CZ35783U1 - Inkoust pro inkjetový tisk - Google Patents

Description

Úřad průmyslového vlastnictví v zápisném řízení nezjišťuje, zda předmět užitného vzoru splňuje podmínky způsobilosti k ochraně podle § 1 zák. ě. 478/1992 Sb.

CZ 35783 Ul

Inkoust pro inkjetový tisk

Oblast techniky

Technické řešení se týká oblasti potisku materiálů, konkrétně inkoustu pro inkjetový tisk, vhodného zejména pro digitální lakovací zařízení.

Dosavadní stav techniky

Inkjetový tisk neboli inkoustový tisk je bezdotyková technologie tisku, kdy jsou elektricky nabité kapičky inkoustu aplikovány nástřikem z tiskové hlavy. Inkjet technologie patří mezi moderní technologie průmyslového značení výrobků a obalů. Technologie inkjetového tisku nabízí efektivní produkci v jednotkách a stovkách kusů produktu za nižší náklady, a to bez ohledu na to, zda se jedná o celoplošné nebo parciální lakování. Technika je proto vhodná zejména pro tisk reklamní produkce personalizovaných tiskovin a obecně tiskovin vydávaných v malých nákladech. Tato technologie se vyznačuje minimalizovanou fyzickou přípravou a díky bezkontaktnímu tisku možností potisku i do určité míry zakřivených povrchů. Mezi nevýhody lze zařadit omezený tiskový výkon a vysoké nároky na kvalitu a stabilitu inkoustů pro dosažení vysoké kvality natištěné lakové vrstvy na výrobcích.

Při tisku je důležité, aby došlo po expozici UV zářením k rychlému vytvrzení inkoustu. Reaktivita systému je dána typem a funkčností použitých monomerů a oligomerů a dále iniciačním systémem, což může být samotný fotoiniciátor nebo fotoiniciátor v kombinaci s další látkou, např. sensibilátorem. Stupeň vytvrzení ovlivňuje rovněž zdroj použitého záření, tedy emisní spektrum a intenzita vyzařování, rychlost tisku a s tím spojená dávka ozáření a konkurenční děje, jako je zhášení excitovaných stavů fotoiniciátorů, inhibice vzdušným kyslíkem, vzdušnou vlhkostí, absorpce záření dalšími komponentami inkoustů jako jsou pigmenty ajiné.

Mechanismus zasychání UV zářením tvrditelných inkoustů je založen na radikálové nebo kationtové polymeraci. Základními složkami UV inkoustů jsou fotoiniciátory, pojivá a aditiva.

K vytvrzování inkoustu UV zářením se používá buď střednětlaká rtuťová výbojka, nebo UV LED zdroj světla. Střednětlaká rtuťová výbojka vyzařuje záření ve formě několika emisních pásů rozprostřených napříč UV oblastí spektra. Nevýhodou rtuťové výbojky je vysoká spotřeba elektrické energie, nízká životnost a obsah toxické rtuti. UV LED zdroj světla vyzařuje pouze v úzkém rozsahu vlnových délek s maximy emise při 395, 385 a 365 nm. Výhodou UV LED zdroje světlaje úspora elektrické energie, delší životnost a okamžitý náběh výkonu. Nevýhodou je, že použitý inkoust musí obsahovat fotoiniciátory schopné absorbovat právě tyto vlnové délky.

V současné době jsou běžně využívány inkousty vytvrzované radikálovou polymeraci, pro které je charakteristické velmi rychlé vytvrzení v řádu desítek milisekund, probíhající vlivem rychlé terminace, tedy ukončení růstu polymemích řetězců, pouze v době expozice UV zářením. Výhodou těchto inkoustů je nízká citlivost na teplotu v průběhu polymerace a vytvrzení laku, velmi dobrá chemická, tepelná i mechanická odolnost vytvrzených vrstev. Mezi nevýhody radikálově polymerujících inkoustů patří zejména inhibice vzdušným kyslíkem, která může být příčinou nedostatečně vytvrzeného inkoustu. V případě inkjetem aplikovaných inkoustů je tento negativní jev zesílen nízkou viskozitou inkoustu a velkým povrchem vystřelovaných kapiček vzhledem k jejich objemu, pohybujícím se řádově v desítkách pikolitrů. Dalším negativem radikálově polymerujících inkoustů je poměrně výrazné smrštění filmu laku (běžně okolo 10 až 15 %) v průběhu polymerace. To je jednou z příčin obecně horší adheze těchto inkoustů k potiskovaným materiálům, zejména k syntetickým polymerům jako je polyethylen neboli PE, polypropylen neboli PP, polykarbonát neboli PC, polystyren neboli PS, polyethylentereftalát neboli PET. Při namáhání lakovaných materiálů dochází často k odlupování nebo praskání lakové vrstvy.

- 1 CZ 35783 UI

Další skupinou používaných inkoustů jsou kationtově polymerující inkousty, pro které je charakteristická tzv. „živá polymerace“. Reaktivní centra mají formu kationtu a k jejich zániku nedochází vzájemnou reakcí dvou reaktivních center jako u polymerace radikálové. Z tohoto důvodu má reaktivní centrum dlouhou dobu života a tištěná vrstva získává finální vlastnosti až po přibližně 24 hodinách od expozice. Výhodami kationtově polymerujících inkoustů jsou výborná adheze k různým potiskovaným materiálům i plastům a kovům, minimální smrštění vytvrzovaného filmu (kolem 5 %) a skutečnost, že průběh polymerace není inhibován vzdušným kyslíkem. Mezi nevýhody patří pomalejší vytvrzení a dosažení finálních vlastností až po určité době od expozice, v závislosti na složení a podmínkách vytvrzení - od několika hodin až po jeden den, inhibice reaktivních center bazickými látkami, citlivost na vzdušnou vlhkost a na teplotu. Vlhkost způsobuje přenos reaktivních center a snižuje tak molekulovou hmotnost a tím i tvrdost či tuhost vytvrzeného filmu, vyšší teplota urychluje průběh polymerační reakce. Dalšími nevýhodami kationtově polymerujících inkoustů je nižší stabilita připravených formulací a vyšší cena daná vyšší cenou komponent, tedy monomerů, oligomerů a fotoiniciátorů.

Úkolem technického řešení je vytvořit takový inkoust pro inkjetový tisk, který bude mít vhodné složení polymerujících pojiv, fotoiniciátorů a aditiv, umožňující vytvrzovat tento inkoust pomocí UV LED zdroje v oblasti 365 až 395 nm, přičemž budou sníženy výše uvedené nevýhody: inhibice vzdušným kyslíkem, smrštění filmu laku a horší adheze v případě pojivá založeného na radikálové polymeraci, resp. nižší stabilita připravených formulací a dosažení finálních vlastností až po přibližně 24 hodinách v případě pojivá založeného na kationtově polymeraci.

Podstata technického řešení

Vytčený úkol je vyřešen pomocí inkoustu pro inkjetový tisk obsahující alespoň jeden fotoiniciátor, polymerující pojivo a aditivum. Podstata technického řešení spočívá v tom, že polymerující pojivo je obsažené v inkoustu v množství 88 až 95 % hmotn. a je tvořeno směsí alespoň jednoho pojivá s radikálově polymerizujícím mechanismem a alespoň jednoho pojivá s kationtově polymerizujícím mechanismem v hmotnostním poměru 4:1 až 1:2. Inkoust dále obsahuje alespoň jeden fotoiniciátor radikálové polymerace v množství od 2 do 6 % hmotn., alespoň jeden fotoiniciátor kationtově polymerace v množství 1 až 4 % hmotn. a do 2 % hmotn. aditiv, pro upravení vlastností inkoustu, zejména smáčení a stabilitu.

Ve výhodném provedení je pojivo s radikálově polymerujícím mechanismem vybráno ze skupiny: ethoxylováný trimethylolpropan triakrylát neboli TMP3EOTA, propoxylováný trimethylolpropan triakrylát neboli TMP3POTA, dodecylakrylát neboli DDA, 2-fenoxyethylakrylát neboli POEA, tetrahydrofúrfúrylakrylát neboli THFA, glycidyl methakrylát neboli GMA, 3-ethyl-3-(methakryloyloxy) methyloxetan neboli OX3. Pojivo s kationtově polymerizujícím mechanismem je s výhodou vybráno ze skupiny: triethylenglykol divinyl ether neboli DVE3, 1,4-butandiol divinyl ether neboli BDDVE, hydroxybutyl vinyl ether neboli HBVE, bis {[1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl} ether neboli OX1, 3-ethyl-3-oxetanmethanol neboli OX2, glycidyl methakrylát neboli GMA, 3-ethyl-3-(methakryloyloxy)methyloxetan neboli OX3. Pokud je ve směsi přítomno pojivo GMA či pojivo 0X3, která mohou polymerovat radikálovým i kationtovým mechanismem, jsou vznikající polymemí sítě vzájemně propojeny chemickými vazbami. Pokud ve směsi není přítomno žádné z těchto pojiv, vznikají dvě oddělené, vzájemné propletené polymemí sítě.

Fotoiniciátor radikálové polymerace je v dalším výhodném provedení vybrán ze skupiny: bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) fenylfosfinoxid neboli BAPO; 2,4,6-trimethylbenzoyl difenylfosfinoxid neboli TPO; ethyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl) fenylfosfinát neboli TPO-L;

2-isopropylthioxanton neboli ITX; 1-chlor-4-propoxythioxanthon neboli CPTX. Fotoiniciátor kationtově polymerace je s výhodou vybrán ze skupiny:

jodonium (4-methylfenyl) [4-(2-methylpropyl)fenyl],

-2 CZ 35783 UI hexafluorfosfát (1-), resp. jeho 75% roztok v propylenkarbonátu označovaný jako II; jodonium bis-(4-t-butylfenyl)-hexafluorfosfát (1-) neboli 12. Použitý iniciační systém absorbuje záření emitované UV LED zdroji při vlnové délce 365, 385 a 395 nm a zajišťuje vytvrzení inkoustu. Při průběžném vytvrzování nanášených tenkých vrstev inkoustu UV LED zdroji je možné vytvářet speciální efekty, např. tisk 3D motivů.

Ve výhodném provedení jsou použita aditiva jako smáčedla na bázi polydimethylsiloxanu v propoxylovaném neopentylglykol diakrylátu označované jako PDMS, inhibitory předčasné kationtové polymerace triethanolamin označovaný jako TEA nebo ethyl-4-(dimethylamino)benzoát označovaný jako EDB a inhibitory předčasné radikálové polymerace v podobě tris (N-nitroso-N-fenylhydroxyamin) hlinitý v 2-fenylethyl akrylátu označovaný jako INH1 nebo tris (N-nitroso-N-fenylhydroxyamin) hlinitý v propoxylovaném glycerol triakrylátu jako INH2.

Inkoust pro inkjetový tisk polymeruje hybridním mechanismem tedy kombinací radikálové a kationtové polymerace, přičemž využívá výhody obou typů polymerace při současném snížení nevýhod jednotlivých mechanismů. Vyvinutý inkoust, resp. následně aplikovaný lak obsahuje kombinaci pojiv polymerujících radikálovým a kationtovým mechanismem a po expozici UV LED zdrojem probíhají oba typy polymerace současně. Souběžnou polymerací vznikají interpenetrující nebo i vzájemně propojené sítě. Výhody inkoustu pro inkjetový tisk podle tohoto technického řešení je, že má takové složení polymerujících pojiv, fotoiniciátorů a aditiv, které umožňuje vytvrzovat tento inkoust pomocí UV LED zdroje v oblasti 365 až 395 nm, přičemž toto složení snižuje inhibici vzdušným kyslíkem, smrštění fdmu laku a zlepšuje adhezi laku na materiálech, přičemž připravená formulace inkoustu má vysokou stabilitu.

Příklady uskutečnění technického řešení

Inkoust pro inkjetový tisk je nanášen na potiskovaný substrát pomocí digitálního lakovacího stroje s inkjetovou tiskovou hlavou, ato jedním či několika průjezdy. Při nanášení inkoustu více průjezdy tiskové hlavy je využité průběžné vytvrzování pomocí UV LED zdroje, aby nedocházelo k přílišnému roztěkání inkoustu a lakovaný motiv měl ostré hrany. Po nanesení poslední lakové vrstvy je vždy provedena závěrečná expozice pomocí UV LED zdroje, aby byla získána vytvrzená, nelepivá laková vrstva s výbornou adhezi a dobrými mechanickými vlastnostmi jako je elasticita, odolnost apod.

Pro vytvoření inkoustu tvrditelného UV LED zdroji záření (emisní maxima 365, 385, 395 nm) podle tohoto technického řešení byla použita celá řada chemických sloučenin, jejichž chemický název a zkratka jsou uvedeny v tabulce 1.

-3 CZ 35783 UI

Tabulka 1: Seznam použitých chemických sloučenin, přičemž vlevo jsou uvedeny zkratky a vpravo jsou uvedeny celé jejich názvy

Zkratka

BAPO

TPO

TPO-L

ITX

CPTX

II

TMP3E0TA

TMP3P0TA

DDA

POEA

TH FA

DVE3 HBVE

BDDVE 0X1 0X2 0X3 GMA PDMS

TEA EDB

IN HI

INH2

Název bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)- fenylfosfinoxid 2,4,6-trimethylbenzoyl- difenylfosfinoxid ethyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)- fenylfosfínát 2-isopropylthioxanthon

-chlor-4-propoxythioxanthon iodonium, (4-methylfenyl)[4-(2-methylpropyl)fenyl]- hexafluorfosfát(l-) - 75 % roztok v propylenkarbonátu jodonium, bis-(4-t-butylfenyl)-hexafluorfofát (1-) ethoxylovaný trimethylolpropan triakrylát propoxylovaný trimethylolpropan triakrylát dodecyl akrylát

2-fenoxyethyl akrylát tetrahydrofurfuryl akrylát triethylenglykol divinyl ether hydroxybutyl vinyl ether 1,4-butandiol divinyl ether bis{[l-ethyl(3-oxetanyl)] methyl} ether 3 -ethyl-3 -oxetanmethanol 3-ethyl-3- (methakryloyloxy) methyloxetan glycidyl methakrylát polydimethylsiloxan v propoxylovaném neopentylglykol diakrylátu triethanolamin ethyl-4-(dimethylamino) benzoát tris (N-nitroso-N-fenylhydroxyamin) hlinitý v 2-fenylethyl akrylátů tris (N-nitroso-N-fenylhydroxyamin) hlinitý v propoxylovaném glycerol triakrylátu

CZ 35783 UI

Příklad 1

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 40 % hmota.), POEA (20 až 40 % hmota.), OX1 (20 až 40 % hmota.), GMA (5 až 15 % hmota.), BAPO (2 až 6 % hmota.), II (1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH1 (0,2 až 1 % hmota.), TEA (0,05 až 0,5 % hmota.) a PDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Příklad 2

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 40 % hmota.), POEA (20 až 40 % hmota.), OX1 (10 až 20 % hmota.), OX2 (5 až 15 % hmota.), OX3 (5 až 15 % hmota.), BAPO (2 až 6 % hmota.), II (1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH1 (0,2 až 1 % hmota.), TEA (0,05 až 0,5 % hmota.) a PDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Příklad 3

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 40 % hmota.), THFA (20 až 40 % hmota.), OX1 (20 až 40 % hmota.), OX3 (5 až 15 % hmota.), TPO (2 až 6 % hmota.), II (1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH2 (0,2 až 1 % hmota.), EDB (0,05 až 0,5 % hmota.) a PDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Příklad 4

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 35 % hmota.), TMP3POTA (5 až 15 % hmota.), POEA (10 až 40 % hmota.), DDA (5 až 20 % hmota.), OX1 (20 až 50 % hmota.), GMA (5 až 15 % hmota.), BAPO (2 až 6 % hmota.), II (1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH1 (0,2 až 1 % hmota.), TEA (0,05 až 0,5 % hmota.) a PDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Příklad 5

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 35 % hmota.), TMP3POTA (5 až 15 % hmota.), POEA (10 až 40 % hmota.), OX1 (20 až 50 % hmota.), GMA (5 až 15 % hmota.), BAPO (2 až 6 % hmota.), 12 (1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH1 (0,2 až 1 % hmota.), TEA (0,05 až 0,5 % hmota.) a PDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Příklad 6

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 35 % hmota.), TMP3POTA (5 až 15 % hmota.), POEA (10 až 30 % hmota.), DDA (5 až 20 % hmota.), OX1 (20 až 50 % hmota.), OX3 (5 až 15 % hmota.), TPO-L (2 až 6 % hmota.), 12 (1 až 4 % hmota.), CPTX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH1 (0,2 až 1 % hmota.), TEA (0,05 až 0,5 % hmota.) a PDMS (0,05 až 1 % hmota.).

CZ 35783 UI

Příklad 7

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 30 % hmota.), TMP3POTA (5 až 15 % hmota.), POEA (10 až 50 % hmota.), DVE3 (20 až 50 % hmota.), GMA (5 až 15 % hmota.), BAPO (2 až 6 % hmota.), 12 (1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH1 (0,2 až 1 % hmota.), TEA (0,05 až 0,5 % hmota.) aPDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Příklad 8

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 30 % hmota.), TMP3POTA (5 až 15 % hmota.), DDA (10 až 40 % hmota.), DVE3 (20 až 50 % hmota.), GMA (5 až 15 % hmota.), TPO (2 až 6 % hmota.), 12 (1 až 4 % hmota.), CPTX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH2 (0,2 až 1 % hmota.), EDB (0,05 až 0,5 % hmota.) aPDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Příklad 9

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 30 % hmota.), TMP3POTA (5 až 15 % hmota.), POEA (10 až 40 % hmota.), DVE3 (20 až 40 % hmota.), HBVE (5 až 15 % hmota.), GMA (5 až 15 % hmota.), BAPO (2 až 6 % hmota.), 12 (1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH1 (0,2 až 1 % hmota.), TEA (0,05 až 0,5 % hmota.) a PDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Příklad 10

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 30 % hmota.), TMP3POTA (5 až 15 % hmota.), POEA (10 až 40 % hmota.), BDDVE (15 až 40 % hmota.), GMA (5 až 15 % hmota.), BAPO (2 až 6 % hmota.), 12 (1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH1 (0,2 až 1 % hmota.), TEA (0,05 až 0,5 % hmota.) aPDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Příklad 11

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 35 % hmota.), TMP3POTA (5 až 15 % hmota.), POEA (10 až 40 % hmota.), BDDVE (15 až 40 % hmota.), HBVE (5 až 20 % hmota.), GMA (5 až 15 % hmota.), BAPO (2 až 6 % hmota.), 12 (1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH1 (0,2 až 1 % hmota.), TEA (0,05 až 0,5 % hmota.) a PDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Příklad 12

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 35 % hmota.), TMP3POTA (5 až 15 % hmota.), DDA (10 až 40 % hmota.), BDDVE (15 až 40 % hmota.), HBVE (5 až 20 % hmota.), GMA (5 až 15 % hmota.), TPO (2 až 6 % hmota.), 12(1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH2 (0,2 až 1 % hmota.), EDB (0,05 až 0,5 % hmota.) a PDMS (0,05 až 1 % hmota.).

-6CZ 35783 UI

Příklad 13

Smísením složek byl připraven inkoust obsahující:

TMP3EOTA (10 až 35 % hmota.), TMP3POTA (5 až 15 % hmota.), POEA (10 až 40 % hmota.), BDDVE (10 až 30 % hmota.), OX1 (5 až 20 % hmota.), GMA (5 až 15 % hmota.), BAPO (2 až 6 % hmota.), II (1 až 4 % hmota.), ITX (0,1 až 0,5 % hmota.), INH1 (0,2 až 1 % hmota.), TEA (0,05 až 0,5 % hmota.) a PDMS (0,05 až 1 % hmota.).

Adheze byla hodnocena pomocí Tape testu s Tesá páskou 4104, přičemž Tesá páska je nalepena na lakovaný substrát a následně mechanicky strhnuta. Hodnocena je míra poškození lakové vrstvy. Testování probíhalo na matné polypropylenové laminovací fólii s povrchovou energií 38 mJ/m².

Adheze a pružnost UV zářením tvrditelného inkoustu podle tohoto technického řešení, resp. aplikovatelné lakové vrstvy, byla dále testována hodnocením kvality řezu lakovaného substrátu a pomocí rýhování a ohýbání v místě rýhy. Jako rýhovací stroj byl použit GPM 450 SA f. Cyklos Choltice v. d., šířka rýhy U profilu 1,5 mm, hloubka 0,7 mm, následné ohnutí v místě rýhy o 180°. Hodnocena byla kvalita řezu resp. rýhy. Při testu adheze (Tape test), kvality řezu a rýhování nebyly u lakových vrstev, vytvořených z nově vyvinutého UV zářením tvrditelného inkoustu podle tohoto technického řešení, pozorovány žádné defekty při tloušťkách vrstev do 20 pm. Změnou v pojivovém systému (poměr hmotnostního zastoupení jednotlivých monomerů) lze ovlivnit významně chování neboli vlastnosti vytvrzené lakové vrstvy. Je možno připravit lak s vysokou elasticitou i při větších tloušťkách, jako je 40 pm apod., nebo lak s vyšší tvrdostí nebo tuhostí. Volba monomerů a jejich poměr ovlivňují i rychlost vytvrzení neboli dávku ozáření potřebnou pro dosažení vytvrzeného filmu.

Průmyslová využitelnost

Inkoust pro inkjetovýtisk podle tohoto technického řešení lze využít zejména pro digitální lakovací zařízení při parciálním nebo celoplošném lakování tiskovin.

Claims (6)

1. NÁROKY NA OCHRANU

   1. Inkoust pro inkjetový tisk obsahující alespoň jeden fotoiniciátor, polymerující pojivo a aditivum, vyznačující se tím, že polymerující pojivo je v inkoustu obsaženo v množství od 88 do 95 % hmota., přičemž je tvořeno směsí alespoň jednoho pojivá s radikálově polymerizujícím mechanismem a alespoň jednoho pojivá s kationtově polymerizujícím mechanismem v hmotnostním poměru 4:1 až 1:2, přičemž inkoust obsahuje alespoň jeden fotoiniciátor radikálové polymerace v množství od 2 do 6 % hmota., a alespoň jeden fotoiniciátor kationtové polymerace v množství od 1 do 4 % hmota., a přičemž jsou v inkoustu obsažena aditiva upravující vlastnosti inkoustu, zejména smáčení a stabilitu, v množství do 2 % hmota.
2. 2. Inkoust podle nároku 1, vyznačující se tím, že pojivo s radikálově polymerizujícím mechanismem je vybráno ze skupiny: ethoxylovaný trimethylolpropan triakrylát, propoxylovaný trimethylolpropan triakrylát, dodecyl akry lát, 2-fenoxyethylakrylát, tetrahydrofurtarylakrylát, glycidyl methakrylát, 3-ethyl-3- (methakryloyloxy) methyloxetan.
3. 3. Inkoust podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že pojivo s kationtově polymerizujícím mechanismem je vybráno ze skupiny: triethylenglykol divinyl ether; 1,4-butandiol divinyl ether; hydroxybutyl vinyl ether; bis {[l-ethyl(3-oxetanyl)]methyl}ether; 3-ethyl-3-oxetanmethanol; glycidyl methakrylát; 3-ethyl-3-(methakryloyloxy)methyloxetan.
4. 4. Inkoust podle nároku 1 až 3, vyznačující se tím, že fotoiniciátor radikálové polymerace je vybrán ze skupiny: bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) fenylfosfmoxid;

   2,4,6- trimethylbenzoyl difenylfosfmoxid;

   ethyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl) fenylfosfmát;

   2-isopropylthioxanton;

   1 -chlor-4-propoxythioxanthon.
5. 5. Inkoust podle nároku 1 až 4, vyznačující se tím, že fotoiniciátor kationtové polymerace je vybrán ze skupiny: jodonium bis-(4-t-butylfenyl)-hexafluorfosfát (1-);

   jodonium (4-methylfenyl) [4-(2-methylpropyl)fenyl]-hexafluorfbsfát (1-).
6. 6. Inkoust podle nároku 1 až 5, vyznačující se tím, že jako aditivajsou použity smáčedlo na bázi polydimethylsiloxanu v propoxylovaném neopentylglykol diakrylátu, inhibitor předčasné kationtové polymerace triethanolamin nebo ethyl-4-(dimethylamino)benzoát a inhibitor předčasné radikálové polymerace tris (N-nitroso-N-fenylhydroxyamin) hlinitý v 2-fenylethyl akrylátu nebo tris (N-nitroso-N-fenylhydroxyamin) hlinitý v propoxylovaném glycerol triakrylátu.