DE10014161A1

DE10014161A1 - Simultane Prüfung von zweiseitigen Planflächen unter Zuhilfenahme von diffraktiven Normalelementen mit gleichzeitiger absoluter Dickenmessung mit Hilfe eines Wellenfrontsensors

Info

Publication number: DE10014161A1
Application number: DE2000114161
Authority: DE
Inventors: Johannes Schwider
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2000-03-22
Filing date: 2000-03-22
Publication date: 2001-09-27

Abstract

Scheibenförmige Objekte wie Siliziumwafer oder Glasplatten für Plattenspeicher müssen bezüglich Oberflächenform, Dickenvariation und lokaler Krümmung vermessen werden. Dazu besonders geeignet erscheint Interferometrie mit streifender Inzidenz. Durch den streifenden Lichteinfall ergibt sich eine anamorphotische Verzerrung des Objektraumes, wodurch sich ausgedehnte Objekte in einem Meßschritt vermessen lassen. Hier wird eine Version mit zwei niederfrequenten Gittern als Strahlenteiler vorgeschlagen, wobei beide Seiten einer Planscheibe simultan vermessen werden können. Für das Messen großer Scheiben ist auch eine Optik mit großem Querschnitt erforderlich. Alternativ kann aber die Querschnittstransformation auch eindimensional durch Gitter oder Prismenanamorphote vorgenommen werden. Dadurch ergeben sich neuartige Möglichkeiten zur Prüfung von großen Scheiben unter Verwendung von optischen Systemen mit deutlich geringerem Querschnitt. Die Anamorphote können vor/nachgeschaltet oder sogar in das Interferometer auf unterschiedliche Weise integriert werden. Zusätzlich zu der beidseitigen Vermessung, aus der sich Krümmung und Dickenvariation ableiten lassen, kann ein optischer Dickenmesser integriert werden, der lokal eine Dicke absolut mißt, wodurch sich ein Anschluß an das Relativbild der Dickenvariation erzielen läßt und so auf der gesamten Scheibe absolute Dickenwerte bekannt sind. Besondere Systeme sind erforderlich, um eine scharfe Abbildung der beiden Flächen der Scheibe ...

Description

Zweck der Erfindung

Durch den Übergang zu immer kürzeren Wellenlängen und größeren Feldern in der Mikrolithographie steigen die Anforderungen an Siliziumscheiben oder von Trägern für magnetische Speicherplatten bezüglich Ebenheit und generelle Abmessungen. Technologisch ist auch die Scheibendicke, die Variation der Dicke über die Scheibe und deren lokale Durchbiegung wesentlich. All diese Größen sollten möglichst simultan gemessen werden, um eine vollständige Charakterisierung der Scheibenobjekte zu erreichen. Aus diesem Grunde ist eine beidseitige Prüfung anzustreben.

Ziel der Erfindung

Ziel der Erfindung ist die Angabe eines simultanen interferometrischen Verfahrens basierend auf der Nutzung von optischen Gittern, welche die simultane Vermessung der beiden Funktionsflächen von scheibenförmigen Objekten ermöglichen und welche eine Steuerung der Empfindlichkeit in weiten Grenzen erlauben.

Stand der Technik

Bekannt sind Verfahren zur Prüfung von stabförmigen Elementen mit Hilfe von diffraktiven Strahlformungselementen /6-14/. Dabei lassen sich mit Hilfe von sogenannten diffraktiven Axicons, welche eine Spezialform von computer-generierten Hologrammen oder optischen diffraktiven Elementen darstellen, Zylinder oder allgemeiner Kegelflächen prüfen /5/, oder nach einem Vorschlag von Birch /2/ lassen sich mit Hilfe von Gittern als Strahlteiler und Strahlvereiniger auch Planflächen prüfen. Wesentlicher Ansatz dabei ist die Nutzung der Welle der nullten Beugungsordnung als Referenzwelle und einer Welle der ersten Beugungsordnung zur "probe"-Welle des Objektes in streifender Inzidenz. Durch die streifende Inzidenz wird einerseits die Empfindlichkeit geeignet herabgesetzt und andererseits eine anamorphotische Verzerrung des Prüfraumes erzeugt. Streifende Inzidenzinterferometrie ist eine altbekannte Technik, die bereits auf Michelson zurückgeht. Abramson /1/ hat ein anamorphotisch wirkendes Prisma zur Prüfung von technischen, d. h., rauhen Flächen eingesetzt. Geräte nach diesem Vorschlag sind unter dem Namen Flatmaster als Prüfinstrument bekannt (www.tropel.com, home.t-online.de/home/lamtech/) und von verschiedenen Autoren auch auf die Waferprüfung /3/ übertragen worden. In einem Vorschlag von 1995 /6/ wurde das Prinzip der streifenden Inzidenz-Interferometrie auf der Basis von diffraktiven optischen Elementen auf allgemeine stabförmige Körperoberflächen übertragen und auch in einer Reihe von Publikationen bezüglich seiner Besonderheiten und technischen Parameter untersucht /9-14/. Absolute Abstände lassen sich mit monochromatischer Interferometrie /4/ nicht so ohne weiteres bestimmen, weshalb zur Dickenmessung zusätzliche optische Verfahren erforderlich sind. Bekannt sind Verfahren zur Fokusindikation wie konfokale Mikroskopie oder wie bei der Fokusregelung beim CD-Player. Allerdings sind dann zusätzliche Maßnahmen zur Längenmessung erforderlich, um Dickenwerte zu erhalten.

Alternativ kann auch der Shack-Hartmann-Sensor zur Fokussuche eingesetzt werden, da mit seiner Hilfe Wellenfrontdeformationen gemessen werden können /15/.

Kritik am Stand der Technik

Der Übertragung solcher Verfahren auf Flächen mit Durchmessern im Dezimeter-Bereich stellen sich allerdings eine Reihe von Schwierigkeiten in den Weg. Zum Einen erfordern große Durchmesser auch teure große Kollimatoren und Abbildungssysteme und zum Anderen sind diese Systeme nicht so ohne weiteres bezüglich der Aberrationen korrigierbar. Diese Korrektion ist aber ganz besonders wesentlich, da in diesen Interferometern eine sogenannte Inversion des Lichtwellenfeldes für den Objektstrahlengang auftritt. Das hat zur Folge, daß Aberrationen der Eingangswellenfront Abweichungen des Prüflings vortäuschen. Zwar kann man durch Eichung des Interferometers diese Fehler mindern, es bleibt jedoch das Problem, daß große Restabweichungen zu einem justier- und stabilitätsempfindlichen Aufbau führen. Beide Effekte sind unerwünscht und erschweren die Arbeit mit einem solchen Gerät. Hinzukommt, daß bei Abmessungen um die 300 mm, wie sie z. B. bei Siliziumscheiben üblich sind, die Kollimationsoptik sehr große Brennweiten haben muß, um die Korrektur bezüglich sphärischer Aberration und Coma zu ermöglichen. Das führt zu unbequemen Aufbauten, die in kein Testlabor passen. Zwar lassen sich Lichtwege falten, aber das birgt die Gefahr, daß man sich starken Astigmatismus durch Faltungsspiegel einfängt. Es ist also angezeigt, daß dafür gesorgt wird, daß mit möglichst kleinen Kollimatoren gearbeitet werden kann. Die anamorphotische Verzerrung des Bildraumes legt daher nahe, daß man entweder in den Beleuchtungs/Abbildungsstrahlengang oder direkt in das Interferometer weitere Anamorphote einbezieht, die das Durchmesserproblem herabsetzen. Bei den bisherigen technischen Lösungen mit streifender Inzidenz wird die Objektoberfläche für einen kleinen Bereich scharf abgebildet, aber für größere Objekte ergeben sich Unschärfen, die zu Beugungsfransen insbesondere an den Objekträndern führen und außerdem tritt bei großen Abweichungen ein systematischer Flächenfehler auf, da durch die Wellenpropagation der unmittelbare Zusammenhang mit den Oberflächenabweichungen verloren gehen kann. Auch zur Minderung dieses Problems sind optische Lösungen erforderlich.

Erfindungsgemäße Lösung

Erfindungsgemäß kann folgendermaßen vorgegangen werden, wobei hier zwei Alternativen geschildert werden sollen:

Variante 1

Bei dieser Variante (siehe Fig. 1) wird ein Laserstrahl eines transversal monomodigen Lasers durch einen Kollimator soweit aufgeweitet, daß der Prüfling auf seiner ganzen Länge durch die gebeugten Wellen erster Ordnung von Grating 1 ausgeleuchtet werden kann. Dann fehlt noch die Ausleuchtung in der orthogonalen Dimension. Dazu wird der kollimierte Strahl auf ein geblaztes Gitter derart eingestrahlt, daß eine ausreichende anamorphotische Aufweitung senkrecht zu den Gitterlinien des hochfrequenten Beleuchtungsgitters erfolgt. Das Interferometer wird von den beiden niederfrequenten Gittern G₁ und G₂ gebildet, deren Furchen orthogonal zu denen des beleuchtenden Gitters liegen. Um periodische Teilfehler zu vermeiden, sollen die Gitter mit Hilfe holographischer Methoden hergestellt sein. Bei dieser Version folgt auf der Abbildungsseite eine zum Kollimator nahezu identische Abbildungsanordnung, wobei wiederum durch einen Gitteranamorphoten die Querschnittsanpassung an die Abbildungsoptik geleistet wird. Der deutliche Nachteil dieser Anordnung ist die Verwendung von 4 großflächigen und damit teuren Gittern hoher Qualität.

Im Prinzip ist aber auch denkbar, daß das hochfrequente und niederfrequente Gitter wegen der Separierbarkeit des Beugungsproblems in ein Element zusammengefaßt werden können. Allerdings erfordert dies eine sehr aufwendige Spezialentwicklung beim Gitterhersteller, zumal die Gitter holographisch hergestellt werden sollten. Hinzukommt, daß die Optimierung der Beugungseffizienz für die Beleuchtung andere Anforderungen als für die Strahlteilung stellt, die sich nur durch sukzessives Prozessing in einem Element realisieren lassen.

Variante 2

Bekanntlich kann eine anamorphotische Verzerrung auch mit Prismen vorgenommen werden. Das würde bedeuten, daß die beleuchtenden und abbildenden hochfrequenten Gitter durch Prismen ersetzt werden können. Diese Prismen sind erstens leichter zu beschaffen und sollten frei von starken Aberrationsgradienten herstellbar und außerdem deutlich billiger sein. In Fig. 2 wird zur Erläuterung eine Anordnung dargestellt, bei der die Prismen in das Interferometer integriert sind, wodurch die eigentlichen Strahlteilergitter des Interferometers auch auf die reduzierte Kollimatorgröße beschränkt werden können. Damit sind nur noch 2 optische Elemente mit großem Querschnitt erforderlich. Das ist insbesondere wegen der reduzierten Forderungen an die Strahlteilergitter von Vorteil. Beleuchtungskollimator und Beobachtungsteleskop können damit im Querschnitt auf z. B. 100 mm beschränkt werden, was sich auch auf die Baulänge positiv auswirkt. Zur Auswertung kann in beiden Fällen entweder eine axiale oder eine transversale Verschiebung eines der Gitter zur Erzeugung von phasengeschobenen Intensitätsbildern für die phase shift Auswertung vorgenommen werden.

Scharfe Abbildung der Objektoberflächen auf den Detektor

Wie bereits ausgeführt, kann die scharfe Abbildung des Objekts auf den Chip der auswertenden CCD-Kamera nicht auf direktem Wege erreicht werden. Bekanntlich wird man das Abbildungssystem teleskopisch ausbilden, um systematische Fehler bei starken Abweichungen von der Ebenheit und Dickenkonstanz bzw. von Krümmungen der Scheibenobjekte zu vermeiden. Die erforderliche Querschnittswandlung führt im Bildraum zu einer Aufrichtung der schrägen Bildlage. Jedoch bleibt natürlich zum einen eine Restneigung übrig und außerdem sind die Bilder der beiden Seiten gegensätzlich geneigt, was zunächst eine simultane Scharfabbildung verhindert. Zur Rektifikation können jedoch schräggestellte Gitter verwendet werden, deren Gitterkonstante so gewählt wird, daß die gebeugte Welle das Gitter längs der Gitternormalen verläßt. Bei richtiger Dimensionierung ist das Bild des Objektes scharf auf der Gitteroberfläche und damit ist die geknickte optische Achse in Richtung der CCD-Chip-Normalen orientiert, so daß das Objekt scharf auf dem Chip abgebildet erscheint. Das ist von außerordentlicher Bedeutung bei den angesprochenen großen Objekten. Für die angestrebte Auswertung ist nämlich eine klare Objektrand-Definition außerordentlich wesentlich und außerdem soll möglichst die gesamte Oberfläche bis zum Rand hin ausgewertet werden. Eine mögliche optische Anordnung kann man Fig. 3 entnehmen.

Neben der scharfen Abbildung spielen parasitäre Beugungsordnungen für das einwandfreie Funktionieren des Interferometers eine Rolle. Wenn mehr als zwei Wellen interferieren, kann der phase shift Algorithmus versagen, da im schlimmsten Fall die effektive Phase sich scheinbar beim Verschieben eines der Gitter nicht ändert. Es ist daher nötig, durch Abblenden der beugenden Gitterbereiche für eine Trennung des Nutzlichtes von solchen Störstrahlen zu sorgen (siehe Fig. 4). Bei dieser Maßnahme ist aber darauf zu achten, daß die effektive Blende "Scheibenrand" nicht abgedeckt wird, da sonst Beugungsfransen in das Meßfeld ragen und die Messung verfälschen können.

Absolute Dickenmessung

Die interferometrische Schaltung ermöglicht nicht die Messung der absoluten Dicke des Scheibenobjektes. Dazu ist eine zusätzliche Messung erforderlich, da mit monochromatischen Interferometern keine absoluten Werte sondern nur Variationen der Dicke ableitbar sind. Als zusätzliche Einrichtung läßt sich ein Wellenfrontsensor nach dem Shack-Hartmann-Prinzip verwenden. Aufbauend auf diesem Prinzip kann eine Dickenmessung mit der Tiefenauflösung von ca. 40 nm rms ausgeführt werden. Das Prinzip ist in Fig. 5 näher erläutert. Die richtige Fokussierung auf die beiden Seiten der Oberfläche wird jeweils vom linken oder rechten Wellenfrontsensor angezeigt, abhängig von der Verschiebung der Scheibe relativ zum Detektor oder des Detektors relativ zur Scheibe. Wenn man ein empfindliches Wegmessystem für die Verschiebung verwendet, kann man aus der Verschiebung die Dicke ableiten. Wegmessysteme mit kleinstem Meßschritt von wenigen nm sind erhältlich. Der materielle Aufwand sollte aber an der Nachweisgrenze aufgrund des Fokuskriteriums ausgerichtet werden.

Die Nachweisgrenze wird also im wesentlichen von der Empfindlichkeit der Fokussuche bestimmt. Man kann abschätzen, daß aufgrund einer Defokussierung Δz sich eine Wellenfrontdeformation von ΔW ergibt:

ΔW = Δz{1 - cosu},

wobei u der Aperturwinkel des hoch-aperturigen Mikroobjektivs ist. Es gibt Objektive mit einer NA = 0.70 und freiem Arbeitsabstand von mehreren mm. Damit wäre ausreichend Platz zwischen den beiden Objektiven. Das sollte für Manipulationen genügend Raum lassen, wenn die Scheiben dünner als 1-2 mm sind. Erfahrungsgemäß kann der Wellenfrontsensor eine Wellenfrontdeformation von X/30 P/V messen. Mit den obigen Werten käme man damit auf einen Dickenmeßfehler kleiner 40 nm P/V pro Messung. Die Automatisierung wäre einfach vorzunehmen, da die Wellenfrontsensoren den Krümmungsradius der reflektierten Wellen fortlaufend vorzeichenrichtig messen und damit Stellsignale bereitstellen. Im übrigen ist es auch denkbar, daß aus der gemessenen Radiendifferenz der Wellenfronten der beiden Sensoren direkt die Dicke abgeleitet werden kann. Das bedeutet, daß eine Verschiebung überhaupt überflüssig ist. Allerdings weiß man, daß der Zusammenhang zwischen der Defokussierung und den gemessenen Krümmungsradien nichtlinear sein wird aufgrund der Abbildungsgleichung.

Nach der Newton'schen Abbildungsgleichung, die sich auf die beiden Brennebenen bezieht, hat man:

zz' = f²,

wobei z' = 2Δz die Defokussierung aufgrund der Ablage vom Fokus und z = R + f ist. Damit ergibt sich ein Krümmungsradius der jeweiligen Wellenfronten R:

wobei f die Brennweite des Mikroobjektivs ist. Durch Eichung kann dieser funktionale Zusammenhang hinreichend abgesichert werden. Damit folgt aus den beiden gemessenen Radien für die Wellenfronten links und rechts direkt die Dicke der Scheibe D berechnen:

D = Δz_l + Δz_r.

In Fig. 6 ist eine zweckmäßige Lösung für den Dickenmeßstand mit nur einem Shack- Hartmann-Sensor und einer optischen Vereinigungsschaltung dargestellt. Durch ein zeitliches Schaltregime läßt sich die Dickeninformation aus den beiden zeitlich aufeinander folgenden Defokusmessungen ableiten.

Literatur

1. N. Abramson: "The Interferoscope: a new type of interferometer with variable fringe Separation", Optik 30, 56-71 (

1969

).
2. K. G. Birch, F. J. Green: "Oblique incidence interferometry applied to non-optical surfaces", J. Phys. E 6, 1045-1048 (

1973

).
3. J. Schwider u. a.; "Semiconductor wafer and technical flat planeness testing interferometer" Measurement Vol. 5 (

1987

),98-101
4. G. Schulz, J. Schwider,. "Interferometric testing of smooth surfaces", Prog. in Optics XIII, E. Wolf, Ed., Elsivier Publisher New York, (

1976

)
5. J. Schwider, "Verfahren und Anordnung zur Prüfling beliebiger Mantelflächen rotationssymmetrischer Festkörper mittels synthetischer Hologramme", DDR WP 106 769, Anmeldetag

4.1.1972

6. J. Schwider, "Verfahren zur Prüfung technischer Oberflächen mit Hilfe von computer erzeugten Hologrammen", G. Pat. pending Aktz. DE 195 11 926.3, Anmeldetag

31.3.1995

7. J. Schwider: "Selbstkompensierendes Verfahren zur Absolutprüfung technischer Oberflächen in streifendem Lichteinfall", G. Pat. pending Aktz. DE 196 18 146.1, Anmeldetag

7.5.1996

8. J. Schwider: "Verfahren zur interferometrischen Prüfung von technischen Oberflächen", Pat. pending Aktz. DE 196 18 146.1, Anmeldetag

18.10.1996

9. T. Dresel, J. Schwider, A. Wehrhahn, S. Babin: "Grazing incidence interferometry applied to the measurement of cylindrical surfaces", Opt. Eng. 34 (

1995

), 3531-3535
10. S. Brinkmann, T. Dresel, R. Schreiner, J. Schwider: "Axicon-type test interferometer for cylindrical surfaces", Optik 102 (

1996

), 106-110
11. N. Lindlein, R. Schreiner, S. Brinkmann, T. Dresel, J. Schwider: "Axicon-type test interferometer for cylindrical surfaces: systematic error assessment", Appl. Opt. 36 (

1997

), 2791-2795
12. S. Brinkmann, R. Schreiner, T. Dresel, J. Schwider: "Interferometric testing of plane and cylindrical workpieces with computer generated holograms", Opt. Eng. 37 (

1998

), 2508- 2511
13. T. Dresel, S. Brinkmann, R. Schreiner, J. Schwider: "Testing of rod objects by grazing incidence interferometry: theory", J. Opt. Soc. Am. A 15 (

1998

), 2921-2928
14. S. Brinkmann, T. Dresel, R. Schreiner, J. Schwider: "Testing of rod objects by grazing incidence interferometry: experiment", Appl. Opt. 38 (

1999

), 121-125
15. J. Pfund, N. Lindlein, J. Schwider, "Dynamic range expansion of a Shack-Hartmann sensor by using a modified unwrapping algorithm", Optics Letters, 23, 995-997 (

1998

).

Claims

1. Verfahren zur beidseitigen interferometrischen Planflächenprüfung in streifender Inzidenz mit Hilfe von diffraktiven Elementen dadurch gekennzeichnet, daß eine kohärente Laserlichtwelle von einem geeigneten Kollimatorsystem aufgeweitet wird, mit Hilfe eines anamorphotischen optischen Systems auf Prüflingsdimensionen gespreizt wird und danach mit einem niederfrequenten Gitter hauptsächlich in drei Wellen, nämlich solche nullter und plus/minus erster Beugungsordnung aufgeteilt wird, wobei die Welle in der nullten Ordnung als Referenz für die Wellen erster Ordnung reflektiert an den beiden Seiten des Scheibenobjektes dient und daß ein nachfolgendes gleiches niederfrequentes Gitter die Überlagerung der Wellen erster Ordnung mit der Welle nullter Ordnung herbeiführt, wobei der nachfolgende Anamorphot die Spreizung rückgängig macht, so daß ein nachfolgendes Teleskop eine scharfe reelle Abbildung der Prüflingsoberflächen auf ein Paar geeignet schräggestellter hochfrequenter Gitter ausführt, wobei die Gitter eine Knickung der optischen Achse herbeiführen, die eine gleichzeitige scharfe Abbildung der Abbilder beider Objektseiten auf einem pixellierten Photodetektor nach Passieren einer geeigneten Spiegel- und Abbildungsoptik ermöglicht.

2. Verfahren nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß zur Auswertung der Phasenverteilung des resultierenden Interferogramms eines der niederfrequenten Gitter entweder längs der optischen Achse oder seitlich orthogonal zu den Gitterlinien bewegt wird und dadurch mehrere phasengeschobene Interferenzbilder der gleichen Meßszene erzeugt werden können.

3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2 dadurch gekennzeichnet, daß die Anamorphoten hochfrequente geblazte Gitter geeigneter Ortsfrequenz sind.

4. Verfahren nach Anspruch 1-3 dadurch gekennzeichnet, daß Gitteranamorphot und niederfrequenter Gitterstrahlenteiler in jeweils einem Element zusammengefaßt werden, wobei bei der Herstellung die Separierbarkeit der Beugungseffekte geeignet ausgenutzt wird.

5. Verfahren nach Anspruch 1-3 dadurch gekennzeichnet, daß die Anamorphote im Beleuchtungs- und Abbildungsstrahlengang die Form von geeignet geformten Prismen haben.

6. Verfahren nach Anspruch 1-3 und 5 dadurch gekennzeichnet, daß die niederfrequenten Gitter zur Strahlteilung und Strahlenvereinigung vor- bzw. den Anamorphoten nachgeschaltet werden, wodurch sich die Gitterdimensionen beträchtlich verringern.

7. Verfahren nach Anspruch 1-6 dadurch gekennzeichnet, daß in das Interferometer eine absolute Dickenmessung nach dem Shack-Hartmann-Prinzip und folgender optischer Anordnung integriert wird, die das Scheibenobjekt von zwei Seiten optisch antastet, wobei durch zeitlich wechselseitige Beleuchtung von zwei unabhängigen Lichtquellen mit hoch aperturiger aberrations-korrigierter Optik mit großem Arbeitsabstand eine defokussierte Welle gewonnen wird, aus deren vorzeichenrichtigem Krümmungsradius entweder auf eine Fehljustierung oder direkt auf die Teildickenbeitrag geschlossen werde kann, so daß nach Abschluß der beidseitigen Messungen im angeschlossenen PC des Shack-Hartmann-Sensors die absolute Dicke an einer oder mehrerer ausgewählten Stelle mit hoher Genauigkeit berechnet werden kann und daß der Sensor wechselseitig bei entfernter Scheibe bezüglich seiner Nulleinstellung nach dem gleichen Wirkprinzip eingestellt bzw. geeicht werden kann.

8. Verfahren nach Anspruch 7 dadurch gekennzeichnet, daß zur Eichung des Dickensensors ein hochempfindliches Längenmeßsystem eingesetzt wird, welches die Bewegung der Scheibe von einer linken in eine rechte cat's eye Position mit hoher Auflösung zu messen erlaubt.

9. Verfahren nach Anspruch 1-6 dadurch gekennzeichnet, daß durch Anordnen von geeignet dimensionierten Blenden vor dem ersten Gitter oder durch geeignete Gestaltung der strukturierten Bereiche des ersten Gitters das Entstehen von Dreistrahlinterferenzen verhindert wird.

10. Verfahren nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlteilergitter reine Mäander-Phasengitter sind und ein Aspektverhältnis von 0.5 in ihrem Furchenprofil haben und daß die Phasenverzögerung zwischen phasenschiebendem Bereich der Furche und nicht schiebendem Bereich 0.64π beträgt.