DE10115294C1 - Maske für die Projektion einer Struktur zur Herstellung einer integrierten Schaltung auf einen Wafer - Google Patents

Maske für die Projektion einer Struktur zur Herstellung einer integrierten Schaltung auf einen Wafer

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Frank Katzwinkel
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    • GPHYSICS
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19508746A1 (de) * 1994-03-11 1995-11-02 Hyundai Electronics Ind Belichtungsmaske
DE19737916A1 (de) * 1997-08-26 1999-03-04 Equicon Software Gmbh Maske zur Herstellung von Halbleitern oder sonstigen mikrostrukturierten Objekten

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19508746A1 (de) * 1994-03-11 1995-11-02 Hyundai Electronics Ind Belichtungsmaske
DE19737916A1 (de) * 1997-08-26 1999-03-04 Equicon Software Gmbh Maske zur Herstellung von Halbleitern oder sonstigen mikrostrukturierten Objekten

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