DD152989A1 - ARRANGEMENT FOR THE CORRECTION OF TARGET AND ACTUAL VALUES - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Korrektur von Soll- und Istwerten bei einem vorzugsweise radiometrisch arbeitenden Messverfahren zur Ermittlung von Schichtdicken an kontinuierlich arbeitenden Beschichtungsanlagen. Ziel der Erfindung ist eine Anordnung zu schaffen, die mit geringem technischen Aufwand eine bessere Messwertverarbeitung innerhalb eines Regelkreises ermoeglicht. Erfindungsgemaess wird dies durch eine Anordnung zur Messwertkorrektur geloest, die zwischen einer Messwerterfassungseinheit und einer Messwertverarbeitungseinheit angeordnet ist. Die Messwertkorrektur ist entsprechend den technologischen und messtechnischen Bedingungen mit einem oder mehreren manuell bewertbaren statischen und/oder dynamischen Prozessparameterspeichern ausgefuehrt, die mit einer Basiskorrektureinheit, welche unter Zuschaltung einer Messkopflageeinheit einen korrigierten Bezugswert bildet, verbunden sind. Der Basiskorrektureinheit ist eine Arithmetikeinheit zur Bildung des absoluten Istwert nachgeschaltet, die mit einer Funktionseinheit zur Bildung des relativen Istwertes gekoppelt ist. Der korrigiertes Messwert wird einer weiteren Messwertverarbeitung zugefuehrt.The invention relates to an arrangement for correcting setpoints and actual values in a preferably radiometric measuring method for determining layer thicknesses of continuously operating coating systems. The aim of the invention is to provide an arrangement which allows a better measurement value processing within a control loop with little technical effort. According to the invention, this is achieved by an arrangement for measuring value correction, which is arranged between a measured value acquisition unit and a measured value processing unit. The measured value correction is carried out in accordance with the technological and metrological conditions with one or more manually assessable static and / or dynamic process parameter memories, which are connected to a basic correction unit, which forms a corrected reference value when a measuring head position unit is connected. The basic correction unit is followed by an arithmetic unit for forming the absolute actual value, which is coupled to a functional unit for forming the relative actual value. The corrected measured value is fed to a further measured value processing.
Description
a) Titela) Title
• Anordnung zur Korrektur von Soll- und Istwerten• Arrangement for correcting setpoints and actual values
b) Anwendungsgebiet der Erfindung b) Field of application of the invention
- Die Erfindung betrifft eine. Anordnung zur Korrektur von Soll- und Istwerten bei einem, vorzugsweise radiometrisch arbeitenden Meßverfahren zur Ermittlung von Schichtdicken an kontinuierlich arbeitenden Bescbicbtungsanlagen.- The invention relates to a. Arrangement for the correction of setpoint and actual values in a, preferably radiometric measuring method for determining layer thicknesses on continuously operating Bescbicbtungsanlagen.
c) Charakteristik der bekannten technischen Lösungen c) C characteristic of the known technical solutions
- Zur Ermittlung von Schicht die ken auf metallischem Materialj wie zum Beispiel Blechen, Bändern, Draht usw. werden verschiedene Meßverfahren angewendet. Es hat sich dabei als ökonomisch zweckmäßig erwiesen, die Schichtdicken der Beschichtungsstoffe mit Hilfe von kontinuierlich und zerstörungsfrei arbeitenden Meßverfahren zu ermitteln« Eine derartige Möglichkeit stellt das radiometriscbe Meßprinzip dar.- For the determination of layer the ken on metallic materialj such as sheets, tapes, wire, etc., various measuring methods are used. It has proven to be economically expedient to determine the layer thicknesses of the coating materials by means of continuously and non-destructively operating measuring method. "Such a possibility represents the radiometriscbe measuring principle.
Es stellt besondere Anforderungen an das Meßgut, dessen Temperatur, geometrische Lage zum Meßkopf (Strahler) und dessen physikalische Beschaffenheit. Die äußeren und inneren Störungen, die auf radiometrische Meßverfahren zur Ermittlung der Schichtdicke an Beschicbtungsanlagen einwirken, sind so vielseitig, d.aß die bisher bekannten Einrichtungen'den Anforderungen nach hoher Meßgenauigkeit nicht in vollem Umfang gerecht werden»It places special demands on the material to be measured, its temperature, geometric position to the measuring head (radiator) and its physical nature. The external and internal disturbances, which act on radiometric measuring methods for determining the layer thickness of coating systems, are so versatile that the previously known devices do not fully meet the requirements of high measuring accuracy.
So ist zum Beispiel eine radiometrische Meßeinrichtung bekannt, bei der der Einfluß des Abstandes von nur weni-For example, a radiometric measuring device is known in which the influence of the distance of only a few
gen mm zwischen Meßgut und Ionisationskammer, vorwiegend bei industriell -verwendeten Sehichtdickeruneßeinrichtungen nach dem Beta - Rückstreumeßverfahrens gering gehalten wirde Ein derartiger Aufbau hat den Nachteil, daß der Einfluß von nur einer Einflußgröße, die auf das Meßverfahren. wirkt j verringert wird« Für dynamische Messungen, mit hoher Meßgenauigkeit, zum Beispiel an kontinuierlich arbeitenden Bandbeschichtungsanlagen, ist diese Anordnung unge» eignet,-'weil die dynamischen Kennwerte und Bandbedingungen der Meßeinrichtung nicht im vollen Umfange berücksichtigt werdenemm between Meßgut and ionization chamber, mainly in industrially-used Sehichtdickeruneßeinrichtungen according to the beta - backscatter s method is kept low e Such a structure has the disadvantage that the influence of only one predictor on the measurement method. j is reduced "For dynamic measurements, with high measuring accuracy, for example on continuous strip coating lines, this arrangement is not suitable because the dynamic characteristics and belt conditions of the measuring device are not fully taken into account
Ea sind weiterhin radiometrische Meßeinrichtungen bekannt, bei denen das Flächengewichtsmeßgorät oder Mckenraeßgerät mit einer Temper aturkompensationsschaltung ausgerüstet ist«,. Wird bei Dickenmessungen rait Beta-Strahlen gearbeitet, die schon von-kleinen Fläcbengewichten. stark absorbiert v/erden, so können erhebliche Fehlm.essungen dadurch entstehen, daß die zwischen Präparat und Strahlungsempfänger -befindlicbe Luft, deren Absorption, sich zur Absorption des MeBgutes addierts von Temperaturschwankungen beeinflußt v/ird. Derartige Fehler besitzen vor allem bei kleinen 2?lächenge~ wichten erbebliche Bedeutung«,Ea further radiometric measuring devices are known in which the Flächengewichtsmeßgorät or Mckenraeßgerät is equipped with a Temper aturkompensationsschaltung «,. When measuring the thickness rait beta rays are used, which are already of very small surface weights. strongly absorbed v / ground, substantial Fehlm.essungen may arise that the -befindlicbe between the preparation and radiation receiver air whose absorption, is added to the absorption of s MeBgutes of temperature variations affect v / ill. Such errors are of great importance, especially for small 2-dimensional weights. "
Das gleiche gilt für das Beta - Rückstreuprinzipβ Den bekannten Einrichtungen lag die Aufgabe zugrunde, für elektrisch kompensierte Flächengewichtsmeßgeräte eine Möglichkeit zur Vermeidung von Meßfehlern, bei Luftgewicbts-• Schwankungen zu schaffen©The same applies to the beta - backscatter principle β The known devices based on the object, for electrically compensated Flächengewichtsmeßgeräte a way to avoid measurement errors to provide, in Luftgewicbts- • Fluctuations ©
Dies wird dadurch gelöst, daß Veränderungen der Sollwertgeber spannung (Vergleichsspannung) in Abhängigkeit von der jeweiligen TemperaturSchwankung automatisch erfolgen, die durch besondere Temperaturfühler gesteuert werden« Der Temperaturfühler befindet sich in unmittelbarer Iahe der Meßstelle·This is achieved in that changes in the setpoint voltage (comparison voltage) in dependence on the respective TemperaturSchwankung automatically, which are controlled by special temperature sensor «The temperature sensor is located in the immediate vicinity of the measuring point ·
Der Nachteil dieser Meßeinrichtung besteht in der '!Tatsache, daß nur eine Einflußgröße für die Genauigkeit des Meßergebnisses' gering gehalten wird. Bei dynamischen Messungen aa Beschichtungsanlagen wirken jedoch wesentlich mehr Sin-The disadvantage of this measuring device is the fact that only one factor influencing the accuracy of the measurement result is kept low. In dynamic measurements aa coating plants, however, have significantly more
flußgrößen auf das Meßverfahren und deren'Genauigkeit, wobei sich diese Störgrößen zudem noch gegenseitig be&nflussen, wie z.B. die Temperatur, Geometrie und Bandgeschwindigkeit des Meßgutes an Bandbeschichtungsanlagen. Ebenfalls bekannt sind radiometrische Meßeinrichtungen, bei denen zur Kompensation des statistisch schwankenden Zerfallprozesses des Nuklides interne Abgleichvorrichtungen vorgesehen sind, wo der elektronische Teil der Meßzentrale (Compensationsspannung und Ionisationsstrom) auf die Aktivität des Nukliden abgeglichen werden. Der Nachteil dieser Anordnung ist, daß nur interne Einflußgrößen des Meßprinzips gering gebalten werden. Alle auf die Meßeinrichtung von außen einwirkenden Störungen werden nicht berücksichtigteflow variables on the measuring method and their'accuracy, these disturbing variables also influencing each other, such as the temperature, geometry and belt speed of the material to be measured on coil coating systems. Also known are radiometric measuring devices in which internal compensation devices are provided to compensate for the statistically fluctuating decay process of the nuclide, where the electronic part of the measurement center (compensation voltage and ionization current) are adjusted to the activity of the nuclide. The disadvantage of this arrangement is that only internal influencing variables of the measuring principle are minimized. All disturbances acting on the measuring device from the outside are not considered
d) Ziel der Erfindung d) Object of the invention
Ziel der Erfindung ist es5 eine Anordnung zu schaffen, . die mit geringem technischen Aufwand eine bessere Meßwertverarbeitung innerhalb eines Hegelkreises ermöglicht,The aim of the invention is to provide an arrangement 5. which enables better measured value processing within a Hegel circle with little technical effort
e) Darlegung des Wesens der Erfindung e) Presentation of the essence of the invention
Aufgabe der Erfindung ist(ess eine Anordnung zu finden, mit der die inneren und äußeren Einflußgrößen auf ein Meßsystem derart erfaßt und verarbeitet werden, daß eine hohe Meßgenauigkeit innerhalb des technologischen Prozesses erreicht wird, Erfindungs gemäß wird die Aufgabe durch eine Anordnung zur Meßwertkorrektur (Soll- und Istwert) gelöst, die vorzugsweise als Baugruppe ausgebildet, zwischen einer Meßwerterfassungseinheit und einer Meßwertverarbeitungseinheit angeordnet und mit ihnen verbunden ist. Die Meßwertkorrektur einheit kann aber auch getrennt als Baugruppe zur Sollwertkorrektur und Baugruppe zur Is tv/ertbe Stimmung ausgeführt sein, wobei die Istwertbestimmung in einer nachgeschalteten Arithmetikeinheit für die statistische Meßwertverarbeitung integriert sein kann«. Die Meßwerterfassungseinheit baut sichThe object of the invention is (it's to find an arrangement with which the inner and outer influencing variables are detected in a measuring system in such a way and processed so that a high measuring accuracy is achieved within the technological process, Invention, according to the task (by an arrangement for measurement value The measured value correction unit can, however, also be embodied separately as a module for setpoint correction and module for the Is tv / ertbe tuning, wherein the Actual value determination can be integrated in a downstream arithmetic unit for statistical measured value processing. "The measured value acquisition unit builds up
auf aus Meßfühler und Meßzentral©, wobei die Meßfühler vor-» zugsweise nach einem radiometrischen Meßprinzip arbeitenon sensor and measuring center ©, whereby the sensors preferably work according to a radiometric measuring principle
. uDd-vin. Abhängigkeit von den. jeweiligen Binsatzbedingungea sä verschiedenen ,Meßpunkten angeordnet sein können«,, UDD vin. Dependence on the. can be arranged at different measuring points,
. Die Meßwertkorrekturein-heit ist entsprechend den technolo-.' gischen und meßtechnischen Bedingungen mit einem oder mehreren,. manuell bewertbaren statischen und/oder dynamischen Prozeßparameterspeichern ausgeführt, die mit einer Basiskorrektureinheit , welche unter Zuschaltung einer Meßkopflageeinheit einen korrigierten Bezugswert bildet, verbunden sind«. Der Basiskorrektureinheit ist eine Arithmetikeinheit zur Bildung des absoluten Istwertes nachgeschaltet, die mit einer Funktionseinheit zur-Bildung des relativen Istwertes gekoppelt iste Eine Bezugssollwertvorgabeeinheit, in der ein dem theoretischen. Sollwert äquivalenter Bezugswert voreingestellt wird, ist mit der Meßwertkorrektureinbeit als auch mit der Meßzentral© verbunden«, The Meßwertkorrekturein-unit is according to the technolo- '. gical and metrological conditions with one or more. manually evaluable static and / or dynamic process parameter memories that are connected to a basic correction unit, which forms a corrected reference value with the inclusion of a Meßkopflageeinheit «. The basic correction unit is followed by an arithmetic unit for forming the absolute actual value, which is coupled to a functional unit for the formation of the relative actual value e A reference setpoint specification unit, in which a theoretical value. Set value of the reference value is connected to the correction of the measured value as well as to the measuring central © «
Der Meßwertkorrektureinheit ist eine Aritbmetikeinheit für die statistische Meßwertverarbeitung nachgeordnet, deren Ausgangswerte auf eine Regeleinrichtung und eine Steuerzentrale zur LagebeStimmung bzwe Lagepositionierung der Meßfühler aufgeschalton sind, wobei Arithmetikeinbeit und Steuerzentrale wechselseitig miteinander verbunden sind· Der Arithmetikeinbeit ist neben der Regeleinrichtung zweckmäßigerweise eine Ausgabeeinheit zur Ausgabe von statistischen Meßergebnissen zugeordnete Die erfindungsgemäße Anordnung, die vorzugsweise unter Verwendung radiometrischer Meßfühler arbeitet^ berücksichtigt all© wesentlichen, auf die Meßgenauigkeit" eines derartigen Prozesses einwirkenden dynamischen und statischen· Störgrößen,, die nach einer Methode der statistischen Mathematik erfaßt oder direkt von periphären Meßwertgebern aufgeschaltes! und über eine Systemkonzeption auf der Basis von mikro'elektronischen Baugruppen, in den Prozeßparameterspeichern abgebildet werden. Entsprechend den technologischen Bedingungen werden die statischen und/oder dynamischen Parameterspeicher aufgerufen und abgefragt und deren-Werte mit denen für-denThe Meßwertkorrektureinheit is followed by a Aritbmetikeinheit for statistical measurement value, the output values are aufgeschalton to a control device and a control unit for determining the position or e able positioning of the probe, wherein Arithmetikeinbeit and control center are mutually connected to one another · the Arithmetikeinbeit is next to the control device expediently an output unit for outputting The arrangement according to the invention, which preferably works using radiometric probes, takes into account all significant dynamic and static disturbances acting on the measuring accuracy of such a process, detected by a statistical mathematical method or directly connected by peripheral transducers. and via a system concept on the basis of microelectronic assemblies, imaged in the process parameter memories According to the technological conditions, the static and / or dynamic parameter memories are called up and interrogated and their values with those for the
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jeweiligen Betrieb saust and relevanten Werten in einer Aritbmetikeinheit verknüpft und zu einem Sollwert x^ .: verarbeitet. Aus diesem Sollwert xo1jr wird zusammen mit einer Abweichung & ^ vom Sollwert ein korrigierter Meßwert xE gebildet, dessen Weiterverarbeitung für statistische und regelungatechniscbe Aufgaben in den nachgeordneten Baugruppen wesentlich günstiger ist, da er die jeweiligen technologischen und meßtechnischen Bedingungen durch eine optimale Meßwertkorrektur ausreichend berücksichtigt,respective operation is linked to relevant values in an arithmetic unit and to a setpoint x ^. : processed. From this setpoint x o1jr , a corrected measured value x E is formed together with a deviation ^ from the nominal value, the further processing of which is considerably more favorable for statistical and control-related tasks in the downstream assemblies, since it sufficiently takes into account the respective technological and measuring technical conditions by an optimal measured value correction .
f) Ausführungsbeis-pielf) Implementation example
Die erfindungsgemäße Anordnung soll nachfolgend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden« In den dazugehörenden Zeichnungen zeigen:The arrangement according to the invention will be explained in more detail below with reference to an embodiment "In the accompanying drawings show:
Fig« 1s Anordnung eines Schichtdickenerf assungs- - · -' und Verarbeitungs systems Fig. 2i Meßwertkorrektureinheit Fig· 3ί Grafische Darstellung, der unkorrigiertenFig. 1s Arrangement of a layer thickness detection and processing system Fig. 2i Measured value correction unit Fig. 3: Graphic representation of the uncorrected
und korrigierten Prozeß- und Sollwertgrößenand corrected process and setpoint quantities
Fig. 4: Anordnung eines Schichtdickenerfassungs-4 shows the arrangement of a layer thickness detection
und Verarbeitungssystems mit getrennten Baugruppen für Ist- und Sollwertbestimmungand processing system with separate assemblies for actual and setpoint determination
Die Anordnung zur Korrektur der Soll- und Istwerte bei der Ermittlung der Schichtdicke an einer kontinuierlich arbeitenden BandbeSchichtungsanlage besteht aus einer Meßwerterfassungseinheit, einer Meßwertkorrektureinheit und einer Meßwertverarbeitungseinheit, die alle drei zweckmäßigerweise zu Baugruppen zusammengefaßt sind· Durch den Einsatz von radiometrischen Meßfühlern 1 ergeben sich spezielle für das Meßverfahren charakteristische Bedingungen (Störeinflüsse) „ die durch die Meßwertkorrekture inheit weitgehend kompensiert werden. Die Meßfühler 1, die entsprechend den technologischen Bedingungen an verschiedenen •Meßpunkten innerhalb einer Beschichtungsanlage, z.B. Ver-The arrangement for correcting the setpoint and actual values in determining the layer thickness on a continuously operating strip coating plant consists of a measured value acquisition unit, a measured value correction unit and a measured value processing unit, all of which are expediently combined into assemblies. The use of radiometric probes 1 results in special the measuring method characteristic conditions (disturbing influences) "which are largely compensated by the Meßwertkorrekture unit. The measuring sensors 1, which, in accordance with the technological conditions, at various measuring points within a coating installation, e.g. encryption
« 6 - 223 8St?«6 - 223 8St?
zinkungsanlage, angeordnet sein. könnens sind mit einer Meßzentrale 2 verbunden, deren Ausgangssignal4 x^ direkt auf die Meßwertkorrektureinheiir-7 aufgegeben wird«, Einegalvanizing plant, be arranged. can s are connected to a measuring center 2, the output signal is given 4 x ^ directly to the Meßwertkorrektureinheiir-7, A
- Bezugssollwertvorgabeeinheit 6, in der ein dem theoretischen Sollwert xQ äquivalenter Bezugswert νore ingesteilt wirdj ist mit der Meßwertkorrektureinheit 7 als auch mit der Meßzentrale 2 verbunden. Die Meßwertkorrektureinheit .. 7 besteht aus einer Basiskorrektureinheit 15? die mit Frozeßparameterspeichern 11, 12 und 13 gekoppelt ist und die aus den. daraus erhaltenen Werten über arithmetische .Operationen unter Berücksichtigung einer manuell vorgegebenen Wertigkeit der einzelnen Prozeßparameter und unter Zuschaltung einer Meßkopflageeinheit 14 den korrigiertes Sollwert π^-rr bildete Eine Arithmetikeinheit 17$ die der Basiskorrektureinheit 15 nachgeordnet und mit einer Funktionseinheit 16 zur Bildung des relativen Istwertes verbunden ist j bildet den korrigierten Meßwert X17, Bei Einsatz eines komplexen Verarbeitungsystems an Stelle der Arithmetikeinheit 8 gemäß Figo 4· kann die IstwertbestiiE~ mung? die durch die Arithmetikeinheit 17 sowie die Funk-Reference reference value setting unit 6, in which a reference value νore equivalent to the theoretical reference value x Q is applied, is connected to the measured value correction unit 7 as well as to the measuring center 2. The Meßwertkorrektureinheit .. 7 consists of a basic correction unit 15? which is coupled to Frozeßparameterspeichern 11, 12 and 13 and from the. Arithmetic unit 17 $ downstream of the base correcting unit 15 and connected to a functional unit 16 for forming the relative actual value formed arithmetic .Operations taking into account a manually predetermined valence of the individual process parameters and the connection of a Meßkopflageeinheit 14 the corrected setpoint π ^ -rr j is the corrected measured value X 17. When a complex processing system is used instead of the arithmetic unit 8 according to FIG . 4, the actual value determination ? by the arithmetic unit 17 and the radio
tionseinheit 16 erfolgt, entfallen und in diesem System integriert werden* Zu diesem Zweck wird die Sollwertab=· weichung 4X| nicht auf die Meßwertkorrektureinheit 7S sondern auf dieses Verarbeitungasystem aufgeschaltene In einem solchen Fall ist der korrigierte Sollwert Xg^- das Ausgangssignal der Meßwertkorrektureinheit 7» Die grafische Darstellung in Fig„ 3 zeigt den Verlauf der statischen-.Korreteburgrößen TK 1, TK 2, TK 3 der einzelnen Prozeßparameterspeicher 11, 12, 13 sowie der Meßkopflageeinheit 14 zur theoretischen Sollwertvorgabe x- und korrigierten Meßwertgröße xFS Daraus ist ersiehtlieb, daß die -verbleibenden Abweichungen zwischen xg und Xrr wesentlich geringer sind, als zwischen xs und den einzelnes: Korrektur- und Bewertungsgrößen, was sich vorteilhaft auf die Genauigkeit der nachfolgenden Meßwertverarbeitung auswirkt« Die Meßwertverarbeitung besteht unit 16 takes place, is eliminated and integrated in this system * For this purpose, the setpoint deviation 4X | not to the Meßwertkorrektureinheit 7 S but on this Verarbeitungasystem aufgeschalten e In such a case, the corrected target value Xg ^ - the output of the Meßwertkorrektureinheit 7 »The graphical representation in Fig" 3 shows the variation of the static-.Korreteburgrößen TK 1, TK 2, TK 3 of the individual process parameter memory 11, 12, 13 and the Meßkopflageeinheit 14 for theoretical setpoint specification x and corrected measured value size x FS From this it is seenliev that the - remaining deviations between x g and Xrr are much lower than between x s and the individual: Correction and evaluation variables, which has an advantageous effect on the accuracy of the subsequent measured value processing «
aus einer Arithmetikeinheit 8, die wechselseitig mit einer Steuerzentrale 5 zur LagebeStimmung und -positionierung der Meßfühler 1 verbunden ist. Die Arithmetikeinheit 8 verarbeitet in Abhängigkeit von technologischen Eingaben (z.B. Bandlängeninipuls usw.) den korrigierten Meßwert x^· und das Meßfühlerstellungssignal x^ als Größe für die jeweilige Lage der Meßfühler 1 zum Meßgut· zu einem statistischen Signal, welches einer Ausgabeeinheit 9 und/oder einer Regeleinrichtung 10 einer höheren Prozeßverarbeitung zugeführt wird. ,from an arithmetic unit 8, which is mutually connected to a control unit 5 for LagebeStimmung and positioning of the probe 1. The arithmetic unit 8 processes as a function of technological inputs (eg Bandlängeninipuls etc.) the corrected measured value x ^ · and Meßfühlerstellungssignal x ^ as a size for the respective position of the probe 1 to Meßgut · to a statistical signal which an output unit 9 and / or a control device 10 is supplied to a higher process processing. .
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD22383280A DD152989A1 (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | ARRANGEMENT FOR THE CORRECTION OF TARGET AND ACTUAL VALUES |
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| DD22383280A DD152989A1 (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | ARRANGEMENT FOR THE CORRECTION OF TARGET AND ACTUAL VALUES |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD152989A1 true DD152989A1 (en) | 1981-12-16 |
Family
ID=5526235
Family Applications (1)
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| DD22383280A DD152989A1 (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | ARRANGEMENT FOR THE CORRECTION OF TARGET AND ACTUAL VALUES |
Country Status (1)
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|---|---|
| DD (1) | DD152989A1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2528602A1 (en) | 2010-01-28 | 2012-12-05 | Eagle Pharmaceuticals, Inc. | Formulations of bendamustine |
-
1980
- 1980-09-11 DD DD22383280A patent/DD152989A1/en unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2528602A1 (en) | 2010-01-28 | 2012-12-05 | Eagle Pharmaceuticals, Inc. | Formulations of bendamustine |
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