DD217346A2 - SEMICONDUCTOR MEMORY ELEMENT WITH TWO FIELD EFFECT TRANSISTORS - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Halbleiterspeicherelement mit zwei Feldeffekttransistoren nach Patent 160 601, dessen Einsatz insbesondere auf dem Gebiet der integrierten Halbleiterspeicher fuer elektronische Rechner und Datenverarbeitungsanlagen erfolgt. Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, durch Modifikation der Anordnung die Lesespannung und die Lesegeschwindigkeit des Halbleiterspeicherelementes zu erhoehen. Erfindungsgemaess wird die Aufgabe dadurch geloest, dass in dem Halbleiterspeicherelement mit zwei Feldeffekttransistoren nach Patent 160 601 das Gate des Transfertransistors Tt als Floatinggate wirkt, die Source- und Drainelektroden des Transfertransistors zum einen auf die Bitleitung und zum anderen auf eine Lesesteuerleitung fuehrt und weiterhin das Gate des Ladetransistors TL direkt an die Wortleitung (entspricht Kapazitaet C2x ) geschaltet ist bzw. das Gate des Ladetransistors TL direkt an die Wortleitung geschaltet ist und zusaetzlich die Kapazitaet C2 am Gate des Transfertransistors Tt entfaellt (entspricht Kapazitaet C2x , Kapazitaet C2 0). Fig. 2The invention relates to a semiconductor memory element with two field effect transistors according to patent 160 601, whose use is particularly in the field of integrated semiconductor memory for electronic computers and data processing systems. The object of the invention is to increase the reading voltage and the reading speed of the semiconductor memory element by modifying the arrangement. According to the invention, the object is achieved in that in the semiconductor memory element with two field effect transistors according to patent 160 601, the gate of the transfer transistor Tt acts as a floating gate, the source and drain electrodes of the transfer transistor on the one hand to the bit line and the other on a read control line leads and further the gate of the charging transistor TL is connected directly to the word line (corresponds to capacitance C2x) or the gate of the charging transistor TL is connected directly to the word line and, in addition, the capacitance C2 at the gate of the transfer transistor Tt is omitted (corresponds to capacitance C2x, capacitance C2 0). Fig. 2
Description
HalbleitersDeicherelement mit zwei FeldeffekttransistorenSemiconductor fuse element with two field effect transistors
Die Erfindung betrifft ein Halbleiterspeicherelement mit zwei Feldeffekttransistoren nach Patent 1£0 6Oi',, dessen Einsatz insbesondere auf dem Gebiet der integrierten Halbleiterspeicher für elektronische Rechner und Datenverarbeitungsanlagen erfolgt.The invention relates to a semiconductor memory element with two field effect transistors according to patent 1 0 0 6Oi ',, whose use is particularly in the field of integrated semiconductor memory for electronic computers and data processing systems.
Das im Patent jSO6öi beschriebene Halbleiterspeicherelement mit zwei Feldeffekttransistoren wurde in einem Ausführungsbeispiel derart beschrieben, daß das Lesen einer Information dadurch geschieht, daß die Bitleitung zunächst auf einen niedrigen Spannungspegel, z.B. (OV),entladen wird. Nach Aktivierung der Speicherzelle mit einem Wortleitungsimpuls wird im Speicherzustand "H" die Bitleitung über den Transfertransistor T, auf einen Bruchteil der Betriebsspannung aufgeladen. Selbst bei optimaler Bemessung des Halbleiterspeicherelementes sind keine größeren Lesespannungen als 1 V zu erreichen.The semiconductor memory element with two field effect transistors described in the patent WO0416 has been described in one embodiment such that the reading of information occurs by first discharging the bit line to a low voltage level, eg (OV). After activation of the memory cell with a word line pulse in the memory state "H", the bit line is charged via the transfer transistor T, to a fraction of the operating voltage. Even with optimum dimensioning of the semiconductor memory element, reading voltages greater than 1 V can not be achieved.
Ziel der Erfindung · .. Object of the invention · ..
Die Verbesserung der Halbleiterspeicherelemente mit zwei Feldeffekttransistoren nach Patent 160 601 ist darauf gerichtet, die Lesespannung und die Lesegeschwindigkeit des Halbleiterspeicherelementes zu erhöhen.The improvement of the semiconductor memory elements with two field effect transistors according to the patent 160 601 is directed to increase the read voltage and the read speed of the semiconductor memory element.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, durch Modifikation der Anordnung die Lesespannung und die Lesegeschwindigkeit des Halbleiterspeicherelementes zu erhöhen. Erf indungsgemä'ß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß, in dem Halbleiterspeicherelement mit zwei Feldeffekttransistorennach Patent i£O ΘΟ1 das Gate des Transfertransistors T, als Floatinggate wirkt, die Source- und Drainelektroden des . / Transfertransistors zum einen auf die Bitleitung und zum anderen auf eine Lesesteuerleitung führsnund weiterhin das Gate des Ladetransistors T, direkt an die IVortleitung (entspricht Kapazität C2A—» 00 ~) geschaltet ist bzw. das Gate des Lade-, transistors T. direkt an die Wortleitung geschaltet ist und zusätzlich die Kapazität C2 am Gate des Transfertransistors T. entfällt (entspricht Kapazität C2X—*· oc /Kapazität C2—-O)The object of the invention is to increase the reading voltage and the reading speed of the semiconductor memory element by modifying the arrangement. According to the invention, the object is achieved in that, in the semiconductor memory element having two field effect transistors according to the patent, the gate of the transfer transistor T acts as a floating gate, the source and drain electrodes of the. / Transfertransistors on the one hand to the bit line and on the other hand on a read control line and continue the gate of the charging transistor T, directly to the IVortleitung (corresponds capacitance C2 A - »00 ~) is connected or the gate of the charging, transistor T. directly to the word line is connected and in addition the capacitance C2 at the gate of the transfer transistor T. is omitted (corresponds to capacitance C2 X - * * oc / capacitance C2 - O)
Die Erfindung soll,nachfolgend an Ausführungsbeispielen näherThe invention is intended to be closer to exemplary embodiments
erläutert werden. - ' .be explained. - '.
Die dazugehörigen Zeichnungen zeigen: -The accompanying drawings show: -
Fig. 1: Speicherelement mit 2 Feldeffekttransistoren und 2 Kapazitäten ;.Fig. 1: memory element with 2 field effect transistors and 2 capacitances ;.
Fig. 2: Speicherelement mit 2 Feldeffekttransistoren und 1 Kapazität Fig. 2: memory element with 2 field effect transistors and 1 capacity
Fig. 3: Speicherelement mit 2 FeldeffekttransistorenFig. 3: memory element with 2 field effect transistors
Das Schreiben erfolgt bei den Varianten in Fig. 1,2,3 durch einen High-Pegel an der Wortleitung W, wodurch der Ladetransistor T. eingeschaltet und das Floatinggate des Transfertransistors entsprechend dem Pegel der Bitleitung B mehr oder weniger aufgeladen wird (CL = "H " ; Q = "L").The writing takes place in the variants in Fig. 1,2,3 by a high level on the word line W, whereby the charging transistor T is turned on and the floating gate of the transfer transistor according to the level of the bit line B more or less charged (CL = " H "; Q =" L ").
Das Lesen erfolgt bei den Lösungen gemäß Fig. 1,2,nach'dem die Bitleitung B auf die Betriebsspannung,Cz.B. IL = 5V) vorgeladen, die Lesesteuerleitung LS entladen (z.B. U1 Q = OV) und durch einen mittleren Spannüngspegel an der Wortleitung W der Ladetransistor T. nicht eingeschaltet, aber der Transfertran-'-., sistor T, eingeschaltet wird, falls auf dem Floatinggate eine Ladung CL . = "H" gespeichert war. In diesem Fall wird die Bitleitung über den Transfertransistor T auf OV entladen. War keine oder nur eine kleine Ladung CQ =. "L") auf dem Floatinggate gespeichert, so bleibt die Bitleitung, auf der Betriebsspannung aufgeladen, da dann der Transfertransistor T nicht eingeschaltet werden kann.The reading takes place in the solutions according to FIG. 1, 2, after the bit line B is switched to the operating voltage, Cz. IL = 5V), discharging the read control line LS (eg, U 1 Q = OV), and not turning on the charging transistor T by a mean voltage level on the word line W, but turning on the transfer transistor, T, if open the Floatinggate a charge CL. = "H" was saved. In this case, the bit line is discharged via the transfer transistor T to OV. Was no or just a small charge CQ =. "L") stored on the floating gate, so the bit line remains charged to the operating voltage, since then the transfer transistor T can not be turned on.
Das Lesen erfolgt bei der Variante nach Typ 3, nachdem die Bitleitung auf die Betriebsspannung (z.B. LL = 5V) vorgeladen wurde und die Lesesteuerleitung von einem bestimmten mittleren Spannungspegel Cz-B. U = 1,5V), der im nicht ausgewählten. Zustand einen Stromfluß durch den Transfertransistor T, in jedem Falle verhindert, auf OV geschaltet wird. War die Ladung auf dem Floatinggate groß genug, CQ1 = "H"), so daß der Transfertransistor T. eingeschaltet ist, so wird die Bitleitung entladen. Ist entgegen die Ladung auf dem Floatinggate klein (Q '= "L"), so daß der Transfertransistor T, ausgeschaltet bleibt, so wird die Bitleitung nicht entladen.The reading takes place in the variant according to type 3, after the bit line has been pre-charged to the operating voltage (eg LL = 5V) and the read control line from a certain mean voltage level Cz-B. U = 1.5V), which is not selected. State prevents current flow through the transfer transistor T, in any case, is switched to OV. If the charge on the floating gate was large enough, CQ 1 = "H"), so that the transfer transistor T. is turned on, the bit line is discharged. If, contrary to the charge on the floating gate small (Q '= "L"), so that the transfer transistor T, remains off, the bit line is not discharged.
Claims (1)
Patent 160 £01 , daß die Gates des Transfer- und des
Ladetransistors über die Kapazitäten C2'v und C2 an die Wortleitung geschaltet sind, daß die resultierende Schwellspannung
des Ladetransistors zwischen den resultierenden Schwellsoannunaen des Transfertransistors im "1" bzw. "0" - Zustand liegt, und daß. die erste Drain/Source"- Elektrode des Transfertransistors direkt mit der Bitleitung verbunden ist, gekennzeichnet dadurch, daß
das Gate des Transfertransistors (T,) als Floatinggate wirkt, die Source- und Drainelektroden des Transfertransistors zum einen
auf die Bitleitung (8) und zum anderen auf eine Lesesteuerleitung (LS) führen und weiterhin das Gate des Ladetransistors (T. ) direkt an die Wortleitung (entspricht Kapazität C2-*oe) geschaltet ist
bzw. das Gate des Ladetransistors (T.) direkt an d'i,e Wortleitung (W) geschaltet ist und zusätzlich die Kapazität (C2) am Gate des Transfertransistors (T.) entfällt (entspricht Kapazität C2~—*-oo ,Kapazität C2 —*· 0) . . _ Semiconductor memory element with two field effect transistors after
Patent 160 pounds 01 that the gates of the transfer and the
Charging transistor via the capacitors C2 ' v and C2 are connected to the word line, that the resulting threshold voltage
of the charging transistor between the resulting Schwellsoannunaen the transfer transistor in the "1" or "0" - is state, and that. the first drain / source electrode of the transfer transistor is connected directly to the bit line, characterized in that
the gate of the transfer transistor (T,) acts as a floating gate, the source and drain electrodes of the transfer transistor on the one hand
lead to the bit line (8) and the other on a read control line (LS) and further, the gate of the charging transistor (T.) is connected directly to the word line (corresponds capacitance C2- * oe)
or the gate of the charging transistor (T.) is connected directly to d'i, e word line (W) and in addition the capacitance (C2) at the gate of the transfer transistor (T.) is omitted (corresponds capacitance C2 ~ - * - oo, capacitance C2 - * · 0). , _
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD25083383A DD217346A2 (en) | 1983-05-11 | 1983-05-11 | SEMICONDUCTOR MEMORY ELEMENT WITH TWO FIELD EFFECT TRANSISTORS |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DD25083383A DD217346A2 (en) | 1983-05-11 | 1983-05-11 | SEMICONDUCTOR MEMORY ELEMENT WITH TWO FIELD EFFECT TRANSISTORS |
Publications (1)
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DD217346A2 true DD217346A2 (en) | 1985-01-09 |
Family
ID=5547254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DD25083383A DD217346A2 (en) | 1983-05-11 | 1983-05-11 | SEMICONDUCTOR MEMORY ELEMENT WITH TWO FIELD EFFECT TRANSISTORS |
Country Status (1)
Country | Link |
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DD (1) | DD217346A2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19705001A1 (en) * | 1996-04-12 | 1997-10-16 | Lg Semicon Co Ltd | Unit cell of DRAM without capacitor |
-
1983
- 1983-05-11 DD DD25083383A patent/DD217346A2/en not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE19705001A1 (en) * | 1996-04-12 | 1997-10-16 | Lg Semicon Co Ltd | Unit cell of DRAM without capacitor |
DE19705001C2 (en) * | 1996-04-12 | 2002-06-13 | Lg Semicon Co Ltd | Dynamic memory with random access without a capacitor |
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