DE10000805A1 - Process for finishing textile substrates - Google Patents

Process for finishing textile substrates

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Abstract

Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Ausrüstung eines textilen Substrates in einem Niederdruckplasmareaktor und das dadurch ermittelte Endprodukt. Zur Durchführung des Verfahrens werden im Niederdruckplasmareaktor turbulente Bewegungen der Partikel des Matrixmaterials erzeugt, die in allen Richtungen auf das Textilsubstrat einwirken. Dadurch wird eine allseitige Ummantelung jeder Faser des Substrates erreicht, ohne daß eine chemische Umwandlung des Substrates erfolgt. Auf diesem Wege lassen sich den bekannten Textileigenschaften weitere Eigenschaften/Funktionen wie z. B. die Abfärbbarkeit, die Scheuerfestigkeit, die UV-Beständigkeit und vieles mehr hinzufügen.The invention relates to a method for finishing a textile substrate in a low-pressure plasma reactor and the final product determined thereby. To carry out the process, turbulent motions of the particles of the matrix material are produced in the low-pressure plasma reactor, which act on the textile substrate in all directions. As a result, an all-round sheathing of each fiber of the substrate is achieved without a chemical conversion of the substrate takes place. In this way, the known textile properties more properties / functions such. As the Abfärbbarkeit, the abrasion resistance, the UV resistance and much more add.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Ausrüstung von textilen Sub­ straten in Niedertemperaturplasmareaktoren.The invention relates to a method for finishing textile sub straten in low-temperature plasma reactors.

Oft ist es wünschenswert, textile Substrate zusätzlich auszurüsten und ihnen nicht vorhandene Funktionen zu geben, um zum Beispiel eine bessere Färbbarkeit, eine bessere Flexibilität leicht brüchiger Materialien, eine Verbesserung der Scheu­ erfestigkeit, eine schwere Entflammbarkeit in Art eines Selbstlöscheffektes und/ oder eine UV-Beständigkeit zu erreichen.Often it is desirable to provide textile substrates in addition and them to provide non-existent functions, for example, better dyeability, a better flexibility of easily brittle materials, an improvement of the shyness strength, a high level of flammability in the form of a self-extinguishing effect and / or to achieve UV resistance.

Es ist bereits zum Ausrüsten von Textilbahnen das sogenannte Umrollverfahren bekannt geworden. Dabei wird die Gewebebahn auf eine leere Rolle gerollt und während des Umrollvorganges mittels einer Plasmaquelle mit Matrixmaterial be­ strahlt. Abgesehen davon, daß nur Bahnenmaterial, Garne bzw. Garnrollen und Vliese an der Plasmaquelle vorbeigeführt werden können und dadurch behandelbar sind, hat der Auftrag noch den Nachteil, daß die dabei entstehende Beschichtung nur auf die Oberfläche aufgebracht wird, da die Plasmapartikel nur in einer Rich­ tung auf das Substrat strahlen. Es tritt dabei eine Ungleichheit der Beschichtung auf, die zu einem sogenannten Licht-Schatten-Effekt führt. Außerdem ist die Strahlungsbreite einer Plasmaquelle geringer als die Breite normaler Textilbahnen, so daß mehrere Plasmaquellen bei bahnenförmigem Substrat nebeneinander einge­ setzt werden müssen, was ebenfalls zu Ungleichmäßigkeiten in der Beschichtung führt.It is already for equipping textile webs the so-called Umrollverfahren known. The fabric web is rolled onto an empty roll and during the Umrollvorganges by means of a plasma source with matrix material be shine. Apart from the fact that only web material, yarn or spools and Fleeces can be passed by the plasma source and thereby treatable  are the order still has the disadvantage that the resulting coating is applied only to the surface, since the plasma particles only in one rich shine on the substrate. There is an inequality of the coating on, which leads to a so-called light-shadow effect. In addition, the Radiation width of a plasma source less than the width of normal textile webs, so that several plasma sources in web-like substrate next to each other must be set, which also leads to unevenness in the coating leads.

Die Erfindung hat sich deshalb zur Aufgabe gemacht, eine Ausrüstung von organi­ schen textilen Substraten bei niederen Temperaturen zu schaffen, wobei das Subs­ trat gleichmäßig von der Matrix ummantelt, nicht nur beschichtet wird und zwar unabhängig davon, in welcher Form das Substrat vorliegt, ob es aus Fasern, Mono­ filen, Gewebegeflechten, Fadenrollen oder anderen Verknüpfungsarten besteht. Die Ausrüstung soll ferner davon unabhängig sein, ob das Substrat aus natürlichen oder synthetischen Materialien aufgebaut ist. Voraussetzung soll dabei auch sein, daß keine chemischen Umwandlung des Substrates erfolgt, sondern nur eine Verbesserung der Funktion des Substrates für bestimmte Verwendungsbereiche.The invention has therefore set itself the task of equipment of organi to create textile substrates at low temperatures, wherein the subs evenly coated by the matrix, not only is coated and indeed regardless of the form in which the substrate is present, whether it is made of fibers, mono filing, woven mesh, thread rolls or other types of linking. The Equipment should also be independent of whether the substrate is made of natural or synthetic materials. The prerequisite should also be that no chemical transformation of the substrate takes place, but only one Improvement of the function of the substrate for certain areas of use.

Die gestellte Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruches 1 enthaltenen Merkmale gelöst. Das darin beschriebene Verfahren ermöglicht ein raumfüllendes Plasma im Reaktor, wobei sich überraschenderwei­ se gezeigt hat, daß die einzelnen Partikel in unterschiedlichen Richtungen auf das Substrat auftreffen und somit eine Matrix um jede Faser des Substrates bilden, wobei es gleichgültig ist, in welcher Form das Substrat vorliegt. Dabei handelt es sich nicht um einseitige Beschichtung, sondern tatsächlich um eine allseitige Ummantelung, so erstaunlich diese Tatsache auch ist. Es können natürliche oder synthetische Textilfasern oder Monofile oder daraus aufgebaute textile Materialien sein. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren werden Textilien neue Funktionen aufgepropft, indem jede Faser des Substrats ummantelt wird.The stated object is achieved by the characterizing part of claim 1 contained features. The method described therein allows a space-filling plasma in the reactor, where surprisingly has shown that the individual particles in different directions on the Impact substrate and thus form a matrix around each fiber of the substrate, it does not matter in which form the substrate is present. It is not one-sided coating, but actually an all-round coating Shroud, as amazing as this fact is. It can be natural or synthetic textile fibers or monofilaments or textile materials constructed thereof  his. With the method according to the invention textiles are new functions grafted by sheathing each fiber of the substrate.

Die Frequenz der Pulse der Spannung liegt dabei im Ultraschallbereich, da dann die Turbulenz und die kinetische Energie der Partikel am größten ist. Vorzugsweise wird das Behandlungsverfahren so durchgeführt, daß alle Pulse der elektrischen Spannung gleiche Polarität haben.The frequency of the pulses of the voltage is in the ultrasonic range, since then the Turbulence and the kinetic energy of the particles is greatest. Preferably the treatment process is carried out so that all pulses of the electric Voltage have the same polarity.

Bei diesem Verfahren werden die Partikel der Matrix mit so hoher kinetischer Energie auf das Substrat geschleudert, daß die Partikel die Fasern des Substrats ummanteln und auch in die einzelnen Fibrillen des Substrates eindringen und somit in die Gitterstruktur der Fibrillen eingelagert werden und das auch bei einem mehrschichtigen Substrat, ohne daß dabei chemische Veränderungen in dem Substrat vorgenommen werden. Bei Partikeln mit vergleichsweise geringer kinetischer Energie lagern sich diese wegen des Eindringwiderstandes auf der Oberfläche der Fasern ab und ummanteln diese, wobei auch die Bewegungs­ richtung der Partikel eine Rolle spielen kann. Die energiereicheren Partikel implantieren sich in der Faser oder durchdringen die Faser bzw. Fasern, um sich auf den benachbarten Fasern abzulagern oder auch sich in dieser einzulagern oder sie zu durchdringen usw. Infolge der Verwendung eines Niedertemperaturplasmas können sogar aus Thermoplasten, wie Polypropylen und Polyethylen hergestellte Substrate behandelt werden.In this process, the particles of the matrix become so kinetic Energy is thrown onto the substrate so that the particles are the fibers of the substrate encase and also penetrate into the individual fibrils of the substrate and thus be embedded in the lattice structure of the fibrils and that also in a multilayer substrate, without causing chemical changes in the Substrate are made. For particles with comparatively low Kinetic energy, these store because of the penetration resistance on the Surface of the fibers from and encase these, including the movement Direction of the particles can play a role. The more energetic particles implant themselves in the fiber or penetrate the fiber or fibers to themselves deposited on the adjacent fibers or to be stored in this or to penetrate them, etc. Due to the use of a low-temperature plasma They can even be made from thermoplastics such as polypropylene and polyethylene Substrates are treated.

Es hat sich gezeigt, daß bei Auskleidung des Reaktorraumes mit einem Wirrfaser­ vlies aus keramischen Materialien besonders gute Ergebnisse erzielt werden.It has been found that when lining the reactor space with a random fiber fleece made of ceramic materials, particularly good results can be achieved.

Das erfindungsgemäß Neue ist die Ummantelung der Fasern innerhalb der Textil­ fläche oder innerhalb eines Garns oder eines Monofils ebenso wie eines Multifils, sowie die Einlagerung der Matrixpartikel in das Substrat. New according to the invention is the sheathing of the fibers within the textile surface or within a yarn or a monofilament as well as a multifilament, and the incorporation of the matrix particles in the substrate.  

Dem erfindungsgemäßen Verfahren kann eine Aktivierung, d. h. eine Veränderung der Oberflächenspannung in einem Gasplasma, z. B. einem Sauerstoffplasma ohne Target zur Bildung einer Matrix vorgeschaltet werden, um dem Substrat eine besondere Funktion, z. B. eine Verbesserung der Anfärbbarkeit zu vermitteln. Außerdem geht dabei gleichzeitig ein Reinigungsprozeß vor sich, da im Sauerstoff­ plasma organische Verunreinigungen auf dem Substrat, z. B. Fett in seine ungifti­ gen Grundbausteine zerlegt werden.The method according to the invention can be activated, i. H. a change the surface tension in a gas plasma, z. B. an oxygen plasma without Target upstream of forming a matrix to the substrate a special function, eg. B. to convey an improvement in dyeability. In addition, at the same time a cleaning process is going on, as in the oxygen plasma organic contaminants on the substrate, e.g. B. fat in his ungifti are broken down into basic building blocks.

Das textile Substrat kann in Form eines Gewebes, Geflechts, Vlieses, Non-wovens oder eines Fadens, Fadenbündels und in Form von Fasern einer Fasermasse vorlie­ gen. Die Matrix wird dabei auch implantiert, jedoch bleiben trotzdem - es sei noch­ mals betont - die charakteristischen Eigenschaften des textilen Substrates erhalten, wie z. B. Flexibilität, Reiß- und Zugfestigkeit oder die Gas- und Flüssigkeitsdurch­ lässigkeit. Auch die Optik des Textils wird dabei nicht beeinträchtigt. Es handelt sich also nicht um eine Gewebebeschichtung, die die Porigkeit beeinträchtigen würde, sondern es wird wirklich jede Faser ob kurz oder lang ummantelt. Die Ummantelung erfolgt ohne spürbare Raumeinnahme, da die Ummantelungsschicht im Nanobereich liegt. Auch wurde keine Verklebung beobachtet. Die Matrixpartikel dringen infolge der kinetischen Energie zwischen die Moleküle des Subtrates, so daß eine heterogene Mischung entsteht und die behandelnden textilen Substrate wasch-, koch- und reinigungsbeständig sind.The textile substrate may be in the form of a woven, braided, nonwoven, nonwovens or a thread, bundle of filaments and in the form of fibers of a fiber mass The matrix is also implanted, but it still remains - it still is emphasizes - preserves the characteristic properties of the textile substrate, such as B. flexibility, tear and tensile strength or the gas and liquid through permeability. The appearance of the textile is not affected. It deals So not a fabric coating that affect the porosity but really every fiber will be sheathed sooner or later. The Sheathing takes place without noticeable space occupancy, since the sheathing layer lies in the nano range. Also, no sticking was observed. The matrix particles penetrate as a result of the kinetic energy between the molecules of the substrate, so that a heterogeneous mixture is formed and the treating textile substrates are resistant to washing, cooking and cleaning.

Infolge der Umhüllung der einzelnen Fasern durch die Matrix erfolgt eine schatten­ freie Aufbringung des Behandlungsmaterials in ein mehrschichtiges Gebilde bzw. in eine Fasermasse. Es zeigt sich, daß in denjenigen Fasern des textilen Substrates, welches an der Außenseite des mehrschichtigen textilen Gebildes bzw. der Faser­ masse befanden und in diejenigen Fasern, welche sich im Kernbereich des mehr­ schichtigen textilen Gebildes bzw. Substrates befanden in etwa gleichen Mengen des Matrixmaterials eingebracht und von diesem ummantelt wurden. As a result of the wrapping of the individual fibers through the matrix, a shadow takes place free application of the treatment material in a multilayer structure or into a pulp. It can be seen that in those fibers of the textile substrate, which on the outside of the multilayer textile structure or the fiber mass and in those fibers, which are in the core of the more layered textile structure or substrate were in approximately equal amounts of the matrix material were introduced and encased by this.  

Die der Basisspannung überlagerten Pulse weisen erfindungsgemäß einen etwa gleichmäßig steilen Anstieg der Spannung auf und einen ungleichmäßigen Ab­ fall mit einer Spitzenspannung im Bereich von KeV vorzugsweise zwischen 2-5 KeV. Zwischen den Pulsen der elektrischen Spannung liegen spannungsfreie Zeiträume, deren Dauer etwa 50-60% der Anlagezeit der Pulse ausmacht. Die Frequenz der Spannung ist im Ultraschallbereich angesiedelt und beträgt vor­ zugsweise 100-300 MHz. Der Druck in dem Reaktor liegt unterhalb von 10 mbar, vorzugsweise zwischen 1-2 mbar.The pulses superimposed on the base voltage have an approximately according to the invention evenly steep rise in tension and uneven discharge case with a peak voltage in the range of KeV preferably between 2-5 KeV. Between the pulses of the electrical voltage are voltage-free Periods whose duration is approximately 50-60% of the investment time of the pulses. The Frequency of the voltage is located in the ultrasonic range and is present preferably 100-300 MHz. The pressure in the reactor is below 10 mbar, preferably between 1-2 mbar.

Das Verfahren kann in verschiedenen Gasplasmen, wie z. B. Stickstoff, Sauerstoff, Kohlendioxyd oder gegebenenfalls auch Monomergase durchgeführt werden. Als Matrix kommen organische und anorganische Materialien sowie deren Verbin­ dungen und auch synthetische Materialien in Anwendung, die als Target in dem Reaktor eingelegt sind. Beispielhaft zu nennen sind Metalle, Metallegierungen, Metallcarbide und oxyde, Silikate, Borate und organische Moleküle.The method can be used in various gas plasmas, such. Nitrogen, oxygen, Carbon dioxide or possibly also monomer gases are performed. When Matrix come organic and inorganic materials and their Verbin applications and also synthetic materials used as target in the Reactor are inserted. By way of example, metals, metal alloys, Metal carbides and oxides, silicates, borates and organic molecules.

Die Substrate können aus allen aus Fasern und Endlosfasern (Monofilen) her­ gestellten Verknüpfungen bestehen. Auch ist es möglich, in der Flocke gemischte Gespinste oder gemischte Zwirne zu behandeln sowohl aus natürlichen als auch aus synthetischen, organischen oder anorganischen Fasern, auch Flächen sowie Fäden und auch Flocken als Schüttgut können behandelt werden.The substrates can be made of all fibers and continuous fibers (monofilaments) made links exist. Also it is possible to mixed in the flake To treat braided or mixed threads both natural and natural made of synthetic, organic or inorganic fibers, also surfaces as well Threads and also flakes as bulk material can be treated.

Die durch die Substrate aufgetragenen Funktionen können z. B. folgende For­ derungen erfüllen. Es kann eine Antistatik erreicht werden, die elektrische Lei­ fähigkeit kann verbessert werden, eine Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen kann erhalten werden, sowie eine Scheuerbeständigkeit, ein verbessertes Gleitverhalten, eine Knitterarmut, eine wasser- und fleckabweisende Funktion. Auch ist ein UV-Schutz und IR-Schutz möglich. Alle Differenzierungen können hier nicht aufgeführt werden. The applied by the substrates functions may, for. B. following For meet the requirements. It can be achieved an antistatic, the electric lei ability can be improved, a shield against electromagnetic Waves can be obtained, as well as a scrub resistance, an improved Sliding behavior, a crease, a water and stain repellent function. Also, a UV protection and IR protection is possible. All differentiations can not listed here.  

Zusammenfassend ist zu sagen, daß die durch das erfindungsgemäß vorgeschla­ gene Verfahren erzeugten Turbulenzen im Plasmareaktor die Matrixpartikel, die von dem Target abgetragen werden, aus allen Richtungen mit einer so hohen kineti­ schen Energie auf das Substrat aufprallen, daß sie überraschenderweise umman­ teln, implantiert werden sowie die Fasern durchdringen, so daß ohne Umrollprozeß z. B. Garnspulen und aufgerollte Textilbahnen ausgerüstet werden können. In gleicher Weise kann Schüttgut ohne Umwälzung des Substratmaterials ummantelt werden und es gibt an Fadenkreuzungen, Überlagerungen und Hinterschneidungen kein Licht-Schatten-Effekt. Das Wesentliche vorliegender Erfindung liegt darin, daß Änderungen technischer Eigenschaften jeder noch so feinen Fibrillen in jeder Modi­ fikation eines textilen Materials ermöglicht wird. Es handelt sich bei der Erfindung um die Ummantelung und Durchdringung von Fasern in porösen Flächen. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird somit das Textil nicht zugesiegelt; es bleibt also atmungsaktiv.In summary, it should be said that the proposed by the present invention In the process, turbulences in the plasma reactor produced the matrix particles generated by be removed from the target, from all directions with such a high kineti impact energy on the substrate that they umman surprisingly umman To be implanted and penetrate the fibers, so that without Umrollprozeß z. As yarn packages and rolled up textile webs can be equipped. In in the same way bulk material can be encased without circulation of the substrate material and there are crosshairs, overlays and undercuts no light-shadow effect. The essence of the present invention is that Changes in the technical characteristics of every fibril in every mode fication of a textile material is made possible. It is in the invention about the sheathing and penetration of fibers in porous surfaces. In which according to the invention thus the textile is not sealed; it stays that way breathable.

Die Fig. 1 veranschaulicht einen bevorzugten Verlauf aufeinanderfolgender Pulse gleicher elektrischer Spannung in Abhängigkeit von der Zeit. In dieser Zeichnung ist die Spannung der Pulse in KeV (Kiloelektronenvolt) auf der Ordinate aufgetragen die Zeit auf der Abzisse. In der dargestellten Figur sind die Zeiträume der Pulse etwa doppelt so lang wie die spannungsfreien Zeiträume zwi­ schen zwei sich folgenden Pulse, also die spannungsfreien Zeiträume betragen in etwa 50% der Zeit zwischen zwei sich folgenden Pulsen. FIG. 1 illustrates a preferred course of successive pulses of equal electrical voltage as a function of time. In this drawing, the voltage of the pulses in KeV (kilo-electron volts) is plotted on the ordinate, the time on the abscissa. In the illustrated figure, the periods of the pulses are about twice as long as the voltage-free periods between tween two following pulses, so the voltage-free periods are in about 50% of the time between two consecutive pulses.

Die Fig. 2 zeigt eine Rasterelektronenmikroskopaufnahme einer Kohlefaser, die gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren mit Titancarbid behandelt worden ist. Die eingelagerten Matrixpartikel sind auf der Aufnahme als kleine weißen Stellen zu sehen. Die Ummantelung ist der weiße Außenring. FIG. 2 shows a scanning electron micrograph of a carbon fiber which has been treated with titanium carbide according to the method of the invention. The embedded matrix particles can be seen on the picture as small white spots. The sheath is the white outer ring.

In Fig. 3 ist eine Aufnahme von mehreren Fasern aus einem Faden, deren Fasern einzeln nach dem erfindungsgemäßen Verfahren ummantelt sind.In Fig. 3 is a receptacle of a plurality of fibers of a thread whose fibers are individually sheathed by the method according to the invention.

Ein Beispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens ist nachfolgend an Hand eines end­ losen Kohlefilaments mit Faserdurchmessern von 5 beschrieben, wobei die Kohle­ filamente zu einem Gewebe verarbeitet sind und das Gewebe in einer Niederdruck­ kammer unter Einhaltung eines Druckes von 2 mbar in einer Stickstoffatmosphäre oder in einer Argonatmonsphäre nach dem Niedertemperaturplasmaverfahren be­ handelt. Auf die Innenseite der Wand der Behandlungskammer wurde Beschich­ tung z. B. Titancarbit und Polytetrafluorethylen aufgebracht, um die Bildung von Raumplasma von allen Seiten zu stützen. Die Pulse der elektrischen Spannung haben eine Wiederholfrequenz von 150 MHz, die Spitzenspannung der Pulse betrug 3 KeV. Die Pulse hatten die in Fig. 1 gezeigte Zeitabhängigkeit der Spannung.An example of the method according to the invention is described below with reference to a continuous carbon filament with fiber diameters of 5, wherein the coal filaments are processed into a fabric and the tissue in a low-pressure chamber while maintaining a pressure of 2 mbar in a nitrogen atmosphere or in an argon atmosphere the low-temperature plasma method be. On the inside of the wall of the treatment chamber was Beschich device z. As titanium carbide and polytetrafluoroethylene applied to support the formation of space plasma from all sides. The pulses of the electrical voltage have a repetition frequency of 150 MHz, the peak voltage of the pulses was 3 KeV. The pulses had the time dependence of the voltage shown in FIG .

Der Stromfluß ist vom Volumen und der Leitfähigkeit des Substrates abhängig. Im vorliegenden Fall betrug er 0,1 bis 0,2 Watt pro Liter Volumen des Substrates.The current flow depends on the volume and the conductivity of the substrate. in the In this case, it was 0.1 to 0.2 watts per liter of volume of the substrate.

Die Behandlung erfolgte während weniger Minuten.The treatment took place within a few minutes.

In den nachfolgenden Tabellen sind die Zugfestigkeit und die Scheuerfestigkeit der so behandelten Kohlefasergewebe vor der Behandlung und nach der Behandlung angeführt:In the following tables the tensile strength and the abrasion resistance are the so treated carbon fiber fabrics before treatment and after treatment stated:

Zugfestigkeit tensile strenght

Gewebe ohne UmmantelungFabric without sheath Gewebe mit UmmantelungTissue with sheath Kette: 36887 cNChain: 36887 cN 39585 cN39585 cN Schuß: 37855 cNShot: 37855 cN 38915 cN38915 cN

Scheuerfestigkeit Lochbildung bei Scrub resistance hole formation at

Gewebe ohne UmmantelungFabric without sheath Gewebe mit UmmantelungTissue with sheath Kette 3000 TourenChain 3000 tours 6500 Touren6500 tours Schuss 4000 TourenShot 4000 tours 8000 Touren8000 tours

Die Scheuerbeständigkeit wurde am Martingdale-Gerät überprüft.Scrub resistance was checked on the Martingdale device.

Aus den obigen Ergebnissen sieht man, daß durch das Behandlungsverfahren die hohen Zugfestigkeitswerte der Kohlefasern sogar noch erhöht wurden. Die Scheuer­ festigkeit wurde jedoch, wie aus den Untersuchungen am Martingdale-Gerät er­ sichtlich, in hervorragender Weise verbessert. Es zeigt sich dabei, daß auch Dünnstschichten, die ressourcenschonend sind, auch als Funktionsschicht eine große Wirksamkeit besitzen. Infolge des schon erwähnten Implantiereffektes durch den eine heterogene Molekülmischung ohne eine chemische Reaktion erfolgt, wird ein Abrieb oder ein Abblättern der Schicht vermieden und die guten Werte hinsicht­ lich der Scheuerbeständigkeit erreicht.From the above results, it can be seen that by the treatment method high tensile strength values of the carbon fibers were even increased. The scouring strength, however, as from the investigations on Martingdale device he visibly, excellently improved. It turns out that too Dünnstschichten, which are resource-saving, as a functional layer one possess great effectiveness. Due to the already mentioned implantation effect a heterogeneous molecular mixture without a chemical reaction takes place is avoiding abrasion or peeling of the layer and good values reached the scouring resistance.

Claims (13)

1. Verfahren zur Ausrüstung textiler Substrate aller Art durch Behandlung mit Matrixmaterialien in dem Spannungsfeld eines Niedertemperaturplasmareak­ tors, gekennzeichnet durch Anlegen einer gepulsten Spannung an das Spannungsfeld eines Niedertem­ peraturplasmareaktors mit in einer gasdichten Kammer erzeugten Plasma, wobei die Frequenz der einzelnen Pulse der elektrischen Spannung im Ultraschallbereich liegt und die Spitzenspannung im KeV-Bereich.1. A process for finishing textile substrates of all kinds by treatment with matrix materials in the voltage field of a low temperature plasma reactor, characterized by applying a pulsed voltage to the voltage field of a low temperature plasma reactor with plasma generated in a gas-tight chamber, the frequency of the individual pulses of the electrical voltage in the Ultrasonic range is and the peak voltage in the KeV range. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß alle Pulse der elektrischen Spannung gleiche Polarität aufweisen.2. The method according to claim 1, characterized, that all pulses of the electrical voltage have the same polarity. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kammer des Reaktors mit einem Wirrfaservlies ausgelegt ist.3. The method according to claim 1, characterized, that the chamber of the reactor is designed with a random fiber fleece. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Wirrfaservlies aus keramischen Materialien besteht. 4. The method according to claim 3, characterized, that the random fiber fleece consists of ceramic materials.   5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat aus natürlichen oder synthetischen Textilfasern oder -fäden sowie darauf aufgebauten Verknüpfungen und Formen besteht.5. The method according to claim 1, characterized, that the substrate of natural or synthetic textile fibers or threads as well as links and forms constructed thereon. 6. Verfahren nach Ansprüchen 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Matrixmaterial aus organischen, anorganischen und synthetischen Stoffen einschließlich deren Verbindungen besteht, die als Target in den Reaktor eingelegt sind.6. Process according to claims 1 and 3, characterized, that the matrix material of organic, inorganic and synthetic Substances including their compounds, which are targeted in the Reactor are inserted. 7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat zunächst aktiviert und dann behandelt wird.7. The method according to claim 1, characterized, that the substrate is first activated and then treated. 8. Verfahren nach den Ansprüchen 1 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel der Matrix mit so hoher kinetischer Energie auf die Fasern des Substrats auftreffen, daß die Partikel die Fasern ummanteln, in die einzelnen Fibrillen des Substrats eindringen und in die Gitterstruktur der Fibrillen auch bei einem mehrschichtigen Substrat eingelagert werden, ohne daß Verklebungen und/oder eine meßbare Raumvergrößerung des Substrats erfolgen.8. Process according to claims 1 or 3, characterized, that the particles of the matrix with such high kinetic energy on the fibers Impact of the substrate that the particles encase the fibers, in the penetrate individual fibrils of the substrate and into the lattice structure of Fibrils are also stored in a multi-layered substrate, without that bonds and / or a measurable increase in the size of the substrate respectively. 9. Verfahren nach den Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den Pulsen der elektrischen Spannung spannungsfreie Zeiträume liegen, wobei die Dauer der spannungsfreien Zeiträume etwa 40-60% der Pulsdauer betragen.9. Method according to claim 2, characterized, that voltage-free between the pulses of the electrical voltage  Periods are, with the duration of the voltage-free periods about 40-60% of the pulse duration amount. 10. Verfahren nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß dieses in einer Gasatmosphäre erfolgt und der Druck, unter welchem die Plasmabehandlung stattfindet, unterhalb von 10 mbar liegt.10. The method according to one or more of the preceding claims, characterized, that this takes place in a gas atmosphere and the pressure under which the plasma treatment takes place below 10 mbar. 11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die der Basisspannung überlagerten Pulse einen gleichmäßig steilen Anstieg der Spannung und einen ungleichmäßigen Abfall aufweisen.11. The method according to claim 1, characterized, that the pulses superimposed on the base voltage have a uniform steepness Increase in voltage and uneven waste. 12. Verfahren nach Ansprüchen 1 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Spitzenspannung im Bereich von 2-5 KeV liegt.12. The method according to claims 1 or 10, characterized, the peak voltage is in the range of 2-5 KeV. 13. Nach dem Verfahren gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche ausgerüsteten teilen Substrates.13. According to the method according to one or more of the preceding Claims equipped share substrate.
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