DE10051885B4 - Method of pulling a single crystal by zone pulling - Google Patents
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Abstract
Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls durch Zonenziehen, bei dem eine mit einer Induktionsspule erzeugte Schmelze mindestens einem rotierenden Magnetfeld ausgesetzt und zum Erstarren gebracht wird, und der beim Erstarren der Schmelze entstehende Einkristall gedreht wird, dadurch gekennzeichnet, daß der Einkristall und das Magnetfeld mit gegensinniger Drehrichtung gedreht werden und die Frequenz des Magnetfelds im Bereich von 10 bis 1000 Hz liegt, wobei eine im Zentrum der Schmelze nach oben gerichtete Strömung erzeugt wirdmethod for pulling a single crystal by zoning, in which one with an induction coil produced melt at least one rotating magnetic field is exposed and solidified, and the solidification the melt resulting single crystal is rotated, characterized that the Single crystal and the magnetic field rotated in opposite directions and the frequency of the magnetic field in the range of 10 to 1000 Hz, with one in the center of the melt directed upward flow is produced
Description
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls durch Zonenziehen, bei dem eine mit einer Induktionsspule erzeugte Schmelze mindestens einem rotierenden Magnetfeld ausgesetzt und zum Erstarren gebracht wird, und der beim Erstarren der Schmelze entstehende Einkristall gedreht wird.object The invention is a method for pulling a single crystal through Zone pulling, in which a melt produced by an induction coil exposed to at least one rotating magnetic field and solidify is brought, and the solid crystal formed during the solidification of the melt rotated becomes.
Die Anwendung eines rotierenden Magnetfeldes beim Zonenziehen ist beispielsweise in der DD-263 310 A1 beschrieben. Allerdings zielt das in dieser Druckschrift vorgeschlagene Verfahren auf die Vereinheitlichung der Diffusionsrandschichtdicke ab, während die vorliegende Erfindung die Aufgabe löst, eine möglichst homogene Verteilung von Dotierstoffen in der Schmelze und im Einkristall zu erreichen.The Application of a rotating magnetic field during zone pulling is for example described in DD-263 310 A1. However, that aims in this Document proposed method of standardization the diffusion edge layer thickness while the present invention the task solves, one preferably homogeneous distribution of dopants in the melt and in the single crystal to reach.
Die
Bisher wurde versucht, die Homogenisierung der Dotierstoffverteilung durch Variation der Kristalldrehung, durch Verschiebung der Induktionsspule relativ zur Kristallachse und durch Änderung der Form der Induktionsspule zu erzielen. Nachteilig an diesen Maßnahmen ist, daß sie oft zur Erhöhung der Versetzungsrate und zur Verringerung der Prozeßstabilität führen.So far was tried, the homogenization of the dopant distribution by Variation of crystal rotation, by displacement of the induction coil relative to the crystal axis and by changing the shape of the induction coil to achieve. The disadvantage of these measures is that they often to increase the rate of dislocation and reduce process stability.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls durch Zonenziehen, bei dem eine mit einer Induktionsspule erzeugte Schmelze mindestens einem rotierenden Magnetfeld ausgesetzt und zum Erstarren gebracht wird, und der beim Erstarren der Schmelze entstehende Einkristall gedreht wird, das dadurch gekennzeichnet ist, daß der Einkristall und das Magnetfeld mit gegensinniger Drehrichtung gedreht werden und die Frequenz des Magnetfelds im Bereich von 10 bis 1000 Hz liegt, wobei eine im Zentrum der Schmelze nach oben gerichtete Strömung erzeugt wird.object The invention is a method for pulling a single crystal through Zone pulling, in which a melt produced by an induction coil exposed to at least one rotating magnetic field and solidify is brought, and the solid crystal formed during the solidification of the melt rotated which is characterized in that the single crystal and the magnetic field be rotated in the opposite direction of rotation and the frequency of the magnetic field ranging from 10 to 1000 Hz, with one in the center of the melt upward flow is produced.
Die
Beschreibung der Erfindung umfaßt auch
Figuren.
Die
in
Die
Dotierstoffverteilung im Einkristall wird durch die Strömungsverhältnisse
in der Schmelze und durch Randschicht-Diffusion beeinflußt. Die Strömung in der Schmelze, die durch
die thermischen, Marangoni- und elektromagnetischen Kräfte erzeugt wird,
hat insbesondere bei Einkristallen mit großen Durchmessern eine typische
Zwei-Wirbelstruktur, die in
Die Erfinder fanden heraus, daß es mit dem beanspruchten Verfahren gelingt, die typische Zwei-Wirbelstruktur der Schmelze mit einer im Zentrum der Schmelze nach unten gerichteten Strömung zu verändern und daß sich dadurch die radiale Homogenität der Dotierstoffverteilung deutlich verbessern läßt.The Inventors found out that it with the claimed method succeeds the typical two-vortex structure the melt with a down in the center of the melt Flow too change and that yourself thereby the radial homogeneity the dopant distribution can be significantly improved.
Die Zwei-Wirbelstruktur wird mit Hilfe einer erzwungenen Konvektion geändert. Am besten geeignet ist eine Volumenkraft, die im gesamten Schmelzvolumen wirkt. Darüber hinaus ist anzustreben, daß die Strömung im Zentrum der Schmelze nach oben (zum Vorratstab) gerichtet ist, weil andernfalls die Schmelze direkt vom Vorratsstab nach unten (zum Einkristall) getragen wird. Erfindungsgemäß gelingt dies unter anderem durch Anwendung von mindestens einem rotierenden Magnetfeld, das im Unterschied zum Verfahren, das in der DD-263 310 A1 beschrieben ist, gegensinnig zur Drehrichtung des Einkristalls rotieren muß. Falls der Einkristall einer Wechselrotation (periodischer Wechsel der Drehrichtung) unterliegt, was erfindungsgemäß auch möglich ist, ist die zeitlich gemittelte Kristallrotation zur Definition der Kristalldrehrichtung maßgebend. Ohne das gegenläufige Drehen von Magnetfeld und Einkristall verläuft die Strömungsrichtung im Schmelzenzentrum nach unten. Die dotierstoffarme Schmelze wird direkt zum Zentrum des Einkristalls geführt und damit die Homogenität des radialen Dotierstoffeinbaus deutlich verschlechtert. Darüber hinaus wird die ohnehin bestehende Versetzungsgefahr durch unaufgeschmolzene Teilchen, die vom Vorratsstab direkt zum Einkristall gelangen, weiter erhöht.The two-vortex structure is changed by forced convection. Most suitable is a volume force that acts throughout the melt volume. In addition, it is desirable that the flow in the center of the melt is directed upwards (to the supply rod), because otherwise the melt is carried directly from the stock rod down (to the single crystal). According to the invention, this is achieved inter alia by using at least one rotating magnetic field, which, in contrast to the method described in DD-263 310 A1, must rotate in opposite directions to the direction of rotation of the single crystal. If the monocrystal undergoes an alternating rotation (periodic change of the direction of rotation), which is also possible according to the invention, the time-averaged crystal rotation is decisive for the definition of the crystal direction of rotation. Without the opposite rotation of magnetic field and single crystal, the flow direction in the melting center runs down. The dumbbell-poor melt is fed directly to the center of the single crystal and thus the homogeneity of the radial Dotierstoffeinbaus significantly deteriorated. In addition, will the already existing risk of dislocation by unmelted particles, which pass directly from the stock rod to the single crystal, further increased.
Das gegensinnig zur Einkristall-Drehung rotierende Magnetfeld bewirkt in der Schmelze eine Volumenkraft in azimutaler Richtung. Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform des Verfahrens wird diese Volumenkraft genutzt, um in der Schmelze durch erzwungene Konvektion einen einzigen Wirbel zu erzeugen, mit einer Strömung, die im Zentrum der Schmelze nach oben verläuft. Diese zum Vorratsstab gerichtete Strömung im Zentrum der Schmelze bewirkt, daß vom Vorratsstab kommende, nichtaufgeschmolzene Partikel und dotierstoffarme Schmelzenbereiche nicht direkt zum Einkristall transportiert, sondern zuvor in die Schmelze gut eingemischt werden. Die Partikel gewinnen dadurch ausreichend Zeit, um vollständig aufzuschmelzen. Um die bevorzugte Änderung von der Zwei-Wirbelstruktur in die Ein- Wirbelstuktur zu erreichen, muß die Feldstärke des Magnetfelds an die vorhandenen Prozeßbedingungen angepaßt werden. Die optimale Feldstärke ist von anderen Prozeßparametern abhängig, wie der Frequenz des Magnetfelds, dem Durchmesser und der Drehgeschwindigkeit des Einkristalls, der Ziehgeschwindigkeit und der Form der verwendeten Induktionsspule. Sie ist deshalb durch Testversuche zu ermitteln. Versuche der Erfinder haben ergeben, daß das Verfahren vorzugsweise zum Ziehen von Einkristallen aus Silicium eingesetzt wird, die einen Durchmesser von mindestens 3'' (76,2 mm) haben, wobei der Einkristall vorzugsweise mit Feldstärken von 0.1 bis 20 mT, besonders bevorzugt von 1 bis 5 mT gezogen wird. Die Frequenz des rotierenden Magnetfelds liegt bei 10 bis 1000 Hz, besonders bevorzugt bei 50 bis 500 Hz.The in the opposite direction to the single crystal rotation rotating magnetic field causes in the melt, a volume force in the azimuthal direction. According to one particularly preferred embodiment The process uses this volume force to melt by forced convection to create a single vortex, with a flow, which goes up in the center of the melt. This to the stock bar directed flow In the center of the melt causes coming from the stock bar, unmelted Particles and low-doping melt areas not directly to Transported single crystal, but previously mixed well into the melt become. The particles thereby gain sufficient time to completely melt. To the preferred change From the two-vortex structure to reach the one-vortex structure, the field strength of the Magnetic field adapted to the existing process conditions. The optimal field strength is from other process parameters dependent, such as the frequency of the magnetic field, the diameter and the rotational speed of the single crystal, the pulling rate and the shape of the used Induction coil. It is therefore to be determined by test experiments. Experiments by the inventors have shown that the method preferably is used for pulling single crystals of silicon, the one Have diameters of at least 3 '' (76.2 mm), wherein the single crystal preferably with field strengths of 0.1 to 20 mT, especially preferably from 1 to 5 mT is drawn. The frequency of the rotating Magnetic field is 10 to 1000 Hz, more preferably 50 up to 500 Hz.
Durch eine gleichzeitige Anwendung von zwei rotierenden Magnetfeldern mit unterschiedlichen Frequenzen und zeitlich veränderlichen Amplituden kann man die Durchmischung der Schmelze und die radiale Homogenisierung von Dotierstoffen noch weiter verbessern, und zwar unabhängig vom Vorliegen einer Ein-Wirbelstruktur oder einer Zwei-Wirbelstruktur in der Schmelze. Felder mit verschiedenen Frequenzen haben unterschiedliche Eindringtiefen in der Schmelze und wirken demzufolge auf unterschiedliche Schmelzengebiete.By a simultaneous application of two rotating magnetic fields with different frequencies and temporally variable Amplitudes can be the mixing of the melt and the radial Homogenization of dopants even further improve, and indeed independently from the presence of a single-vortex structure or a two-vortex structure in the melt. Fields with different frequencies have different Penetration depths in the melt and thus act on different Melting areas.
Wenn nur ein Wirbel in der Schmelze existiert, der durch die Anwendung eines rotierenden Magnetfelds gemäß der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung erzeugt worden ist, kann durch die Anpassung der Feldstärke und/oder der Frequenz eines der beiden Magnetfelder auf die Strömungsverhältnisse in der Wirbelstruktur weiter Einfluß genommen und die Dotierstoffverteilung noch genauer eingestellt werden.If only one vortex exists in the melt, by the application a rotating magnetic field according to the preferred embodiment of Invention has been generated by adjusting the field strength and / or the frequency of one of the two magnetic fields on the flow conditions in the vortex structure further influenced and the dopant distribution be set more precisely.
Wenn eine Zwei-Wirbelstruktur in der Schmelze vorliegt, können die zwei rotierenden Felder mit unterschiedlichen Frequenzen und/oder unterschiedlichen Amplituden an der Schmelze angelegt werden, derart, daß der innere Teil der Schmelze gegensinnig zum äußeren Teil der Schmelze rotiert. Durch zeitliche Variation der Amplituden und/oder der Frequenzen läßt sich der Umkehrpunkt des Geschwindigkeitsfeldes zeitlich verändern und somit die Durchmischung der Schmelze radial steuern. Dadurch werden Unterschiede in der Dotierstoffkonzentration zwischen beiden Wirbel ausgeglichen.If a two-vortex structure in the melt, the two rotating fields with different frequencies and / or different amplitudes are applied to the melt, in such a way that the inner part of the melt rotates in opposite directions to the outer part of the melt. By temporal variation of the amplitudes and / or the frequencies can be the reversal point of the velocity field change over time and thus radially controlling the mixing of the melt. This will be Differences in dopant concentration between the two vortices balanced.
BeispieleExamples
Um
den Einfluß des
rotierenden Magnetfelds auf die Strömung und die Dotierstoffverteilung
in der Schmelze zu demonstrieren, wurden Simulationsrechnungen durchgeführt. Zuerst
wurde die Form der Schmelzzone berechnet. Anschließend wurde
die Strömung
in der Schmelze und die Dotierstoffverteilung an der Erstarrungsfront
zeitabhängig
berechnet. Bei der Simulation wurde die Finite-Elemente-Methode
angewendet. Den Berechnungen lagen als Randbedingungen ein Kristalldurchmesser
von 4'' (101,6 mm), eine
Kristallrotation von 5 U/min und eine Frequenz des rotierenden Magnetfeldes
von 50 Hz zugrunde. Die Rotationsrichtung des Magnetfeldes war gegensinnig
zur Kristallrotation gerichtet angenommen. Ergebnisse der Rechnungen
sind in den
Die
Claims (7)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2000151885 DE10051885B4 (en) | 2000-10-19 | 2000-10-19 | Method of pulling a single crystal by zone pulling |
DK200101478A DK176384B1 (en) | 2000-10-19 | 2001-10-08 | Process for producing a monocrystal by zone melting |
JP2001320567A JP3699671B2 (en) | 2000-10-19 | 2001-10-18 | Single crystal pooling by zone pooling |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2000151885 DE10051885B4 (en) | 2000-10-19 | 2000-10-19 | Method of pulling a single crystal by zone pulling |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10051885A1 DE10051885A1 (en) | 2002-05-02 |
DE10051885B4 true DE10051885B4 (en) | 2007-07-12 |
Family
ID=7660356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2000151885 Expired - Fee Related DE10051885B4 (en) | 2000-10-19 | 2000-10-19 | Method of pulling a single crystal by zone pulling |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3699671B2 (en) |
DE (1) | DE10051885B4 (en) |
DK (1) | DK176384B1 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10216609B4 (en) | 2002-04-15 | 2005-04-07 | Siltronic Ag | Process for producing the semiconductor wafer |
DE10328859B4 (en) * | 2003-06-20 | 2007-09-27 | Leibniz-Institut Für Festkörper- Und Werkstoffforschung Dresden E.V. | Method and apparatus for pulling single crystals by zone pulling |
DE102005063346B4 (en) * | 2005-04-06 | 2010-10-28 | Pv Silicon Forschungs Und Produktions Gmbh | Process for producing a monocrystalline Si wafer with approximately round polygonal cross section |
CN102586859A (en) * | 2012-03-10 | 2012-07-18 | 天津市环欧半导体材料技术有限公司 | Method for improving radial resistivity uniformity of float-zone silicon monocrystal |
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-
2000
- 2000-10-19 DE DE2000151885 patent/DE10051885B4/en not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-10-08 DK DK200101478A patent/DK176384B1/en not_active IP Right Cessation
- 2001-10-18 JP JP2001320567A patent/JP3699671B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
DK200101478A (en) | 2002-04-20 |
JP2002160993A (en) | 2002-06-04 |
DK176384B1 (en) | 2007-10-22 |
DE10051885A1 (en) | 2002-05-02 |
JP3699671B2 (en) | 2005-09-28 |
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