|
US11572620B2
(en)
|
|
Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
|
|
KR102546317B1
(ko)
|
|
기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
|
|
US5732597A
(en)
|
|
Pre-loaded self-aligning roller nut assembly for standard micrometer spindle and the like
|
|
US20190027584A1
(en)
|
|
Method for selectively depositing a group iv semiconductor and related semiconductor device structures
|
|
TW202200829A
(zh)
|
|
基板處理方法
|
|
CN113249706A
(zh)
|
|
用于沉积间隙填充流体的方法及相关系统和设备
|
|
CN112992667A
(zh)
|
|
形成氮化钒层的方法和包括氮化钒层的结构
|
|
KR20210010817A
(ko)
|
|
토폴로지-제어된 비정질 탄소 중합체 막을 형성하는 방법
|
|
TW202108818A
(zh)
|
|
原位清潔一反應室之方法及半導體膜沉積系統
|
|
KR20200058288A
(ko)
|
|
반응 챔버 내의 기판 상에 금속 실리케이트 막을 형성하는 방법 및 관련 반도체 소자 구조
|
|
US20250297359A1
(en)
|
|
Method and system for depositing molybdenum layers
|
|
US8794085B2
(en)
|
|
Electromechanical telescopic actuator
|
|
TW201920736A
(zh)
|
|
通過迴圈沉積過程在基材的介電表面上沉積鉬金屬膜的方法和相關的半導體元件結構
|
|
TW202030778A
(zh)
|
|
化學沉積、處理及/或滲入裝置及其使用方法
|
|
KR20170001617A
(ko)
|
|
금속 카바이드 재료를 포함하는 구조물, 그 구조물을 포함하는 디바이스, 및 그의 형성 방법
|
|
TW202037751A
(zh)
|
|
噴淋頭總成及其組件
|
|
CN110576399A
(zh)
|
|
一种便于调节角度的夹持机构
|
|
US4856356A
(en)
|
|
Screw jack
|
|
KR20220071918A
(ko)
|
|
갭 충진 방법과 이와 관련된 시스템 및 소자
|
|
FR2093766A5
(enExample)
|
|
|
|
DE3106221C2
(de)
|
|
Spindelantrieb
|
|
AT517943B1
(de)
|
|
Gewindetrieb mit zumindest einem Lager als Planeten
|
|
DE2129345A1
(de)
|
|
Rollmuttergetriebe
|
|
EP0178479B1
(de)
|
|
Spindeltrieb
|
|
GB629993A
(en)
|
|
Improvements in and relating to screw feeds
|