CZ299672B6 - Method of measuring thickness of non-stationary thin layers and optical thickness gauge - Google Patents
Method of measuring thickness of non-stationary thin layers and optical thickness gauge Download PDFInfo
- Publication number
- CZ299672B6 CZ299672B6 CZ20060350A CZ2006350A CZ299672B6 CZ 299672 B6 CZ299672 B6 CZ 299672B6 CZ 20060350 A CZ20060350 A CZ 20060350A CZ 2006350 A CZ2006350 A CZ 2006350A CZ 299672 B6 CZ299672 B6 CZ 299672B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- layer
- optical
- transparent
- measured
- thickness
- Prior art date
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
(57) Anotace.(57) Annotation.
Způsob měřeni tloušťky nestacionárních tenkých transparentních i netransparentních vrstev (7. 13) spoěivá v tom. že se na měřenou vrstvu (7. 13) i na její světelný difu/or (6), na němž je /koumaná \ rslv a (7. 13) nanesena, promítá ú/ký světelný svazek (2) pod úhlem dopadu (u) a vytvořené alespoň dvě světelné linie (X. 9) v/dálené o vzdálenost (I.) se registrují optickým mikroskopem (10) a'nebo CCD kamerou (12). Z, nametené v7:da!czn/.úi í!A *počtu.....cho odvcicnim na kalibrované stupnici okuláru (11) optického mikroskopu (10) stanoví tloušťka transparentní i netransparentní zkoumané vrstvy (7. 13).The method of measuring the thickness of the non-stationary thin transparent and non-transparent layers (7, 13) consists in this. that a light beam (2) is projected at an angle of incidence (u) on the measured layer (7, 13) as well as on its light diffusion (or) (6) on which it is / is being coated. ) and formed at least two light lines (X.9) at a distance (I) are registered by an optical microscope (10) or by a CCD camera (12). As measured by the optical microscope (11) calibrated eyepiece scale (10), the thickness of both the transparent and non-transparent investigated layers (7, 13) is determined.
Optický tloušťkoměr pro měřeni nestacionárních transparentních a netransparentních tenkých vrstev (7. 13) sestává z optického projekčního systému (16) tvořeného světelným zdrojem emitujícího monochromatické a/nebo bílé světlo a dále kondenzorem (3) a koltmálorem (4) a mikromelríckv stav itelnou štěrbinou (5), a z optického mikroskopu (10). Optická osa (17) kolimáloru (4) sv írá s normálou vrstvy vzorku (7. 13) úhel dopadu (a), přičemž optický mikroskop (10) je umístěn v ose normály vrstvy vzorku (7. 13). umístěným na optickém diťu/oru (6). a je opatřen okulárem (11) s nitkovým křížem (15) a/nebo snímací CCD kamerou (12).The optical thickness gauge for measuring non-stationary transparent and non-transparent thin films (7, 13) consists of an optical projection system (16) comprising a light source emitting monochromatic and / or white light, a condenser (3) and a coltmalor (4) and a micromelectrically adjustable slot. 5), and an optical microscope (10). The optical axis (17) of the collimator (4) forms an angle of incidence (α) with the normal of the sample layer (7, 13), the optical microscope (10) being positioned along the axis of the normal of the sample layer (7, 13). located on the optical child / ore (6). and is provided with a crosshair eyepiece (11) and / or a CCD camera (12).
Způsob měření tloušťky nestacionárních tenkých vrstev a optický tloušťkoměrMethod of thickness measurement of non-stationary thin films and optical thickness gauge
Oblast technikyTechnical field
Vynález se týká měření tlouštěk velmi tenkých nestacionárních transparentních i netransparentních vrstev, zejména s použitím optických měřicích metod.The invention relates to the measurement of the thicknesses of very thin non-stationary transparent and non-transparent layers, in particular using optical measuring methods.
i o Dosavadní stav technikyBACKGROUND OF THE INVENTION
Znalost časové závislosti tloušťky d(t) jc rozhodující při stanovení rychlosti polymerace, vytvarování, odpařování těkavých látek a při analýze jiných chemických a fotochemických reakcí. V současné době je měření velmi tenkých vrstev o tloušťce d(t) > 10 pm založeno na metodě magneticko indukční, metodě vířivých proudů, nebo se provádí měření ultrazvukem a kalotestem. Zpravidla jde o vrstvy už vytvrzené, jejichž tloušťka je časově nezávislá. U mokrých nestacionárních vrstev se často používá metody nepřímé - vážení vrstvy pří odpařování ředidel. Zkoumaná viskózní látka je rovnoměrně rozetřena na podložním sklíčku a následně vážena na analytických vahách. Známe-li objemovou hustotu a celkovou plochu vrstvy, lze snadno vypočítat výslednou tloušťku vrstvy d(t). Z tohoto vyplývá že jde o integrální metodu, která de facto stanovuje střední hodnotu tloušťky vrstvy .Knowledge of the time dependence of thickness d (t) is critical in determining the rate of polymerization, shaping, volatilization of volatiles and in the analysis of other chemical and photochemical reactions. At present, the measurement of very thin films with a thickness d (t)> 10 pm is based on the magnetic-induction method, the eddy current method, or ultrasonic and calotest measurements. Usually these are already cured layers, the thickness of which is independent of time. In the case of wet non-stationary layers, the method of indirect weighing of the layer is often used in the evaporation of solvents. The viscous substance to be examined is evenly spread on a slide and weighed on an analytical balance. Knowing the bulk density and total surface area of the layer, the resulting layer thickness d (t) can be easily calculated. This implies that it is an integral method that de facto determines the mean value of the layer thickness.
Existují optické metody založené na absorpci světla vrstvou, na interferenci monochromatického světla, metody spektrometrické. založené na d i frakci světla, metody elipsometrické, založené na eliptické polarizaci světla a metody založené na polarizaci světla odrazem (Brewsterův úhel polarizace).There are optical methods based on light absorption by the layer, on the interference of monochromatic light, spectrometric methods. based on d i fraction of light, ellipsometric methods based on elliptic polarization of light and methods based on polarization of light by reflection (Brewster's polarization angle).
Například patentový spis WO 94P28376 se týká „Zařízení a způsobu měření tloušťky tenkého filmu1. Měří se časová modulace emitované plazmy nebo odraženého laserového záření, z níž lzeFor example, WO 94P28376 relates to an apparatus and method for measuring the thickness of a thin film 1 . The time modulation of emitted plasma or reflected laser radiation from which it can be measured is measured
3» zjistit tloušťku tenké vrstvy. Modulace je způsobena interferencí záření na tenké vrstvě. Tímto způsobem nelze stanovit tloušťku neprůhledné vrstvy. Zařízení je komplikované.3 »determine the thickness of the thin film. Modulation is caused by radiation interference on a thin film. In this way, the thickness of the opaque layer cannot be determined. The device is complicated.
Patentový spis JP 62293103 využívá lomu světla na tenké vrstvě při úhlu dopadu rovnajícímu se Brevvsterově úhlu. Natáčecím substrátem se paprsek rozmítá po plošném senzoru. Tímto způso35 bem nelze měřit tloušťku neprůhledné vrstvy.JP 62293103 uses a refraction of light on a thin layer at an incidence angle equal to the Brevvster angle. The sweeping substrate sweeps the beam across the surface sensor. In this way, the thickness of the opaque layer cannot be measured.
Podstata vynálezuSUMMARY OF THE INVENTION
Tyto nevýhody odstraňuje způsob měření tloušťky tenkých nestacionárních transparentních vrstev na základě optických vlastností vrstvy, který podle vynálezu spočívá v tom, že se na měřenou vrstvu, i na její opticky difuzor, na němž je měřená vrstva nanesena, promítá úzký světelný svazek pod úhlem dopadu a, světelný svazek prochází jednak měřenou transparentní vrstvou a láme se v závislosti na jejím indexu lomu n' a posléze dopadá na povrch optického difuzoru, na němž. je měřená vrstva nanesena a vytvoří modulovanou linii, a jednak světelný svazek dopadá na povrch optického difuzoru vmiste bez měřené vrstvy a zde vytvoří referenční linii, přičemž vzdálenost mezi modulovanou linií a referenční linií se registruje optickým mikroskopem a/nebo CCD kamerou, umístěnými kolmo k rovině měřené vrstvy a z naměřené hodnoty vzdálenosti se tloušťka nestacionární transparentní tenké vrstvy zjistí buď výpočtem podle vzorec tg(a) -sin(a)/ sin2 (a)These disadvantages are overcome by a method of measuring the thickness of thin, non-stationary transparent layers on the basis of the optical properties of the layer which according to the invention consists in projecting a narrow light beam at an angle of incidence on the measured layer and its optically diffuser. The light beam passes through the measured transparent layer and refracts depending on its refractive index n 'and then impinges on the surface of the optical diffuser on which. the measured layer is applied to form a modulated line, and secondly, the light beam strikes the surface of the optical diffuser in the place without the measured layer and forms a reference line therein, the distance between the modulated line and the reference line being registered by an optical microscope and / or CCD camera of the measured layer and from the measured distance value, the thickness of the non-stationary transparent thin layer is determined either by calculation according to the formula tg (a) -sin (a) / sin 2 (a)
CZ 299672 Bó kde d(t) je tloušťka tenké nestacionární transparentní vrstvy.Where d (t) is the thickness of the thin non-stationary transparent layer.
L(t) jc vzdálenost mezí světelnou referenční linií a modulovanou linií, o. je úhel dopadu světelného svazku, n'(ť) a n jsou indexy lomu vrstvy a vzduchu.L (t) is the distance between the light reference line and the modulated line, o. Is the angle of incidence of the light beam, n '(t) and n are the refractive indices of the layer and the air.
nebo přímo odečtením na kalibrované stupnici okuláru optického mikroskopu.or directly by reading on a calibrated optical microscope eyepiece scale.
Vpředu uvedené nevýhody odstraňuje dále způsob měření tloušťky tenkých nestacionárních netransparentních vrstev, na základě optických vlastností' vrstvy, který podle vynálezu spočívá κι v tom. že se na měřenou netransparentní vrstvu i na její optický difuzor, na němž je měřená vrstva nanesena, promítá úzký světelný svazek pod úhlem dopadu ct, světelný svazek dopadá jednak na horní plochu měřené netransparentní vrstvy a vytvoří modulovanou linii, a jednak světelný svazek dopadá na povrch optického difuzoru v místě bez měřené netransparentní vrstvy a zde vytvoří referenční linii, přičemž vzdálenost mezi modulovanou linií a referenční linii se registruje optickým mikroskopem a/nebo CCD kamerou, umístěnými kolmo křovině měřené vrstvy a z naměřené hodnoty vzdálenosti se tloušťka nestacionární transparentní tenké vrstvy, zjistí bud' výpočtem podle vzorce d(i) ~ kde d(t) je tloušťka tenkc nestacionární netransparentní vrstvy,The above-mentioned disadvantages further obviate the method of measuring the thickness of thin non-stationary non-transparent layers, based on the optical properties of the layer, which according to the invention consists in this. that the measured non-transparent layer and its optical diffuser, on which the measured layer is applied, project a narrow light beam at an angle of incidence [alpha], the light beam impinges on the upper surface of the measured non-transparent layer and creates a modulated line; Optical diffuser in the place without measured non-transparent layer and here creates a reference line, where the distance between the modulated line and the reference line is registered by an optical microscope and / or CCD camera placed perpendicular to the scrub layer. by calculation according to the formula d (i) - where d (t) is the thickness of the thin non-stationary non-transparent layer,
L(t) je vzdálenost mezi světelnou referenční linií (a modulovanou linii), tx je úhel dopadu světelného svazku, nebo přímo odečtením na kalibrované stupnici okuláru optického mikroskopu.L (t) is the distance between the light reference line (and the modulated line), tx is the angle of incidence of the light beam, or directly by reading on a calibrated optical microscope eyepiece scale.
Předmětem vynálezu je dále optický tloušťkoměr pro měření nestacionárních transparentních a netransparentních tenkých vrstev sestávající z optického projekčního systému tvořeného světelným zdrojem emitujícího monochromatické a/nebo bílé světlo a dále kondenzorem a kolimáto30 rem a mikrometricky stavitelnou štěrbinou, a z optického mikroskopu, který podle vynálezu spočívá v tom, že optická osa kolimátoru svírá $ normálou vrstvy vzorku úhel dopadu ct, optický mikroskop je umístěn vose normály a vrstvy vzorku umístěným na optickém difuzoru a je opatřen okulárem s nitkovým křížem a/nebo snímací CCD kamerou.The present invention further provides an optical thickness gauge for measuring non-stationary transparent and non-transparent thin films consisting of an optical projection system comprising a light source emitting monochromatic and / or white light, a condenser and collimator and a micrometrically adjustable slit, and an optical microscope In that the optical axis of the collimator forms an angle of incidence α with the normal of the sample layer, the optical microscope is positioned in the normal of the sample and the sample layer disposed on the optical diffuser and is provided with a crosshair eyepiece and / or scanning CCD camera.
S výhodou je světelným zdrojem laserová dioda. Stupnice měřícího okuláru je kalibrována pro daný' úhel dopadu α a zkoumaný matená! v jednotkách íluušťky zkoumané visivy, přičemž jedna stupnice je pro transparentní a druhá pro netransparentní zkoumané vrstvy.Preferably, the light source is a laser diode. The scale of the measuring eyepiece is calibrated for a given 'angle of incidence α' and the matte examined! in the air of the viscose of interest, one scale being for the transparent layer and the other for the non-transparent layer being examined.
Optický tloušťkoměr pro měření tloušťky nestacionárních tenkých vrstev využívá při měřeni metody světelného řezu. Úzký světelný svazek je kolimátorem promítán pod úhlem dopadu a na zkoumanou vrstvu i na její světlo odrážející difuzor, na němž je zkoumaná vrstva nanesena. Vzniknou tak dvě světelné stopy - linie, navzájem vzdáleny o vzdálenost L, která je mikroskopem nebo CCD kamerou registrována. L naměřené hodnoty I. lze přesně stanovit tloušťku zkoumané netransparentní i transparentní vrstvy d(t).The optical thickness gauge uses a light cut method to measure the thickness of non-stationary thin films. The narrow light beam is projected by the collimator at an angle of incidence and onto the investigated layer as well as its light-reflecting diffuser on which the investigated layer is applied. This creates two light trails - lines, spaced apart by a distance L, which is registered by a microscope or CCD camera. L of the measured value I., it is possible to precisely determine the thickness of the examined non-transparent and transparent layer d (t).
Výhodou monochromatického laserového záření je dokonalá fokusace světla a ostrost hran světelných linií. Tím je vyloučena chromatická vada optického projekčního systému, což usnadňuje a zvyšuje přesnost měření.The advantage of monochromatic laser radiation is perfect focusing of light and sharpness of light lines edges. This eliminates the chromatic aberration of the optical projection system, which facilitates and increases measurement accuracy.
5o Další výhodou je např. vyhodnocení CCD kamerou získaných obrázků v pozdější časové etapě a skutečnost, že jde o přímou metodu měření tloušťky zkoumané vrstvy.5o Another advantage is eg evaluation of CCD camera acquired images at a later time stage and the fact that it is a direct method of measuring the thickness of the investigated layer.
Přehled obrázků na výkresechBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
Na obr. 1 je znázorněno schcrna uspořádání optického tloušťkorněru.FIG. 1 shows an optical thickness gauge arrangement.
swith
Na obr. 2 jc znázorněna referenční linie a modulová linie na povrchu netransparentní vrstvy.Fig. 2c shows a reference line and a modular line on the surface of the opaque layer.
Na obr. 3 je znázorněna referenční linie a modulová linie po průchodu světla transparentní vrstvou.Fig. 3 shows a reference line and a modular line after passing light through a transparent layer.
Na obr. 4 je znázorněna tloušťka čerstvě natřené vrstvy a po zaschnutí.Fig. 4 shows the thickness of the freshly coated layer and after drying.
Na obr. 5 je znázorněn okulár se stupnicí.FIG. 5 shows a scale eyepiece.
Příklady provedení vynálezuDETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Způsob měření tloušťky nestacionárních tenkých vrstev využívá metody světelného řezu a měření vzdálenosti L alespoň dvou světelných linii, referenční linie 8 a modulované linie 9, řezem vyme2 o zených.The method of measuring the thickness of the non-stationary thin films utilizes the light sectioning method and the measurement of the distance L of at least two light lines, the reference line 8 and the modulated line 9, cut by cut.
Na obr. 1 je znázorněn optický tloušťkoměr nestacionárních tenkých vrstev. Je tvořen optickým projekčním systémem J6 a optickým mikroskopem PO, kterým je stereoskopický mikroskop. Optický projekční systém J6 sestává ze světelného zdroje J_, emitujícího monochromatickéFigure 1 shows the optical thickness gauge of non-stationary thin films. It consists of optical projection system J6 and optical microscope PO, which is a stereoscopic microscope. The optical projection system 16 consists of a light source 1 emitting a monochromatic
2? a/nebo bílé světlo a dále kondenzoru 3 a kolimátoru 4 a mikrometricky stavitelné Štěrbiny 5. přičemž optická osa J_7 kolimátoru 4 svírá s normálou vrstvy vzorku 7 úhel dopadu ct, optický mikroskop JO je opatřen okulárem JJ s nitkovým křížem a stupnicí JJ a snímací CCD kamerou JJ.2? and / or white light, and furthermore a condenser 3 and a collimator 4 and a micrometrically adjustable slots 5. wherein the optical axis 17 of the collimator 4 forms an angle of incidence β with the normal of the sample layer 7, the optical microscope 10 is equipped with a crosshair eyepiece. camera JJ.
Světelným zdrojem i je laserová dioda, jejíž světelný monochromatický svazek 2 je kondenzorem 3 fokusován do ohniska kolimátoru 4. Rovnoběžný výsledný světelný svazek 2 z kolimátoru 4 prochází přes mikrometricky stavitelnou štěrbinu 5 a posléze jc promítnut pod úhlem dopadu a na povrch pevného světelného difuzoru 6 opatřeného zkoumanou vrstvou vzorku 7. Výhodou monochromatického laserového záření je dokonalá fokusace světla a ostrost hran světelných liniíThe light source 1 is a laser diode whose light monochromatic beam 2 is focussed by the condenser 3 into the focus of the collimator 4. The parallel resulting light beam 2 from the collimator 4 passes through a micrometrically adjustable slit 5 and then projected at incidence angle and onto the solid light diffuser 6 7. The advantage of monochromatic laser radiation is perfect focusing of light and sharpness of light lines edges
- referenční linie 8 a modulované linie 9. Tím jc vyloučena chromatická vada optického projekčního systému 16, což usnadňuje a zvyšuje přesnost měření,- reference line 8 and modulated line 9. This eliminates the chromatic aberration of the optical projection system 16, which facilitates and increases the measurement accuracy,
Na bílou destičku světelného difuzoru 6 je pravítkem pro danou tloušťku do rozetřena zkoumaná tianspareuuií vrstva 7 viskózm Kapaliny. Světelný svazek 2 monochromatického světla, jehožOn the white plate of the light diffuser 6, the tiansparial layer 7 to be examined is spread with viscous liquid for a given thickness. Light beam 2 of monochromatic light of which
4<> šířka je determinována mikrometrickým nastavením štěrbiny 5, současně osvětluje povrch difuzoru 6 bez vrstvy 7 i s vrstvou 7. V důsledku šikmého osvětlení vzniknou dvě světelné stopy relerenčni linie 8 a modulovaná linie 9. Vzdálenost L mezi nimi je funkcí tloušťky d(t) měřené vrstvy 7 jak je znázorněno na Obr. 1 a 3. V čase t = 0 bude tloušťka d() právě rozetřené vrstvy 7 největší a po jejím vytvrzení nebo vysušení nejmenší cL. viz Obr. 4. Totéž platí o vzdálenosti L referenční linie 8 a modulované linie 9,4 <> width is determined by the micrometric adjustment of the slot 5, at the same time illuminates the surface of the diffuser 6 without layer 7 and layer 7. Due to the oblique illumination two light lines of the reference line 8 and modulated line 9 arise. the measured layer 7 as shown in FIG. 1 and 3. At time t = 0, the thickness d () of the just spread layer 7 will be the largest and, after curing or drying, the smallest cL. see FIG. 4. The same applies to the distance L of the reference line 8 and the modulated line 9,
Optickým tloušťkoměreni pro měření tloušťky nestacionárních tenkých vrstev dle vynálezu lze měřit tloušťky vrstev JJ. 7 netrasparentních i transparentních. Obr, 2 znázorňuje vytvoření modulované linie 9 v místě dopadu na povrch vzorku netransparentní vrstvy JJ a referenční linii 8The optical thickness gauge for measuring the thickness of the non-stationary thin layers according to the invention can measure the thickness of the layers 11. 7 non-transparent and transparent. Fig. 2 shows the formation of a modulated line 9 at the point of impact on the sample surface of the opaque layer 11 and the reference line 8
5o v místě dopadu na povrch difuzoru 6 v místě bez vrstvy JJ.5o at the point of impact on the surface of the diffuser 6 at a point without layer 11.
V prvním případě se světelná modulovaná linie 9 zobrazí na povrchu netransparentní vrstvy JJ, ve druhém případě po průchodu světla vrstvou 7 na povrchu světelného difuzoru 6. Vzdálenosti L mezi referenční linií 8 a modulovanou linií 9 jsou měřeny optickým mikroskopem JJ pomocíIn the first case, the light modulated line 9 is displayed on the surface of the opaque layer 11, in the second case after light has passed through the layer 7 on the surface of the light diffuser 6. The distances L between the reference line 8 and the modulated line 9 are measured by an optical microscope 11.
5? okuláru JJ. s nitkovým křížem a stupnici 15. Dělení stupnice JJ, viz obr. 5, lze navrhnout pro5? eyepiece JJ. with a crosshair and a scale 15. The scale division 11, see Fig. 5, can be designed for
-3C.7. 299672 B6 daný úhel dopadu a a pro indexy lomu n' zkoumaných vrstev. Do druhého světelného kanálu stereoskopického mikroskopu H) muže být zařazena kamera CCD f2, která umožňuje zaznamenávat obrazy světelné referenční linie 8 a modulované linie 9, snímané v jednotlivých časových intervalech na hard disk nezakresleného počítače. Tím je měření trvale zdokumentováno a pří5 stupně pro další eventuální vyhodnocení.-3C.7. 299672 B6 given the angle of incidence α and for refractive indices n 'of the investigated layers. In the second light channel of the stereoscopic microscope 11 can be included a CCD camera f2, which allows to record images of light reference line 8 and modulated line 9, taken at intervals of time on the hard disk of an untreated computer. As a result, the measurement is permanently documented and at the next stage for further evaluation.
Geometrické poměry referenční linie 8 a modulované linie 9 při osvětlení netransparentní vrstvy 13 jsou nakresleny na Obr. 2. 1 lorní modulovaná linie 9 a dolní referenční linie 8 je místem dopadu světelného difuzoru 6. Při jejich kolmém pozorování bude mezi nimi vzdálenost, která je urče10 na vztahemThe geometric ratios of the reference line 8 and the modulated line 9 under illumination of the opaque layer 13 are shown in FIG. 2. The 1-lor modulated line 9 and the lower reference line 8 are the point of impact of the light diffuser 6. When viewed perpendicularly there will be a distance between them which is determined by
Ld) ~ dd) ig('a).Ld) ~ ddig (a).
ze kterého vypočteme tloušťku vrstvy d(t).from which the thickness of the layer d (t) is calculated.
V případě transparentní vrstvy 7 se uplatňuje zákon lomu a pro vzdálenost referenční linie 8 a modulované linie 9 platí vztah:In the case of the transparent layer 7, the fracture law applies and for the distance of the reference line 8 and the modulated line 9 the following relation applies:
tg(a)-sinfa)/.tg (a) -sinfa).
n'(t)n '(t)
- sin2(a) kde a je úhel dopadu světelného svazku, dd) je tloušťka vrstvy, n a n'd) jsou indexy lomu vzduchu a měřené vrstvy 7. Pokud se index lomu n '(o) mokré vrstvy a index lomu vyt vržené vrstvy liší referenční linie 8 a modulované linie 9 se při dané tloušťce vrstvy 7 zvětšuje s rostoucím úhlem dopadu a. Vhodné hodnoty úhlu dopadu a leží v intervalu 45 až 65°. protože při vět25 šíeh úhlech se značná část světla odráží od dielektrického rozhraní. Intenzita světla vstupujícího do vrstvy 7 pak rychle klesá a obraz světelné štěrbiny bude méně kontrastní. Výpočtem lze ukázat, že tloušťka transparentní vrstvy 7 o indexu lomu nř = 15 je přibližně rovna d - 2L pro a = 45° a d - L pro a - 60°.- sin 2 (a) where a is the angle of incidence of the light beam, dd) is the layer thickness, n'd) are the refractive indices of the air and the measured layer 7. If the refractive index n '(o) of the wet layer and the refractive index The reference values 8 and the modulated lines 9 increase at a given thickness of the layer 7 with increasing incidence angle α. Suitable values of incidence angle α lie in the range of 45 to 65 °. because at 25 angles, much of the light reflects from the dielectric interface. The intensity of the light entering the layer 7 then rapidly decreases and the image of the light slit will be less contrasting. The calculation can be shown that the thickness of the transparent layer 7 having a refractive index of n = 15 is approximately equal to d - 2L for a = 45 ° and d - L for a - 60 °.
Prii mys I ová využitelnost vynál eziiIn the case of mouse applicability, he invented ezia
Způsob měření tloušťky nestacionárních tenkých transparentních i netransparentních vrstev a optický tloušťkomčr nalezne uplatnění při stanovení rychlosti polymerace. chemických reakcí, vytvrzování a vysýchání barev a všude tam, kde je zapotřebí určit tloušťku vrstvy nad 10 gm. Z principu měřené metody lze určit i stacionární, časově nezávislé tloušťky.The method of measuring the thickness of non-stationary thin transparent and non-transparent layers and the optical thickness gauge will find application in determining the polymerization rate. chemical reactions, curing and drying of paints and wherever it is necessary to determine the layer thickness above 10 gm. Stationary, time-independent thicknesses can also be determined from the principle of the measured method.
Claims (7)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CZ20060350A CZ299672B6 (en) | 2006-05-30 | 2006-05-30 | Method of measuring thickness of non-stationary thin layers and optical thickness gauge |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CZ20060350A CZ299672B6 (en) | 2006-05-30 | 2006-05-30 | Method of measuring thickness of non-stationary thin layers and optical thickness gauge |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ2006350A3 CZ2006350A3 (en) | 2007-12-12 |
CZ299672B6 true CZ299672B6 (en) | 2008-10-08 |
Family
ID=38792152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ20060350A CZ299672B6 (en) | 2006-05-30 | 2006-05-30 | Method of measuring thickness of non-stationary thin layers and optical thickness gauge |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CZ (1) | CZ299672B6 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108788929A (en) * | 2018-06-26 | 2018-11-13 | 北京理工大学 | A kind of processing method accurately controlling nontransparent thickness of workpiece |
BE1030198B1 (en) * | 2022-11-21 | 2023-08-16 | Univ Yunnan Minzu | Method and system for monitoring and measuring a coating thickness |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4454001A (en) * | 1982-08-27 | 1984-06-12 | At&T Bell Laboratories | Interferometric method and apparatus for measuring etch rate and fabricating devices |
JPS62293103A (en) * | 1986-06-12 | 1987-12-19 | Nikon Corp | Surface displacement measuring instrument |
WO1994028376A1 (en) * | 1993-05-28 | 1994-12-08 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus and method of film thickness measurement |
WO2003025497A1 (en) * | 2001-09-21 | 2003-03-27 | Kmac | Apparatus for measuring thickness profile and refractive index distribution of multiple layers of thin films by means of two-dimensional reflectometry and method of measuring the same |
EP1596157A1 (en) * | 2004-05-06 | 2005-11-16 | Edye Thomas | Interferometric thickness measuring apparatus for thin transparent layers on a moving substrate |
JP2006105702A (en) * | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Keyence Corp | Optical displacement gauge, method for measuring application cross-sectional area of viscous liquid using this gauge, program of measuring optical displacement gauge and recording medium readable by computer |
-
2006
- 2006-05-30 CZ CZ20060350A patent/CZ299672B6/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4454001A (en) * | 1982-08-27 | 1984-06-12 | At&T Bell Laboratories | Interferometric method and apparatus for measuring etch rate and fabricating devices |
JPS62293103A (en) * | 1986-06-12 | 1987-12-19 | Nikon Corp | Surface displacement measuring instrument |
WO1994028376A1 (en) * | 1993-05-28 | 1994-12-08 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus and method of film thickness measurement |
WO2003025497A1 (en) * | 2001-09-21 | 2003-03-27 | Kmac | Apparatus for measuring thickness profile and refractive index distribution of multiple layers of thin films by means of two-dimensional reflectometry and method of measuring the same |
EP1596157A1 (en) * | 2004-05-06 | 2005-11-16 | Edye Thomas | Interferometric thickness measuring apparatus for thin transparent layers on a moving substrate |
JP2006105702A (en) * | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Keyence Corp | Optical displacement gauge, method for measuring application cross-sectional area of viscous liquid using this gauge, program of measuring optical displacement gauge and recording medium readable by computer |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108788929A (en) * | 2018-06-26 | 2018-11-13 | 北京理工大学 | A kind of processing method accurately controlling nontransparent thickness of workpiece |
CN108788929B (en) * | 2018-06-26 | 2019-08-02 | 北京理工大学 | A kind of processing method accurately controlling nontransparent thickness of workpiece |
BE1030198B1 (en) * | 2022-11-21 | 2023-08-16 | Univ Yunnan Minzu | Method and system for monitoring and measuring a coating thickness |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CZ2006350A3 (en) | 2007-12-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5080484A (en) | Method of measuring the contact angle of wetting liquid on a solid surface | |
KR100571863B1 (en) | Apparatus for measuring film thickness formed on object, apparatus and method of measuring spectral reflectance of object, and apparatus and method of inspecting foreign material on object | |
US8705033B2 (en) | Multi-channel surface plasmon resonance sensor using beam profile ellipsometry | |
US8705039B2 (en) | Surface plasmon resonance sensor using vertical illuminating focused-beam ellipsometer | |
EP2171430A1 (en) | Optical property sensor | |
US6495812B1 (en) | Apparatus and method for analyzing an object of interest having a pivotably movable source and detector | |
EP1715290A1 (en) | Confocal measurement method and apparatus in a paper machine | |
JP2009053157A (en) | Method and apparatus for measuring film thickness of thin film coating layer | |
KR20110039687A (en) | Apparatus and methed for surface plasmon resonance imaging ellipsometry | |
CZ299672B6 (en) | Method of measuring thickness of non-stationary thin layers and optical thickness gauge | |
JP2004117298A (en) | Measuring method and apparatus using total reflection attenuation | |
KR100574776B1 (en) | An Ellipsometry Device Using Spectral Imaging And Ellipsometry Method Thereof | |
JP5500354B2 (en) | Membrane structure measuring method and surface shape measuring apparatus | |
JP2004061419A (en) | Measuring instrument | |
US20040036881A1 (en) | Optical configuration for SPR measurement | |
JP3794745B2 (en) | Optical constant measuring device and microscope | |
JP2005106706A (en) | Instrument and method for measuring refractive index and thickness | |
JP5011302B2 (en) | Polarimeter | |
US6804007B2 (en) | Apparatus for multiplexing two surface plasma resonance channels onto a single linear scanned array | |
TWI354092B (en) | ||
Lel et al. | Extension of the chromatic confocal imaging method for local thickness measurements of wavy films | |
JP2597515Y2 (en) | Total reflection absorption spectrum measurement device | |
JPS61235707A (en) | Light converging device and film thickness measuring instrument | |
KR20100119332A (en) | Unit for focusing beam and apparatus for measuring spectrum | |
JP2005147969A (en) | Optical microscope measuring device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20130530 |