CZ296294A3 - Apparatus for machining by a light beam - Google Patents

Apparatus for machining by a light beam Download PDF

Info

Publication number
CZ296294A3
CZ296294A3 CZ942962A CZ296294A CZ296294A3 CZ 296294 A3 CZ296294 A3 CZ 296294A3 CZ 942962 A CZ942962 A CZ 942962A CZ 296294 A CZ296294 A CZ 296294A CZ 296294 A3 CZ296294 A3 CZ 296294A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
reflector
point
radiation
line
concentrating
Prior art date
Application number
CZ942962A
Other languages
English (en)
Inventor
Mikhail Ivanovich Oparin
Mikhail Timofeevich Borisov
Georgy Mikhailovich Alexeev
Original Assignee
Mgm N Proizv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mgm N Proizv filed Critical Mgm N Proizv
Publication of CZ296294A3 publication Critical patent/CZ296294A3/cs

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K28/00Welding or cutting not covered by any of the preceding groups, e.g. electrolytic welding
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0004Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
    • G02B19/0028Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed refractive and reflective surfaces, e.g. non-imaging catadioptric systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/08Mirrors
    • G02B5/10Mirrors with curved faces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

Vynález se týká světelné techniky, zejména technických prostředků na svazkování optického záření. Může se používat př_í obrábění materiálů světelným paprskem včetně pájení a svařování plechů, Zařízení je možno používat při výrobě a opravách karoserií automobilů, při výrobě kovové krytiny pro budovy a domy a při dalších pracech, kde se požaduje spolehlivé a. bezpečné zařízení pro místní ohřev povrchu dílů.
Dosavadní stav techniky
Zařízení, které soustřeďuje energii optického záření, se používá dlouhou, dobu při realizaci různých technologických procesů spojených s místním ohřevem povrchu obráběného materiálu.
Je známé zařízení na obrábění světelným paprskem, které se skládá z reflektoru, jehož odrazová plocha je provedena jako rotační elipsoid, kde v jednom z jeho ohnisek je umístěn zdroj obloukového světla a v druhém ohnisku je. povrch obráběného materiálu (patent USA č. 3774995, tř. 350-294, MKI-5-' G 02 B 5/10, 1973). K nedostatkům tohoto zařízení patří velké rozměry pří použití výkonných zdrojů světla. Rovněž existuje zařízení na zpracování světelným paprskem, které se skládá z 'reflektoru provedeného jako sériového a souosého základního a přídavného elipsoidu, které jsou spojeny kruhovým prvkem. Ve společném vyzařujícím ohnisku je umístěn zdroj· bodového světla a povrch obráběného materiálu je umístěn v druhém ohnisku základního elipsoidu. Mezi-druhým ohniskem přídavného elipsoidu a druhým ohniskem základního elipsoidu je v rovině, která je kolmá ke společné ose elipsoidů, umístěno zrcadlo, které směruje 2áření odražené od povrchu přídavného elipsoidu do druhého ohniska základního elipsoidu (přihláška SRN č. 319 562, MKI-5: F 21 V 7/09. 1984),
Při použití ' reflektoru s povrchem ve tvaru rotačního
X elipsoidu v Intervalu mezi horním bodem reflektoru a bodem vyzařujícího ohniska má za následek velké rozměry záříce jestliže se budeme snažit zvětšit vzdálenost mezi bodem vyzařování a horním bodem reflektoru, abychom snížili tepelné zatížení stěny reflektoru, které je nepřímo úměrné čtverci vzdálenosti mezi- bodem vyzařování a povrchem reflektoru. Zvýšení tepelného zatížení současně zapříčiňuje deformaci tvaru reflektoru, což mění jeho optické vlastnosti. Abychom kompenzovali tento jev, potřebujeme velké množství chladící kapaliny, což opět. znamená, že musíme zvětšit tlouštku stěny a tím stoupá i váha.
•Podstata· vymá-l-e<cí.i· τ
Vynález sí klade za úkol vytvořit zařízení, jehož využití umožní použít výkonnější obloukové zářiče a současně snížit váhu koncentrujícího reflektoru.
Podstata vynálezu spočívá v tom, že v zařízení na obrábění světelným paprskem, ve kterém je umístěn bodový zdroj optického záření a koncentrující reflektor s odrazovou plochou ve tvaru rotační plochy s povrchovou přímkou, jejíž jednu část tvoří oblouk elipsy, přičemž hlavní osa elipsy se kryje s osou rotace, se jedno z ohnisek kryje se zdrojem záření a druhé ohnisko se kryje s plochou obráběného materiálu, rotační plocha koncentrujícího reflektoru je provedena s povrchovou přímkou, skládající se z oblouků bifokálních elips, úseček
- paprsků které spo jují - je j i ch -konce - a začínají v ohn isku , které — se kryje se . zdrojem záření a z oblouků kružnice se středem _v_tomto_ohnisku; rozměry úseček povrchové přímky a jejich vzájemné umístění je takové, aby libovolná přímka procházející bodem, který se kryje se zdrojem záření a protínající plochu reflektoru na úseku s povrchovou přímkou ve tvaru oblouku kružnice protínala plochu reflektoru na úseku s povrchovou přímkou ve tvaru oblouku elipsy a aby se libovolná přímka, protínající ohniskový bod kryjící se s plochou obráběného materiálu protínala pouze v jednom místě s odrazovou plochou koncentrujícího reflektoru; počet oblouků elips k povrchové
-3neporusi.de obecnou zásadu zařízení; která spočívá v r
t;
přímky, počet úseků paprsků n a počet, oblouků kružnic m jsou spojeny vztahem k = r+w+l. kde n a m jsou celá č.ísla: n.B) 0,1,2.....
Toto provedení odrazové plochy koncentrujícího reflektoru sestrojení optického systému tom, že záření bodového zdroje světla, který je umístěn v prvním ohniskovém bodu reflektoru, jde podél plochy ve tvaru rotačního elipsoidu a soustřeďuje se ve druhém ohniskovém bodu elipsoidu. Použití systému sériově umístěných odrazových vrstev ve tvaru rotačních elipsoidů pro koncentraci zářeni je ekvivalentní odrazové ploše s jedním elipsoidem. Spojení sousedících odrazových úseků’pomocí úseků kuželových ploch, které' jsou souosé s eliptickými plochami, s horním bodem kuželu, který se kryje s prvním společným ohniskem odrazových elips, umožňuje zabránit odrazům od neeliptických částí reflektoru. Využití odrazových úseků plochy reflektoru, které mají. tvar kulovité vrstvy se středem koule v prvním ohniskovém bodu, umožňuje zásadním způsobem měnit tvar reflektoru v závislostí na požadavcích technologického postupu, Současně po odražení od kulové plochy se dostane záření zdroje na eliptický úsek a následovně se bude koncentrovat ve druhém ohnisku. Je samozřejmé, že záření odražené, od eliptické odrazové plochy nesmí být zachyceno kuželovou nebo kulovou plochou na dráze ke druhému ohnisku, které se kryje s plochou obráběného materiálu provedení koncentrujícího reflektoru jako sledu úseků s eliptickými, kuželovými a kulovými odrazovými plochami umožňuje za prvé podstatně zvětšit vzdálenost mezi zdrojem záření a plochou reflektoru, což podstatně snižuje tepelné zatížení reflektoru a za druhé do Značné míry měnit tvar odrazové plochy podle požadavků technologického postupu. To znamená, že navržené technické řešení umožňuje zvýšit výkon použitého světelného zdroje a rozsahu).
dokonce zmenšit rozměry zařízení Cv rozumném
Přehled obrázků na výkrese “i Vynález bude blíže osvětlen pomocí výkresu a popisu na 'obr'. 1\ kde je uveden příklad ' provedení zařízeni na obrábění materiálu světelným paprskem.
Příklady provedení vynálezu
Optický zářič obsahuje zdroj záření 1 s bodovou oblastí záření umístěnou v bodu Fl na ose koncentrujícího reflektoru 2 S odrazovou plochou, která představuje plochu získanou rotací lomené čáry. a která je sestrojena ze dvou elips 3 s ohniskami v bodech Fl a F2. úseků paprsků 4 vycházejfcích z bodu Fl a oblouků kružnic 5 se středem v bodu Fl podél osy procházející body Fl a F2.
Zařízení pracuje následovně- Záření zdroje X se šíří podél paprsků z bodu Fl, odráží se od plochy koncentrujícího reflektoru 2. Jestliže k odrazu dojde na úseku plochy s povrchovou přímkou ve tvaru oblouku elipsy 3. s ohnisky . v bodech Fl a F2, po odrazu bude záření směrovat podél paprsku procházejícího bodem F2. Na obr.l je tento případ popsán /
pomocí úseků [Fl. A] a [A. F2]. Jestliže k odrazu dochází na úseku plochy s povrchovou přímkou ve tvaru oblouku kružnice 5 se středem v bodu Fl. projde záření po odrazu opět bodem Fl a Šíří se do protnutí plochy reflektoru na úseku s povrchovou přímkou ve tvaru elipsy 3. Tomu odpovídá dráha paprsku podél úseků [Fl, Bl a [B. Fl. Cl. Jestliže bod C povrchové přímky na rotační ploše koncentrujícího reflektoru bude také na oblouku „kružnice___________5...........záření_____„projde........několikrát. ..... po . dráze .
[B. C] . [C. B1 a nedostane se.do ohniska F2-. Tento úsek nebude ·
mít žádný vliv na záření procházející účinným průřezem, kde je plocha obráběného materiálu. Tento případ proto musíme (
vyloučit ze všech možných variant realizace reflektoru.
Protože směr šířeni záření odpovídá paprskům vycházejícím z bodu Fl. k odrazu záření od úseků plochy reflektoru s povrchovou přímkou ve tvaru úseků paprsků 4 nedojde a tyto úseky nemohou ovlivnit šíření záření, jestliže nebudou na dráze záření po odrazu od eliptických úseků. Podobné překážky, které mohou být zapříčiněny úseky reflektoru s povrchovými
- Jpřímkami ve tvaru oblouku kružnic 5 se nesmí objevit ve variantě realizace reflektoru.
Provedeni plochy koncentrujícího reflektoru 2 s povrchovou přímkou ve tvaru lomené čáry s úseky složenými z oblouků elips
3. oblouků kružnic 5 nebo úseků paprsků 4 umožňuje zásadním způsobem měnit tvar· reflektoru v závislosti na konkrétních podmínkách. Jestliže potřebujeme např. zajistit velký činitel
I využití záření, musíme zmenšit průměr vstupního průřezu ť reflektoru a přiblížit tento průřez k bodu F2. V mezním j
případu pří shodě výstupního okna a roviny řezu procházející bodem F2 bude úhel využití zářeni a dán vztahem:
*· « = π 2 arctgía2/b?-1 )lz2 , kde a je délka hlavní poloosy elipsy, b je délka vedlejší poloosy. Jestliže a/b=2, <ζ=1,6&π radiánů a jestliže a/b=3, <r=l, 66π radiánů.
Provedení koncentrujícího reflektoru ve výše popsaném tvaru umožňuje podstatně snížit tepelnou zátěž stěny reflektoru, což umožňuje zmenšit tlouštku stěn, snížit váhu a zmenšit rozměry zářiče, nebo zvýšit výkon, používaného zdroje optického záření.
Průmyslová využitelnost
Navrhované technické řešení . umožňuje zvýšit výkon světelných zdrojů v zařízení na obrábění světelným paprskem a zmenšit rozměry. To rozšíří oblast použití tohoto zařízení.
Tu l Bude je možné využít v různých průmyslových odvětvích v stavebnictví, dopravě, automobilovém průmyslu nebo zemědělském i
strojírenství při svařování plechů, při opravách karoserií automobilů, při pokládání a opravě kovové krytiny na domech atd.

Claims (1)

  1. ' Zařízení na obrábění světelným paprskem, ve kterém je :
    umístěn bodový zdroj optického záření a koncentrující i reflektor s odrazovou plochou ve tvaru rotační plochy í s povrchovou přímkou, jejíž jednu část tvoří oblouk elipsy,- { přičemž hlavní osa elipsy se kryje s osou rotace, se jedno ’ · ř ' z ohnisek kryje se zdrojem záření a druhé ohnisko se kryje >
    s plochou obráběného materiálu, vyznačující setím. Že i rotační plocha koncentrujícího reflektoru (2) je provedena j
    -s -povrchovou- přímkou, skláda j ící -se -z oblouků--C3) -b-i-f ok-á-l-n-í-eh -......
    _oJ._i.ps-;_ilseků—C4J_papírků__které- spo-j-uj-í_je-j-řch_ke.n&e_a_i začínají v ohnisku CF1). které se kryje se zdrojem Cl) ~ záření ;
    a z oblouků C5) kružnice se středem v tomto ohnisku, přičemž rozměry úseků povrchové přímky a jejich vzájemné umístění je takové, Že libovolná přímka . procházející bodem, který se kryje se zdrojem Cl) záření . a protínající plochu koncentrujícího reflektoru C2) na úseku s povrchovou přímkou ž ve tvaru' oblouku (5) kružnice protíná plochu koncentrujícího —;
    reflektoru C2) na. úseku s povrchovou přímkou ve tvaru oblouku C3) elipsy a libovolná přímka, protínající ohniskový bod CF2) ležící v ploše obráběného materiálu protíná se pouze v jednom místě s odrazovou plochou t koncentru j íc ího reflektoru C2) ,, při Čemž počet oblouků C3) elips jt, “ k---------povrchové přímky —; početúseků·C4) paprsků n a počet-------r ’ oblouků. C5) kružnic m je spojen vztahem k = n + z? + 1. * kde η ά m _jsou celá čís 1 a: n . n =._0 ,.l.2
CZ942962A 1993-03-30 1993-07-06 Apparatus for machining by a light beam CZ296294A3 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU9393016356A RU2047876C1 (ru) 1993-03-30 1993-03-30 Устройство для светолучевой обработки

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CZ296294A3 true CZ296294A3 (en) 1995-08-16

Family

ID=20139481

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ942962A CZ296294A3 (en) 1993-03-30 1993-07-06 Apparatus for machining by a light beam

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5592582A (cs)
EP (1) EP0645648A4 (cs)
AU (1) AU4592793A (cs)
CZ (1) CZ296294A3 (cs)
RU (1) RU2047876C1 (cs)
WO (1) WO1994024586A1 (cs)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2047876C1 (ru) * 1993-03-30 1995-11-10 Научно-производственная фирма "МГМ" Устройство для светолучевой обработки
RU2047875C1 (ru) * 1993-03-30 1995-11-10 Научно-производственная фирма "МГМ" Устройство для светолучевой обработки
US20030176775A1 (en) * 1998-10-13 2003-09-18 Medoptix, Inc. Cleaning kit for an infrared glucose measurement system
US20030021969A1 (en) * 2001-06-29 2003-01-30 Aloisi Robert J. Reflective heat-shrinking film
US20030015274A1 (en) * 2001-06-29 2003-01-23 Mallman A. James Reflective hood for heat-shrinking film onto an open-topped container and method of using same
US7089718B2 (en) * 2002-06-10 2006-08-15 Green-Line Products, Inc. Apparatus for heat-shrinking film onto an open-topped container and method of using same
US20040035088A1 (en) * 2002-06-10 2004-02-26 Loeffler Herbert H. Container positioning device
US20030228964A1 (en) * 2002-06-10 2003-12-11 Biba Scott I. Apparatus and method for braking and controlling tension in a web
US20040068968A1 (en) * 2002-06-10 2004-04-15 Biba Scott I. Modular rotational assembly
US7025476B2 (en) * 2003-04-25 2006-04-11 Acuity Brands, Inc. Prismatic reflectors with a plurality of curved surfaces
WO2007081812A2 (en) * 2006-01-11 2007-07-19 Philip Premysler Luminaire reflectors
KR101897869B1 (ko) * 2016-07-07 2018-10-04 고려대학교 산학협력단 비구면거울이 내장된 레이저수술장치
WO2024002672A1 (en) * 2022-06-28 2024-01-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Euv collector for an euv projection exposure apparatus

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB264814A (en) * 1926-01-23 1927-12-22 Emma Strada Improvements in, or relating to, soldering tins, and the like
GB1110073A (en) * 1965-11-09 1968-04-18 British Iron Steel Research Improvements in and relating to reflectors
US3801773A (en) * 1970-10-23 1974-04-02 Nippon Electric Co Apparatus for heating a sample with radiation energy concentrated by a reflector essentially composed of spheroidal surface portions
US3784836A (en) * 1972-10-06 1974-01-08 Sybron Corp Ir generator having ellipsoidal and paraboloidal reflectors
DE2537855A1 (de) * 1975-08-26 1977-03-10 Friedrich Wolff Geraet zur flaechenhaften uv-bestrahlung
DE3638669A1 (de) * 1986-11-12 1988-05-26 Auer Sog Glaswerke Gmbh Reflektor fuer zahnaerztliche und chirurgische operationsleuchten
DE3807302A1 (de) * 1988-03-05 1989-09-14 Dornier Gmbh Spiegelofen
NL8902971A (nl) * 1988-12-02 1990-07-02 Vickers Shipbuilding & Eng Werkwijze en inrichting voor het tot stand brengen van een warmtebeeld.
DE3912237A1 (de) * 1989-04-14 1990-10-18 Zeiss Carl Fa Spiegel zur veraenderung der geometrischen gestalt eines lichtbuendels
JPH0634377B2 (ja) * 1989-12-13 1994-05-02 三鷹光器株式会社 加熱装置
US5037191A (en) * 1989-12-21 1991-08-06 Cheng Dah Y Orthogonal parabolic reflector systems
RU2062684C1 (ru) * 1992-06-15 1996-06-27 Научно-производственная фирма "МГМ" Устройство для светолучевой обработки
RU2047876C1 (ru) * 1993-03-30 1995-11-10 Научно-производственная фирма "МГМ" Устройство для светолучевой обработки
RU2047875C1 (ru) * 1993-03-30 1995-11-10 Научно-производственная фирма "МГМ" Устройство для светолучевой обработки

Also Published As

Publication number Publication date
US5592582A (en) 1997-01-07
WO1994024586A1 (en) 1994-10-27
EP0645648A1 (en) 1995-03-29
RU2047876C1 (ru) 1995-11-10
AU4592793A (en) 1994-11-08
EP0645648A4 (en) 1995-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5594831A (en) Beam machining device with reflector comprised of arcs of confocal ellipses
CZ296294A3 (en) Apparatus for machining by a light beam
EP0596004B1 (en) Non-imaging optical illumination system
KR101004497B1 (ko) 낮은 흡광 물질로 구성된 소재 내로 방사 에너지를 유도하기 위한 빔 형성 유닛을 포함하는 장치
EP0282593B1 (en) Laser beam forming apparatus
US20140003456A1 (en) Device For Converting The Profile of a Laser Beam Into a Laser Beam With a Rotationally Symmetrical Intensity Distribution
FR2519148B1 (fr) Selecteur de longueurs d&#39;ondes
US4215263A (en) Drawing optical waveguides by heating with laser radiation
US4693567A (en) Apparatus for projecting luminous lines on an object by a laser beam
US5285320A (en) Mirror for changing the geometrical form of a light beam
US4519680A (en) Beam chopper for producing multiple beams
JPS6448692A (en) Multifocusing laser beam condensing device
JPS58159514A (ja) レ−ザビ−ム空間分布形成方法
US4136926A (en) Achromatic illumination system for small targets
JPH01191801A (ja) 集光レンズ
DE10339231B4 (de) Stablinse, optisches System und Lasermarkierungsgerät
US4003639A (en) Catoptric lens arrangement
JPS58154484A (ja) レ−ザビ−ムの変換方法
US6331061B1 (en) Irradiance redistribution guide
US4657721A (en) Target illumination
CN104136961A (zh) 高功率激光系统
JPH08160341A (ja) ヘッドアップ型表示装置
US4264349A (en) Drawing optical waveguides by heating with laser radiation
JPS6329720A (ja) 集光光学系
JPS63203292A (ja) レ−ザ光の強度分布制御装置