes
Lichtmuster und ohne absolute Vermessung, z.B. Patent Nr. DE 19731545 C1
- 3. Wellenfront-Meßverfahren
(z.B. Shack-Hartmann),
- 4. konfokale Oberflächenabtastung;
z.B. Patent Nr. DE
19749974 C2
- 5. Interferometrische Verfahren,
- 6. Ray-tracing mit feinem, abtastendem Laserstrahl, z.B. in
Appl. Opt. Vol. 27, p. 5160ff (1988) beschrieben
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Nachteile bisheriger Verfahren
(Numerierung nimmt Bezug auf Stand der Technik):
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- 1. verschleißanfällig und langwierig; bewegliche Teile;
Gefahr der Beschädigung
des Prüflings;
- 2. ungenau, da die Lichtsausbreitung zwischen dem Meßmuster
und der Prüflingsoberfläche unberücksichtigt
bleibt;
- 3. nur für
kleine Objekte geeignet (beschränkt
von der Größe von z.B.
Abbildungsoptiken und/oder Mikrolinsenarrays); weiterhin Einschränkung hinsichtlich
meßbarer
Höhendifferenz
und meßbarem
Stei gungswert der Oberfläche;
- 4. zeitaufwendig, da z.B. eine sequentielle Abtastung in z-Richtung
erforderlich ist; bewegliche Teile;
- 5. hoher apparativer Aufwand; insbesondere für ausgedehnte Flächen. Phaseshift-Verfahren
benötigen
mindestens 3 Aufnahmen mit jeweils verschobener Referenzwelle. Wie
für 4 ist
das Verfahren nur für
geringe maximale Höhendifferenzen
einsetzbar; weiterhin sehr anfällig
gegenüber Umgebungseinflüssen, wie
z.B. Fremdlicht, Vibrationen);
- 6. Lediglich sequentielle Abtastung möglich (daher langsam); weiterhin
sind laterale Position und Strahlwinkel aufgrund der Scan-Bewegung
nicht hinreichend genau bekannt; beinhaltet bewegliche Teile;
Für die Verfahren
aus 2, 3 und 6 ist in der Regel außerdem eine Kalibrierung notwendig.
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Ziele der Erfindung:
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- • berührungslose
und simultane Erfassung der Oberflächentopologie voll- oder teilverspiegelter Oberflächen, insbesondere
auch asphärischer Oberflächen bei
hoher Meßauflösung ohne
a priori Kenntnisse der Oberfläche;
- • einfacher,
kalibrierungsfreier Meßaufbau
(Wegfall der Bestimmung der äußeren Orientierung
des Beleuchtungs-, Objekt- und Sensorsystems);
- • Wegfall
beweglicher Bauteile.
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Vorteile der Erfindung:
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Mit
dem erfindungsgemäßen Sensor
kann eine spiegelnde Oberfläche,
wie oben definiert, absolut und mit hoher Genauigkeit vermessen
werden. A priori Wissen über
die Geometrie der Oberfläche
ist dabei nicht erforderlich.
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Durch
Verwendung der erfindungsgemäßen Beleuchtungseinrichtung
des Sensors steht eine praktisch unbegrenzte Schärfentiefe eines dreidimensionalen
Lichtmusters zur Verfügung.
Damit kann der Meßkörper ohne
weitere Voreinstellung im Meßfeld
platziert werden. Ebenso unkritisch ist dann die Lage der Aufnahmeeinheit
(äußere Orientierung).
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Bei
Kenntnis des räumlichen
Verlaufes des dreidimensionalen Lichtmusters, etwa durch Vorkalibrierung
bei der Montage der Projektoreinheit (innere Orientierung) ist keine
Kalibrierung z.B. der Orientierung der Koordinatensysteme von Beleuchtungs-, Objekt-
und Aufnahmeeinheit (äußere Orientierung) mehr
erforderlich.
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Die
Messung benötigt
lediglich mindestens nur zwei Meßvorgänge an verschiedenen Raumpositionen
zur absoluten und genauen Abtastung der 3D-Topologie des Prüflings.
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Durch
Ausspieglung des Meßlichtes
an verschiedenen Positionen können
diese Messungen simultan und ohne bewegliche Teile durchgeführt werden.
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Beschreibung
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Das
spiegelnde Meßobjekt
wird mit einem speziellen dreidimensionalen Lichtmuster beleuchtet, dessen
Geometrie und Struktur in allen drei Raumdimensionen hinreichend
bekannt ist. Das Lichtmuster ist dabei derart codiert, daß einzelne
Bestandteile daraus nach der Wechselwirkung mit der Prüflingsoberfläche (z.B.
Reflektion) eindeutig wiedererkennbar und damit dem Lichtmuster
vor der Wechselwirkung eindeutig zugeordnet werden können. Der
reflektierte Anteil des Lichts wird mit einem lichtempfindlichen
optischen Flächendetektor
aufgenommen. Der Detektor nimmt sowohl die laterale Position der reflektierten
Lichtstrahlen, die Codierung als auch die Strahlrichtung des Lichtmusters
nach der Reflektion an der Prüflingsoberfläche auf.
Aus diesen Informationen können
die topographischen Daten S(xi, yi, zi0) des Ortes
der Reflektion (Zeichnung 8) auf der Prüflingsoberfläche, sowie
dessen lokale Neigung bestimmt werden. Mit Kenntnis der Sensorgeometrie (innere
Orientierung) kann die Oberflächentopologie absolut
mit hoher Genauigkeit bestimmt werden.
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Für die Codierung
des Lichtmusters werden vorgeschlagen z.B. Farbe (Zeichnung 6a),
Polarisation und Form der Elemente (Zeichnung 6b) des Lichtmusters
oder eine Kombination daraus für
eine simultane Aufnahme aller Meßdaten. Weiterhin können Teile
des Lichtmusters zu ihrer gegenseitigen Unterscheidung durch konstruktive
Maßnahmen
zeitlich hintereinander ein- oder ausgeschaltet werden. In letztgenanntem
Fall ergibt sich allerdings eine sequentielle Aufnahme der Meßdaten.
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Beleuchtung
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Das
dreidimensionale Lichtmuster kann z.B. durch Verwendung einer ausreichend
punktförmigen Lichtquelle
(nicht zwingend kohärent)
und mindestens einem Array von Mikrolinsen erzeugt werden. Entsprechend
Zeichnung 1a, 2a, 3a bewirken die Mikrolinsen eine Kollimation des
von der Lichtquelle ausgehenden Lichtbündels, das in die Öffnung der
jeweiligen Mikrolinse fällt.
Auf diese Weise wird je nach Wahl der Linsenparameter ein Muster
mit hoher Tiefenschärfe
aus kollimierten Teilstrahlen erzeugt („Lichtnadeln"). Die räumliche
Divergenz dieser Lichtnadeln ist durch die Anordnung der Mikrolinsen und
der Lichtquelle vollständig
festgelegt (Zeichnung 1b und c, 2b und c, 3b und c) und damit genau
bekannt. Insbesondere kann ein paralleler räumlicher Verlauf von Lichtnadeln
erzeugt werden (Zeichnung 2a, b, c und 3a, b, c).
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Mit
Hilfe der weiter oben genannten Maßnahmen zur Codierung werden
die Lichtnadeln voneinander unterscheidbar gemacht.
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Auswertung
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Der
zu vermessende Prüfling
wird mit den oben beschriebenen Lichtnadeln beleuchtet. Die laterale
Meßauflösung entspricht
dabei dem Raster des Lichtmusters. Das reflektierte Lichtmuster
wird auf einem diffus streuenden Schirm sichtbar gemacht und mit
einem Objektiv auf einen optischen Flächendetektor abgebildet. Die
Auswertung der Bilddaten erfolgt durch einen Rechner (Zeichnung
7).
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Auf
dem Schirm erzeugen die reflektierten Lichtnadeln Lichtpunkte. Z.B.
durch Bestimmung des Schwerpunkts der Lichtpunkte kann der Schnittpunkt jeder
Lichtnadel mit der Ebene des Schirms ermittelt werden. Die Strahlrichtungen
der jeweiligen Lichtnadeln können
durch eine zweite Messung erhalten werden, wobei die Sensoreinheit
oder Beobachtungseinheit (Zeichnung 7) um einen bekannten Wert in
z verschoben wird (Zeichnung 9). Durch hinreichende Verschiebung
kann eine sehr hohe Winkelauflösung
erzielt werden. Zur Vermeidung beweglicher Komponenten kann dieser
Wegunterschied in z auch durch Ausspiegelung aus dem Strahlengang
in verschieden lange Lichtpfade zur Beobachtungseinheit (Zeichnung
10) erfolgen.
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Detaillierte Beschreibung
eines erfindungsgemäßen Meßaufbaus
und einer Meßdurchführung:
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Im
Folgenden wird ein erfindungsgemäßes Ausführungsbeispiel
nebst Varianten beschrieben.
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1. Projektionseinheit:
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Die
Projektionseinheit besteht aus mindestens einer nahezu punktförmigen Lichtquelle.
Die Punktförmigkeit
ist dann ausreichend gegeben, falls die spatiale Ausdehnung der
Lichtquelle kleiner ist als der Beugungsfleck des zur Projektion
verwendeten optischen Systems. Die Lichtquelle muß nicht zwingend
temporal kohärent
sein. Sie kann z.B. als eine Laserdiode, eine LED oder aber auch
eine ausreichend spatial kohärente
thermische Lichtquelle ausgeführt
sein, wie etwa eine Halogenlampe oder Weißlichtlampe.
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Mit
Hilfe mindestens eines Arrays lateral in einer Ebene angeordneter
Mikrolinsen (Mikrolinsenarray) wird das Licht aus der Lichtquelle
teilkollimiert. Jede einzelne Linse bewirkt dabei die Entstehung
eines parallelen Teilstrahles (z.B. Zeichnung 1a), das sich in der
Richtung des Hauptstrahles der jeweiligen Mikrolinse im Raum ausbreitet,
der im folgenden Lichtnadel genannt wird. Entsprechend der Gesetze
der optischen Beugung ändert
sich der Strahldurchmesser der einzelnen Lichtnadeln nur wenig innerhalb
eines großen
z-Bereiches. Auf diese Weise kann ein Lichtmuster erzeugt werden,
das über
mehrere Zentimeter bis zu einigen Metern unverändert (tiefenscharf) ist.
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Durch
Verwendung von mindestens einer Makrolinse und einem Mikrolinsenarray
(Zeichnung 2a), bzw. mindestens einer Makrolinse und zwei Mikrolinsenarrays
(Zeichnung 3a) kann ein tiefenscharfes Lichtmuster erzeugt werden,
das aus parallel im Raum verlaufenden Lichtnadeln besteht. Für ein derart
verlaufendes Lichtmuster ist in jedem Abstand zp zur
Projektionseinheit sowohl die laterale Position x, y als auch der
Ausbreitungswinkel jeder einzelnen Lichtnadel bekannt (Zeichnung
1b und c, 2b und c, 3b und c).
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Die
Varianten des Aufbaus, beschrieben in den Zeichnungen 1a, 2a, und
3a beinhalten keinerlei bewegliche Teile. Der Benutzer muß daher
keinerlei Einstellarbeiten, z.B. Einstellen der Schärfe oder
Kalibrierung an der Projektionseinheit vornehmen.
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Alternative Erzeugung
des tiefenausgedehnten Lichtmusters:
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Neben
den obengenannten Möglichkeiten der
Realisierung eines tiefenscharfen Lichtmusters zur simultanen 3D
Oberflächenvermessung
reflektierender Oberflächen
werden an dieser Stelle Alternativen zur Lichtmustererzeugung aufgezeigt.
Dabei handelt es sich die Erzeugung eines tiefenscharfen Lichtmusters,
das sich aus zeitlich hintereinander an- und ausgeschalteten Komponenten
besteht:
Es wird vorgeschlagen, ein sequentielles tiefenausgedehntes
Lichtmuster durch die Verwendung eines parallelen Laserlichtstrahles
und einem kippbaren Spiegel zu erzeugen (Zeichnung 4). Im Gegensatz
zu [Appl. Opt. Vol. 27, p. 5160ff (1988)] befindet sich entsprechend
Zeichnung 5 der Drehpunkt des kippbaren Spiegels genau auf der optischen
Achse einer in einfachem Brennweitenabstand f aufgestellten Makrolinse.
Ist die Brennweite fM der Makrolinse hinreichend
groß,
ist die durch die Makrolinse induzierte Divergenz des Laserstrahles
hinreichend klein. Auf diese Weise kann ebenso wie in Zeichn. 2b
und c sowie 3b und c ein, über
einen weiten z-Bereich
nahezu unveränderliches
Lichtmuster gebildet werden, das aus parallelen Lichtnadeln besteht.
Mit Ausnahme des Vorhandenseins beweglicher Bauteile bietet diese
Konstruktionsalternative dieselben Vorteile hinsichtlich der Handhabung
(Entfall jeglicher Einstellarbeiten und Kalibrierungen). Damit die
laterale Position der Lichtstrahlen für die nachfolgende Auswertung
hinreichend genau bekannt ist, muß diese durch Beobachtung (Monitoring)
des Lichtmusters in Echtzeit z.B. durch Ausspiegeln auf eine zusätzliche
Beobachtungskamera während
der Meßdurchführung aufgezeichnet
werden.
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Alle
vorgeschlagenen Methoden der Lichtmustererzeugung zeichnen sich
darin aus, daß das Meßobjekt
in jedem beliebigen z-Abstand zur Projektionseinheit aufgestellt
werden, da alle geometrischen Eigenschaften des Lichtmusters bekannt
sind. Dies stellt einen weiteren Vorteil in der Handhabung der hier
beschriebenen Meßeinrichtung
dar. Für
eine sinngerechte Aufstellung muß lediglich sichergestellt werden,
daß die
gesamte Länge
des aufgefalteten Strahlenganges bis zur Beobachtungseinheit innerhalb
des Tiefenschärfenbereiches
der Lichtnadeln liegt.
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Implementierung der Codierung:
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Die
Zuordnung der Lichtpunkte zum ursprünglichen Lichtmuster kann geschehen
z.B. durch farbliche Kodierung der Lichtnadeln (Zeichnung 6a) oder
durch individuelle und unterscheidbare Ausformung der einzelnen
Lichtnadeln (z.B. durch Aufprägen
eines Astigmatismus mit unterscheidbarer Ausrichtung auf die einzelnen
Mikrolinsen, Zeichnung 6b). Diese Arten der Codierung erlauben eine
simultane Beleuchtung und Auswertung.
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Es
wird weiter vorgeschlagen, durch sequentielles An- und Ausschalten
der einzelnen Lichtnadeln nach einer in Zeichnung 1a, 2a, 3a skizzierten Realisation
z.B. durch ein LCD Array, das durch entsprechende Steuerung die
Mikrolinsen einzeln transparent oder opak schaltet, eine Codierung
zu erreichen.
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Für die Lichtmustererzeugung
nach Zeichnung 4 und 5 (Verwendung eines beweglichen Spiegels) ist
keine weitere Codierung mehr notwendig, da bei dieser Methode alle
Meßorte
prinzipbedingt sequentiell und damit stets unterscheidbar abgefahren werden.
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Für den weiteren
Verlauf der Beschreibung gehen wir ohne Einschränkung der Allgemeingültigkeit
von der Erzeugung von n × m
parallel zur optischen Achse verlaufenden, kartesisch in n Spalten und
m Zeilen angeordneten Lichtnadeln aus. Die Lichtnadeln können voneinander
entsprechend ihrer Codierung einzeln voneinander unterschieden werden.
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Die
Größen für n und
m liegen in der Praxis in der Größenordnung
von hundert bis zu einigen tausend. Diese Anzahl ist fundamental
nicht begrenzt. Für
eine ausreichende Detektierbarkeit der Lichtnadeln darf ein bestimm tes
Verhältnis η zwischen
der Fläche
des Abtastfeldes einer einzelnen Lichtnadel und der von ihr beleuchteten
Fläche
nicht überschritten
werden. Als obere Grenze für
simultane Meßdurchführung gilt η < 1, für sequentielle
Messung gibt es keine obere Grenze, obgleich es sinnvoll ist, hinsichtlich
der Meßgenauigkeit
für beide
Fälle,
die jeweils beleuchtete Fläche
so klein wie möglich
zu halten.
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2. Datenaufnahme- und
Detektionseinheit, Beschreibung eines typischen Meßablaufs:
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Das
reflektierende Meßobjekt
wird unter Berücksichtigung
der Tiefenschärfe
der Lichtnadeln in das unter 1. beschriebene Lichtmuster gestellt.
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Das
reflektierte Lichtmuster fällt
auf einen, im Abstand z zur Meßoberfläche stehenden,
diffus streuenden Schirm. Die Verteilung der Leuchtpunkte wird mittels
eines Objektivs auf einen lichtempfindlichen Flächendetektor abgebildet und
mit Hilfe eines Rechners ausgewertet (Zeichnung 7).
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Für die nachfolgend
beschriebene Messung der Oberflächendaten
durch Auswertung der Lichtpunkte ist es sinnvoll, obgleich nicht
zwingend notwendig und daher nicht einschränkend, daß die reflektierende Oberfläche so orientiert
wird, daß der Hauptteil
des reflektierten Lichtmusters in Richtung der optischen Achse zurückgeworfen
wird. Weiterhin wird die Beobachtungseinheit, ohne Verletzung der Allgemeingültigkeit
auf der optischen Achse des Gesamtsystems positioniert (Zeichnung
10). In diesem Fall wird das reflektierte Lichtmuster mit Hilfe
eines Strahlteilers aus dem Strahlengang ausgespiegelt (Zeichnung
10).
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Die
Position der Schnittpunkte der Lichtnadeln S(xi,
yi, z) mit dem Schirm sind bestimmt durch die
jeweilige mittlere lokale Neigung des Reflektionsortes mit der Größe der Beleuchtungsfläche der Lichtnadel
auf der spiegelnden Meßoberfläche und dem
Abstand des Schirmes vom Reflektionsort S(xi, yi, zi0) der jeweiligen
Lichtnadel.
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Aufgrund
der unterschiedlichen lokalen Neigung der Meßoberfläche ist es typisch, daß die Anordnung
der Lichtpunkte auf dem Schirm nicht mehr der ursprünglichen
Anordnung von n × m
kartesischen Lichtpunkten entspricht. Vielmehr hat sich typischerweise
eine Durchmischung der Orte der Lichtpunkte ergeben, die Punkte
werden im allgemeinen weiterhin auch nicht mehr in kartesischer
Anordnung vorliegen. Weiterhin wird es typisch sein, daß durch Bereiche
des Prüflings,
die sehr starke Neigung aufweisen, einzelne Lichtnadeln den Schirm
nicht mehr treffen werden. Daher wird die Anzahl der, auf dem Schirm
detektierbaren Lichtpunkte i ≤ (n·m) sein.
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Die
eindeutige Bestimmung der Oberflächentopologie
der Prüflingsoberfläche setzt
sich dann aus den unter a) bis d) aufgeführten Schritten zusammen, wobei
z.B. durch Ausspiegelungen an unterschiedlichen z-Positionen alle
Vorgänge
der Datenaufnahme simultan durchgeführt werden können.
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Die
Schritte der Auswertung können
ebenfalls simultan, also direkt nachgeschaltet an die Datenaufnahme
erfolgen. Es ist aber auch möglich
(z.B. zur Erhöhung
der Meßgeschwindigkeit),
ohne Einschränkung
der Gleichzeitigkeit aller physikalischer Meßschritte, die Daten zwischenzuspeichern
und erst in einem nachgeschalteten Prozeßschritt auszuwerten.
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Einzelne Meßschritte:
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a. Bestimmung der Strahlrichtungen
der Lichtnadeln nach der Reflektion am Prüfling
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Zur
Bestimmung der Strahlrichtung jeder reflektierten Lichtnadel werden
die lateralen Positionen der Leuchtpunkte auf dem Schirm in mindestens
zwei unterschiedlichen z-Abständen
gemessen (Zeichnung 9). Die Positionen S(xi,
yi, z1) jedes Leuchtpunkts
in der Schirmebene bei z1= z und Die Positionen
S(xj yj, z2) bei z2= z + Δz werden
z.B. durch Schwerpunktsbestimmung der Intensitätsverteilung ermittelt. Praktischerweise
wird man hier Δz
groß wählen, damit
die Winkel in hinreichender Genauigkeit ermittelt werden können. Entsprechend
der Codierung können
die i und j Lichtpunkte aus beiden Meßpositionen eindeutig zugeordnet
werden.
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Durch
die Beziehung ϑi = atan(xi2 – xi1)/Δz und φi = atan(yi2 – yi1)/Δz
können
die Strahlrichtungen aller erkannter i Lichtnadeln, die auf dem
Schirm bei beiden Meßschritten
sichtbar sind, bestimmt werden (Zeichnung 9). U.U. kann es sinnvoll
sein, die Strahlwinkel von Lichtnadeln, deren Schnittpunkte nur
auf einer der vorgenannten Messungen gefunden wurden durch eine
weitere Messung an einer anderen z-Position zu bestimmen.
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b. Bestimmung der lokalen
Neigung des reflektierenden Prüflings
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Entsprechend
der Gesetze der Reflektion wird aus den Winkeln der Lichtnadeln ϑi und φi der zugehörige lokale Normalenvektor
ni, und damit die mittlere Neigung des beleuchteten
Flächenelementes
nx;i, und ny;i, ermittelt.
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c. Zuordnung der Lichtnadeln
zur Orientierung des Beleuchtungsmusters
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Aufgrund
der Codierung können
alle aufgefundenen Strahlen dem ursprünglichen Lichtmuster eindeutig
zugeordnet werden. Die einzelnen Lichtnadeln werden in einem Rechenprogramm
solange zur reflektierenden Prüflingsoberfläche verlängert, bis sich
ein Schnittpunkt mit der jeweiligen ungestörten Lichtnadel ergibt. Dieser
Punkt bezeichnet die Raumkoordinate der reflektierenden Oberfläche S(xi, yi, zi0)n,m. Die Neigungswinkel an diesem Raumpunkt sind
durch die Meßschritte
a und b bekannt.
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d. Integration der lokalen
Neigungen
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Nachdem
die Raumkoordinaten der reflektierenden Oberfläche S(xi,
yi, zi0)n,m ermittelt wurden, kann die Oberfläche durch
Aufintegration der durch Messung in b) bestimmten Neigungswinkel
nx;i, und ny;i, mit
hoher Genauigkeit berechnet werden.
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Abbildungen:
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1.a Erzeugung von Lichtnadeln, wobei die
Strahlrichtungen der Lichtnadeln nicht parallel sind, bestehend
aus einer punktförmigen
Lichtquelle und einem Mikrolinsenarray
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1.b Intensitätsverteilung in einer Ebene an
der Position z = z1
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1.c Intensitätsverteilung in einer Ebene an
der Position z = z2, wobei für die Rastermaße gilt: px1 < px2 und py1 < py2;
d1 = d2 (wobei d:
Durchmesser der Lichtnadel an der jeweiligen z-Position)
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2.a Erzeugung von parallelen Lichtnadeln
durch Verwendung einer punktförmigen
Lichtquelle, einem Mikrolinsenarray und einer Makrolinse
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2.b Intensitätsverteilung in einer Ebene an
der Position z = z1
-
2.c Intensitätsverteilung in einer Ebene an
der Position z = z2; px1 =
px2 und py1 = py2; d1 = d2
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3.a Erzeugung von parallelen Lichtnadeln
durch Verwendung einer punktförmigen
Lichtquelle, zwei Mikrolinsenarrays und einer Makrolinse;
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3.b Intensitätsverteilung in einer Ebene an
der Position z = z1
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3.c Intensitätsverteilung in einer Ebene an
der Position z = z2; px1 =
px2 und py1 = py2; d1 = d2
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4. Erzeugung von Lichtnadeln, wobei die
Strahlrichtungen der Lichtnadeln nicht parallel sind, bestehend
aus einem feinen kollimierten Laserstrahl und einem beweglichen
Kippspiegel
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5. Erzeugung von Lichtnadeln, wobei die
Strahlrichtungen der Lichtnadeln parallel sind, bestehend aus einem
feinen kollimierten Laserstrahl und einem beweglichen Kippspiegel
und einer Kollimationslinse.
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6a. Querschnitt durch die Intensitätsverteilung
von Lichtnadeln, die farblich codiert sind
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6b. Querschnitt durch die Intensitätsverteilung
von Lichtnadeln mit einem elliptischen Querschnitt mit unterschiedlicher
Lage der Hauptachse
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7. prinzipieller Aufbau der Beobachtungseinheit
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8. Positionierung des Meßobjekts
im Lichtmuster, Orientierung der Strahlwinkel
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9. Prinzip der Winkelbestimmung
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10. Positionierung der Beobachtungseinheit
im Strahlengang zur Messung der Strahlwinkel an verschiedenen Positionen
durch Stahlteilung des reflektierten Lichtmusters.
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Erläuterungen zu den Zeichnungen:
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- 1
- punktförmige oder
nahezu punktförmige
Lichtquelle
- 2
- Mikrolinsenarray
mit Brennweite f
- 3
- teilkollimiertes
Lichtbündel
mit divergentem Verlauf
- 4
- parallel
angeordnete Lichtnadeln
- 5
- Makrolinse
- 6
- optische
Achse
- 7
- Mikrolinsenarray
mit Brennweite f'
- 8
- reflektierendes
Meßobjekt
- 9
- Beobachtungseinheit
- 10
- Abbildungsoptik
- 11
- Schirm,
diffus streuend
- 12
- lichtempfindlicher
Flächendetektor
- 13
- reflektierte
Lichtnadel
- 14
- teildurchlässige Spiegel,
Strahlteiler
- 15
- Schnittpunkte
zwischen reflektierter und ungestörter Lichtnadel
- 16
- Kippspiegel
- 17
- Laserstrahl
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Literatur:
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- Breuckmann B.: "Bildverarbeitung und optische Meßtechnik
in der industriellen Praxis" Franzis-Verlag ISBN
3-7723-4861-0
- Daniel Malacara: "Optical
Shop Testing", 2nd Edition, John Wiley & Son, Inc.(1992)