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Die
Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Transport von Substraten
gemäß dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1.
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Aus
der
DE 102 47 909
A1 ist eine Vorrichtung zum Transport von Substraten in
Form eines berührungslos
gelagerten und berührungslos
angetriebenen, gestoppten und positionierten Conveyor-Systems bekannt.
Das System ist auf zwei Tragleisten magnetisch gelagert. Der Antrieb
zur Beschleunigung und Verzögerung
erfolgt durch lineare Asynchronmotoren in Lang- oder Kurzstatorausführung. Das
Anhalten wird mittels einer Wirbelstrombremse realisiert, die durch
einen Hubmechanismus in Eingriff gebracht werden kann. Die Positionierung
erfolgt durch im Carrier befindliche Permanentmagnete. Ferner ist
eine Querstabilisierung vorgesehen, wobei beidseits des Carriers
ein Stahlband entlang der Fahrstrecke angeordnet ist, dem am Carrier
zwei bis vier elektrisch erregte Magnetsysteme gegenüberstehen.
Der Antrieb erfolgt berührungslos
dadurch, dass sich entlang der Fahrstrecke Statoren von Linearmotoren
befinden, die in der gewünschten
Bewegungsrichtung ein magnetisches Wanderfeld erzeugen. Der Carrier
weist an seiner Unterseite, dem Stator gegenüberstehend, das üblicherweise
aus Aluminium bestehende Sekundärteil
des Linearmotors auf. Über
diesem Sekundärteil
ist als magnetischer Rückschluss
eine massive Stahlplatte angeordnet, über die sich der magnetische
Fluss des Stators schließen kann
und dadurch ein kleiner Luftspalt für den Statorfluss gewährleistet
ist.
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Aufgabe
der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung einer Vorrichtung zum
Transport von Substraten, insbesondere in einer Prozessstraße, welche kompakt
und prozesssicher und besonders für großflächige, dünne Substrate geeignet ist.
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Diese
Aufgabe wird erfindungsgemäß mit den
Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst.
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Neben
ihren gattungsgemäßen Merkmalen weist
die erfindungsgemäße Vorrichtung
zum Transport von Substraten die kennzeichnenden Merkmale auf, dass
ein Trägermodul
eine stationäre
Tragleiste und einen beweglichen Carrierkopf als Träger aufweist,
ein Antriebsmodul eine magnetische Beschleunigungsvorrichtung umfasst
und ein Stabilisatormodul zur aktiven Querlagenstabilisierung eine erste
und zweite Magneteinrichtung und einen Abstandssensor umfasst, wobei
zumindest eine der Magneteinrichtungen ein veränderliches Magnetfeld bereitstellt.
Der modulare Aufbau erlaubt eine vereinfachte Installation und Wartung,
was besonders bei fabrikmäßigen Prozessen,
insbesondere bei hochpräzisen
Beschichtungsprozessen von großflächigen Substraten
wie etwa optischen Displays und dergleichen, kostensparend ist.
Bauraumsparend ist, dass im Gegensatz zum Stand der Technik zum
Tragen des Substrats eine einzige stationäre Tragleiste mit einer einzigen
Magnetspur ausreichend ist. Weiterhin ist zur Stabilisierung eine
einzige Einheit, bestehend aus der ersten und zweiten Magneteinrichtung,
ausreichend, von denen eine im stationären und eine im beweglichen
Teil der Vorrichtung angeordnet ist. Die Querstabilisierung der
Vorrichtung kann günstig durch
eine Abstandsregelung oder Abstandssteuerung unterstützt werden,
bei der der Abstandssensor Bestandteil ist. Die Regelung oder Steuerung
kann vorteilhaft mit hoher Präzision
und hoher Dynamik erfolgen. Damit können auch Substrate sicher
und positionsgenau transportiert werden, welche Abmessungen von
mehr als 2 × 2
m2 und typische Dicken zwischen 0,4 und
1 mm aufweisen, und die wenigstens zeitweise mit beträchtlichen
Geschwindigkeiten von mehr als 1 m/s, typischerweise 3 m/s, transportiert
werden.
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Zweckmäßigerweise
umfasst die magnetische Beschleunigungsvorrichtung einen flachen
Linearmotor. Der Linearmotor kann einen Einfachstator aufweisen;
alternativ kann der Linearmotor einen Doppelstator aufweisen. Ferner
kann der Linearmotor ein Asynchronmotor sein. Optional kann ein
Synchronmotor eingesetzt werden. Es versteht sich, dass der Linearmotor
auch durch einen zylindrischen Linearmotor gebildet sein kann. Bei
einem Einfachstator steht eine elektrisch leitfähige Platte einer Statoroberfläche gegenüber. Der
Stator, eine Magnetspule, erzeugt bei Stromeinspeisung ein magnetisches
Wanderfeld. Dieses induziert in der genannten Platte eine elektrische
Spannung, die einen elektrischen Strom antreibt, der senkrecht zu
dem Wanderfeld gerichtet ist. Die Wechselwirkung zwischen Wanderfeld
und Strom erzeugt eine Kraft, die ihrerseits senkrecht zum Wanderfeld und
Strom steht und den Carrier bzw. dessen Carrierkopf antreibt, wobei
der Carrierkopf den Läufer
des Linearmotors bildet. Um das magnetische Feld möglichst
groß zu
machen, ist im Carrierkopf ein magnetischer Rückschluss vorgesehen, der aus
einem Ferromagnetikum besteht, das massiv oder als Blechstapel ausgebildet
sein kann. Der Antrieb des Carrierkopfes kann so erfolgen, dass der
Stator und der ein Sekundärteil
des Linearmotors bildende, als Carrierkopf ausgebildete Läufer, ständig miteinander
in Eingriff sind. Das bedeutet, dass z.B. der Stator oder das Sekundärteil eine
Länge aufweisen,
die der gesamten Fahrstrecke entspricht. Alternativ kann mit einem
Pulsantrieb angetrieben werden. Bei diesem ist die Länge des
Sekundärteils
sehr kurz. Stehen sich Stator und Sekundärteil gegenüber, so tritt ein Antriebsimpuls
auf, dessen Zeitdauer von den Längen
des Stators und des Sekundärteils bestimmt
wird. Das Sekundärteil
kann waagrecht oder senkrecht am Stator angeordnet sein. Beim Doppelstator
ist ein Sekundärteil
notwendig, das senkrecht am Carrier angeordnet ist und das zwischen
den beiden Statoren geführt
ist.
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Umfasst
das Antriebsmodul eine Einrichtung zur Beschleunigung in einem Gravitationsfeld,
kann die Vorrichtung besonders energiesparend arbeiten. Zweckmäßigerweise
wird mittels magnetischer oder elektromagnetischer Mittel gebremst.
Vorzugsweise ist in der Einrichtung eine Schräge vorgesehen, entlang der
sich das Substrat bewegen kann. Durch die Höhendifferenz erfährt die
Vorrichtung zum Transport von Substraten eine Beschleunigung in
einer Richtung. In einer günstigen
Weiterbildung ist die magnetische Beschleunigungsvorrichtung so
ausgebildet, dass der Vorrichtung ein Startimpuls erteilt werden kann,
mit dessen Hilfe sich diese in Bewegung setzt und durch das Gefälle der
Schräge
weiter angetrieben wird. Die magnetische Beschleunigungsvorrichtung
ist zweckmäßigerweise
ausgebildet, eine negative Beschleunigung zu erzeugen und so das
Substrat bzw. die Vorrichtung abzubremsen, beispielsweise durch
Betätigen
eines Hubmagneten, der die Schräge
nach oben bewegt und deren Gefälle
verringert oder sogar umkehrt, oder durch Erzeugen einer magnetischen
Gegenkraft, die das Substrat abbremst.
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Zweckmäßigerweise
ist die magnetische Beschleunigungsvorrichtung zum magnetischen
Antreiben und/oder Bremsen ausgebildet. Dann kann ein Antrieb mittels
magnetischem Fluss oder auch durch Gravitation erfolgen.
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Selbstverständlich können entlang
einer Fahrstrecke, die sich beispielsweise durch mehrere Prozesskammern
erstreckt, z.B. Reinigungskammer, Heizkammer, eine oder mehrere
Beschichtungskammern und dergleichen, ein magnetischer und ein Gravitationsantrieb
kombiniert sein.
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Als
Sicherheitseinrichtung bei einem Versagen des Stabilisatormoduls,
insbesondere bei einem Stromausfall, ist ein Abstandshalter zwischen
einem stationären
Element des Trägermoduls
und einem Schenkel des beweglichen, als Carrierkopf ausgebildeten
Läufer
vorgesehen. Vorzugsweise umfasst der Abstandshalter einen Permanentmagneten,
wobei es günstig
ist, wenn der Permanentmagnet auf seiner dem Läufer zugewandten Seite mit
einer partikelarm gleitfähigen
Beschichtung versehen ist. Die Beschichtung kann bevorzugt aus Teflon
sein oder auch aus einem anderen Material gebildet sein, welches insbesondere
für Vakuumanwendungen
geeignet ist und eine geringe tolerable Restgasemission im Betrieb
ermöglicht.
Die Beschichtung gewährleistet auch
im Fehlerfall, nämlich
einem Kontakt zwischen Läufer
und Stator, einen Restluftspalt zwischen dem Permanentmagneten und
dem Schenkel des Läufers,
der vorzugsweise in diesem Bereich aus einem ferromagnetischen Material
gebildet ist. Der Permanentmagnet verhindert ein Abrutschen des
Carrierkopfes nach unten, und die Beschichtung ermöglicht ein
Lösen des
Permanentmagneten vom ferromagnetischen Schenkel des Carrierkopfes.
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Eine
besonders kompakte Anordnung ergibt sich, wenn eine stationäre Trageinrichtung
des Trägermoduls
kammartig, insbesondere in Form eines doppelten U ausgebildet ist,
wobei vorzugsweise ein bewegliches Sekundärelement des Linearmotors und
ein Zahn der stationären
Trageinrichtung, der ein Primärelement
des Linearmotors darstellt, eine interdigitale Anordnung bilden.
Günstig
ist, wenn das aus einem ferromagnetischen Material gebildete Trägerelement
des Läufers
einen ersten Schenkel und ein nichtmagnetischer Schenkel eines Carrierkopfes
einen zweiten Schenkel bilden, welche den Zahn umgreifen.
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Sind
Trägermodul,
Antriebsmodul und Stabilisatormodul hinter einer optisch dicht ausgebildeten Abschirmung
zu einem Prozessraum angeordnet, wird eine vorteilhafte Entkopplung
der Module vom Substrat erreicht. Das Substrat kann verschiedensten
Behandlungsverfahren, beispielsweise Erhitzen durch Strahlungswärme, unterzogen
werden, ohne dass die Module eine wesentliche Beeinflussung erfahren.
Besonders bei einem Beschichtungsverfahren des Substrats, insbesondere
bei plasmaunterstützten
wie Kathodenzerstäubung
oder plasmaunterstützten
CVD-Verfahren (chemical vapor deposition), bei denen wegen des relativ
hohen Partialdrucks während
der Deposition Beschichtungsmaterial unerwünschterweise auch außerhalb
zu beschichtender Bereiche, insbesondere auch hinter Blenden, niedergeschlagen
wird, verhindert die optisch dichte Abschirmung eine Kontamination
der Module. Vorteilhaft wird vermieden, dass schmale Luftspalte
in den Modulen mit Beschichtungsmaterial zugesetzt werden und/oder
sich bildende parasitäre
Beläge
abblättern
und die Prozesskammern kontaminieren oder Material solcher Beläge in andere
Prozessbereiche verschleppt werden. Aufwendige Reinigungsschritte oder
gar ein Ersatz der Module können
vermieden werden. In einer günstigen
Ausgestaltung ist die optisch dicht ausgebildete Abschirmung wenigstens teilweise
an dem beweglichen Carrierkopf angeordnet.
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Die
Abschirmung ermöglicht
weiterhin eine Entkopplung hinsichtlich der Temperatur des Substrats
und/oder der Beschichtungskammern und/oder möglicherweise vorhandenen Beschichtungsquellen, indem
es als Strahlungsschutz gegen Wärmestrahlung
dient. Dies kann vorteilhaft durch eine Kühlung im Bereich der Module,
beispielsweise von Spulen und Spulenträgern, unterstützt werden.
Ebenso kann die Abschirmung mit Kühlmitteln versehen sein. Zweckmäßig ist,
eine Kühleinrichtung
der Module mit einer Kühleinrichtung
für die
Abschirmung zu kombinieren. Der von der Abschirmung geschützte Bereich,
in dem die Module angeordnet sind, erhält vorteilhaft nur höchstens
40% der Strahlungswärme,
bevorzugt höchstens
30%, besonders bevorzugt höchstens
20%, ganz besonders bevorzugt höchstens
10% der Strahlungswärme,
die auf das Substrat einwirkt, während
dieses vom Trägermodul
transportiert und in Prozesskammern verschiedenen Behandlungsprozessen
unterzogen wird.
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Die
erfindungsgemäße Vorrichtung
ermöglicht
einen variablen Aufbau, der sich leicht an gegebene Rahmenbedingungen
einer Prozessstraße
anpassen läßt. So kann
das Stabilisierungsmodul oberhalb der Tragleiste angeordnet oder
auch unterhalb der Tragleiste angeordnet oder sogar neben der Tragleiste
angeordnet sein. Dies kann je nach verfügbarem Bauraum und/oder verwendetem
Antriebsmodul angepasst werden.
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In
einer günstigen
Ausgestaltung ist das Substrat hängend
transportierbar. Dadurch können unvorteilhafte
Verbiegungen und eine mechanische Belastung des Substrats beim Transport
mit der Vorrichtung vermieden werden. Das Substrat ist vorzugsweise
unterhalb des Trägermoduls
angeordnet. Alternativ kann das Substrat auch oberhalb des Trägermoduls
angeordnet sein, indem die Vorrichtung in umgekehrter Reihenfolge
kopfüber
aufgebaut wird. Dadurch wird eine mechanische Belastung von Halteelementen
der Vorrichtung verringert und der Schwerpunkt der Vorrichtung nach
unten verlegt, was sich bei schwingungsempfindlichen Anlagen oder
in schwingungsempfindlichen Umgebungen vorteilhaft auswirken kann.
Ferner kann vermieden werden, dass Beläge auf bewegten Teilen, die
mit der Zeit durch Beschichtungsvorgänge entstehen, durch die Bewegung
auf das Substrat oder auf Beschichtungsquellen fallen und diese
kontaminieren.
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Nachfolgend
wird die Erfindung anhand von Zeichnungen näher beschrieben, aus denen
sich auch unabhängig
von der Zusammenfassung in den Patentansprüchen weitere Merkmale, Einzelheiten und
Vorteile der Erfindung ergeben.
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Es
zeigen in schematischer Darstellung:
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1 einen
Querschnitt durch eine erfindungsgemäße Vorrichtung,
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2 eine
Vorrichtung mit Gravitationsantrieb,
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3 eine
bevorzugte Anordnung einer Abschirmung.
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In 1 ist
eine bevorzugte Vorrichtung 1 zum Transport von Substraten 13 dargestellt,
wie sie insbesondere in einer Beschichtungsprozessstraße mit Vakuumbeschichtungsverfahren
wie PVD oder CVD eingesetzt werden kann. Die Vorrichtung 1 ist
in einer Vakuumkammer mit einer Vakuumkammerwand 23 angeordnet.
In der Vakuumkammerwand 23 ist eine Kühlmitteldurchführung 15 vorgesehen,
die Kühlmittelzuleitungen 16 mit
Kühlmittel,
beispielsweise Wasser, versorgt. Die Kühlmittelzuleitungen 16 führen dem
Kühlmittel
Kühlmittelschlangen 17 einer Kühlanordnung
zu, die stationäre
Teile der Vorrichtung 1, insbesondere Magnetspulen 4 und 5,
kühlen. Eine
Trageinrichtung 2 ist innerhalb der Kühlanordnung angeordnet und
berührt
bereichsweise die Kühlanordnung.
Die stationären
Teile der Vorrichtung 1 bilden eine Fahrstrecke für einen
Carrierkopf 3 eines Carriers, an dem ein Substrat 13,
beispielsweise in einer Rahmenvorrichtung hängend, befestigt ist. An der
Vorrichtung 1 ist das Substrat mit einer Haltevorrichtung 14 befestigt.
Auf seiner der Vorrichtung 1 gegenüberliegenden Seite kann das
Substrat 13 bzw. dessen Halterung in eine nicht dargestellte
optionale Führung,
die einen Carrierfuß bildet,
ragen.
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Die
Trageinrichtung 2 weist eine kammartige Struktur auf mit
drei Zähnen 2a, 2b, 2c,
die durch Zwischenräume 2d und 2e beabstandet
sind und die zu dem Carrierkopf 3 hin geöffnet ist.
Der Carrierkopf 3 ist im Wesentlichen aus einem nichtmagnetischen Material,
vorzugsweise Aluminium, gebildet. In den ersten Zwischenraum 2d taucht
die Magnetspule 5, in den zweiten Zwischenraum 2e taucht
die Magnetspule 4 vollständig ein. Die Magnetspule 4 treibt
den Carrierkopf 3 an; die Magnetspule 5 bewirkt
eine Horizontalführung
des Carrierkopfes 3. Zwischen den Magnetspulen 4, 5 greift
ein U-förmiger
Ansatz des Carrierkopfes 3 ein und umgreift mit einem ersten Schenkel 18 und
einem zweiten Schenkel 3a den mittleren Zahn 2b in
der Art einer interdigitalen Anordnung. Der erste Schenkel 18 des
Ansatzes des Carrierkopfes 3 ist aus ferromagnetischem
Material. Weiter erstreckt sich der Carrierkopf 3 nach
unten von der Trageinrichtung 2 weg. Zwischen der zweiten Magnetspule 5 und
dem ersten Schenkel 18 ist eine erster Luftspalt S1 ausgebildet.
Ein zweiter Luftspalt S2 liegt zwischen dem ersten Schenkel 18 und
dem mittleren Zahn 2b. Zwischen dem Zahn 2b und
dem zweiten Schenkel 3a ist ein dritter Luftspalt S3 ausgebildet,
während
zwischen der ersten Magnetspule 4 und dem zweiten Schenkel 3a ein
vierter Luftspalt S4 ausgebildet ist.
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Ein
Stabilisatormodul C zur aktiven Querlagenstabilisierung ist im ersten
Zwischenraum 2d angeordnet. Das Stabilisatormodul C umfasst
eine erste Magneteinrichtung 8 und eine zweite Magneteinrichtung,
die durch die zweite Magnetspule 5 gebildet wird, sowie
einen Abstandssensor 6, der unterhalb der zweiten Magnetspule 5 angeordnet
ist. Der Abstandssensor 6 misst die Größe eines Luftspalts S5 zwischen
dem ersten Schenkel 18 des Carrierkopfes 3 und
einer Beschichtung 9 der ersten Magneteinrichtung 8.
Die erste Magneteinrichtung 8 ist mit dem mittleren Zahn 2b fest
verbunden und umfasst einen Permanentmagneten 8a sowie
die Beschichtung 9, welche einen Restluftspalt zwischen
dem Permanentmagneten 8a und dem ferromagnetischen ersten Schenkel 18 gewährleistet,
auch wenn bei Stromausfall die Magneteinrichtung 8 mit
dem Schenkel 18 in Berührung
kommen sollte. Die erste Magneteinrichtung 8 bildet einen
Abstandshalter zwischen dem mittleren Zahn 2b und dem ferromagnetischen Schenkel 18 des
Carrierkopfes 3.
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Der
Abstandssensor 6 gibt die Größe des Luftspalts S5 an eine
nicht dargestellte Einrichtung weiter, welche die Magnetspule 5 entsprechend
ansteuert, um eine gewünschte
Größe des Luftspalts 5 aufrechtzuerhalten
und/oder einzustellen.
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Im
unteren Bereich der Trageinrichtung 2 ist unterhalb des
Abstandssensors 6 ein Laserkopf 7 angeordnet,
der beim Transport des Substrats 13 zur Geschwindigkeitsmessung
und Positionierung des Substrats 13 eingesetzt werden kann.
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Ein
Trägermodul
A weist eine stationäre Tragleiste 11 und
einen beweglichen Carrierkopf 3 als Läufer auf. Die Tragleiste 11 ist
mit dem dritten Zahn 2c verbunden und steht winklig in
Richtung zum mittleren Zahn 2b von diesem ab. Auf ihrer
der kammartigen Struktur der Trageinrichtung 2 zugewandten
Oberseite ist an ihrem freien Ende ein Permanentmagnet 10 angeordnet.
Das freie Ende der Tragleiste 11 ragt in eine seitliche
Aussparung 3b des Carrierkopfes 3, deren der Tragleiste 11 zugewandten
innere Oberseite und innere Unterseite jeweils mit einem Permanentmagneten 12a und 12b so
belegt ist, dass die Tragleiste 11 in der Aussparung 3b schwebt.
Zwischen der Tragleiste 11 und dem oberen Permanentmagneten 12a ist
ein Luftspalt Sa, zwischen der Tragleiste 11 und dem unteren
Permanentmagneten 12b ein Luftspalt Sb ausgebildet.
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Die
erste Magnetspule 4 und der Carrier mit seinem Carrierkopf 3 bilden
ein Antriebsmodul B der Vorrichtung 1, wobei die erste
Magnetspule 4 Bestandteil einer magnetischen Beschleunigungsvorrichtung 4a des
Antriebsmoduls B ist. Die Magnetspule 4 kann den Carrierkopf 3 positiv
oder negativ beschleunigen, d.h. er gewinnt oder verliert an Geschwindigkeit.
Der Antrieb des Carriers kann so erfolgen, dass der Stator (Magnetspule 4)
und der Läufer (Carrierkopf 3)
ständig
im Eingriff sind. Die Magnetspule 4 kann als Langstator
entlang der Fahrstrecke ausgebildet sein, wobei der Carrierkopf 3 bzw.
dessen durch den Ansatz mit den Schenkeln 18, 3a gebildeten
Läufer
permanent entlang der Fahrstrecke angetrieben wird. Es können jedoch
auch Kurzstatoren, bestehend aus einer Mehrzahl von Magnetspulen 4,
vorgesehen sein, wobei jeweils ein Impuls auf den Läufer des
Carriers gegeben wird, wenn dieser gerade einer der Magnetspulen 4 gegenübersteht. Der
Impuls ist groß genug
bemessen, um eine Bewegung des Carriers zur nächsten Magnetspule 4 zu gewährleisten.
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Selbstverständlich kann
die Anordnung von Trägermodul
A, Antriebsmodul B und Stabilisatormodul C auch verschieden zu der
dargestellten Anordnung sein. So kann das Substrat 13 statt
unterhalb des Trägermoduls
A auch oberhalb des Trägermoduls
A angeordnet sein. Das Stabilisatormodul C kann statt oberhalb der
Tragleiste 11 auch unterhalb oder sogar neben der Tragleiste 11 angeordnet
sein. Carrierkopf 3 und der nicht dargestellte Carrierfuß können umgekehrt
zur gezeigten Darstellung angeordnet sein. Ferner können Trägermodul
A, Antriebsmodul B und Stabilisatormodul C auch räumlich voneinander
getrennt angeordnet sein. Wenn das Substrat 13 unterhalb
des Trägermoduls
A angeordnet ist, kann das Substrat 13 oberhalb des Antriebsmoduls
B und des Stabilisatormoduls C angeordnet sein. Ferner kann, wenn
das Substrat 13 oberhalb des Trägermoduls A angeordnet ist,
das Antriebsmodul B und das Stabilisatormodul C unterhalb des Substrats 13 angeordnet
sein. Ferner können
auch Antriebsmodul B und Stabilisatormodul C voneinander räumlich getrennt
ausgeführt
sein und unterhalb bzw. oberhalb des Substrats 13 angeordnet
sein. Es versteht sich, dass die Fahrstrecke in den Fällen, in
denen zwischen den räumlich
voneinander getrennten Modulen A, B, C das Substrat 13 angeordnet
ist, die Fahrstrecke einen relativ zum Substrat 13 oberen
und einen unteren Teil aufweist.
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2 verdeutlicht
in vereinfachter Darstellung einen bevorzugten Antrieb der Vorrichtung
1 durch
das Erdgravitationsfeld. Eine Einrichtung
24 zur Beschleunigung
im Gravitationsfeld umfasst eine schräge Ebene, aus deren Gefälle die
Vorrichtung
1 ihre Antriebskraft bezieht, wenn diese beispielsweise ein
Substrat
13 entlang einer Fahrstrecke entlang der Einrichtung
24 transportiert.
Eine Beschleunigungsvorrichtung (nicht dargestellt) ist dann zum
magnetischen Bremsen ausgebildet, indem beispielsweise ein Hubmagnet
die schräge
Ebene anhebt und das Gefälle
verringert oder sogar umkehrt, wie dies aus der
DE 102 47 909 A1 bekannt
ist. Diese Bewegung der Einrichtung ist mit einem Doppelpfeil angedeutet.
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Die
Anordnung einer Abschirmung 25 in 3 stellt
eine bevorzugte Weiterbildung der Erfindung dar. Hier sind Trägermodul
A, Antriebsmodul B und Stabilisatormodul C (1) hinter
einer optisch dicht ausgebildeten Abschirmung 25 zu einem
Prozessraum 26 angeordnet. Die optisch dicht ausgebildete
Abschirmung 25 ist wenigstens teilweise an dem beweglichen
Carrierkopf 3 angeordnet. Abschirmbleche 25b erstrecken
sich jeweils beidseits winklig von der Vorrichtung 1 weg,
während
fest an der stationären
Einrichtung oder auch der Vakuumkammerwand (nicht dargestellt) befestigte
Abschirmbleche 25a unterhalb der Abschirmbleche 25b angeordnet
sind. Bei einem Beschichtungsprozess, beispielsweise Kathodenzerstäubung, kann
praktisch kein Beschichtungsmaterial von der Quelle in den Raum
hinter der Abschirmung 25 eindringen. Das Substrat 13 ist
in seinem unteren Bereich mit einem Carrierfuß 27 verbunden, der
mit einem stationären
Führungselement 28 koppelt.
In weiteren Ausbildungsformen der Erfindung können mit dem Carrierfuß 27 Trägermodul
A, Antriebsmodul B und Stabilisatormodul C unterhalb des Substrats
angeordnet sein, also an der Stelle des Carrierfußes 27.
Ferner sind bei weiteren Ausführungsformen
der Erfindung Trägermodul
A, Antriebsmodul B und Stabilisatormodul C voneinander getrennt
oberhalb bzw. unterhalb des Substrats 13 angeordnet.
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- 1
- Vorrichtung
- 2
- Trageinrichtung
- 2a
- Zahn
- 2b
- Zahn
- 2c
- Zahn
- 2d
- Zwischenraum
- 2e
- Zwischenraum
- 3
- Carrierkopf
- 3a
- Schenkel
- 4
- erste
Magnetspule
- 4a
- Beschleunigungsvorrichtung
- 5
- zweite
Magnetspule
- 6
- Abstandssensor
- 7
- Laserkopf
- 8
- Magneteinrichtung
- 8a
- Permanentmagnet
- 9
- Beschichtung
- 10
- Permanentmagnet
- 11
- Tragleiste
- 12
- Permanentmagnet
- 12a
- Permanentmagnet
- 12b
- Permanentmagnet
- 13
- Substrat
- 14
- Halterung
- 15
- Kühlmitteldurchführung
- 16
- Kühlmittelzuleitung
- 17
- Kühlschlange
- 18
- ferromagnetischer
Schenkel
- 23
- Vakuumkammerwand
- 24
- Einrichtung
- 25
- Abschirmung
- 25a
- Abschirmblech
- 25b
- Abschirmblech
- 26
- Prozessraum
- 27
- Carrierfuß
- 28
- stationäres Führungselement
- Sa
- Spalt
- Sb
- Spalt
- S1-S5
- Spalt