CS265151B1 - Zpožďovací linka - Google Patents
Zpožďovací linka Download PDFInfo
- Publication number
- CS265151B1 CS265151B1 CS861116A CS111686A CS265151B1 CS 265151 B1 CS265151 B1 CS 265151B1 CS 861116 A CS861116 A CS 861116A CS 111686 A CS111686 A CS 111686A CS 265151 B1 CS265151 B1 CS 265151B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- electrically conductive
- delay line
- delay
- line according
- core
- Prior art date
Links
Landscapes
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Pulse Circuits (AREA)
Abstract
Řešení umožňuje spolehlivě docílit zpoždění signálu o přesnou zadanou hodnotu. Jeho podstata spočívá v tom,že zpoždovací linka je složena z nejméně jedné základní části, která je složena z nejméně jednoho jádra, ovinutého vinutím s odbočkami pro nastavení hodnoty zpoždění, které jsou připojeny k elektricky vodivým ploškám. Jádro může být složeno z nejméně jedné elektricky vodivé vrstvy, z nejméně jedné izolační vrstvy a z nejméně jedné vrstvy elektricky vodivých plošek, nebo ze dvou dielektrických izolačních vrstev, mezi nimiž jsou elektricky vodivé vrstvy, mezi nimiž je substrát z elektricky vodivého, dielektrického, feromagnetického nebo ferimagnetického materiálu. Zpoždovací linka může být využita v každém zařízení číslicové a testovací techniky, kde je požadováno přesné zpoždění.
Description
Vynález se týká konstrukčního provedení zpoždovací linky.
Zpoždovací linky je možné vytvářet jako dlouhé vedení s rozloženými parametry. V tom případě je nutné pro dosažení většího zpoždění užívat vedení značných rozměrů, tedy nevhodných pro použití v zařízeních s mikroelektronickými prvky.
Jiným řešením je vytvářet zpoždovací linky na bázi toroidních jader. Uvedená konstrukce předpokládá navíjená toroidní jádra miniaturních rozměrů. Tato metoda je velmi pracná, vyžaduje navíjení miniaturních toroidů a pájení srovnatelných kondenzátorů, například monolitických. Na dosažené vlastnosti zpoždovacích linek má především vliv dodržení přesnosti při výrobě toroidních jader na bázi práškových komponentů. Další metodou je výroba zpoždovací linky, která kombinuje obě předcházející metody. Kombinací diskrétního vedení a vedení s rozloženými parametry dosahujeme výhodnější konstrukce při dodržení parametrů linky. Při konstrukci s relativně větším zpožděním dochází k použití parametricky horšího dielektrika kondenzátorů, a tím i k větším ztrátám, tedy menší kvalitě zpoždovací linky v závislosti na velikosti kapacity, charakteristické impedanci a v neposlední řadě na rozměrech linky.
Uvedené nevýhody částečně odstraňuje konstrukční uspořádání zpoždovací linky podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že zpoždovací linka je složena z nejméně jedné základní části, která je složena z nejméně jednoho jádra, ovinutého vinutím s odbočkami pro nastavení hodnoty zpoždění, které jsou připojeny k elektricky vodivým ploškám.
Jádro může být složeno z nejméně jedné elektricky vodivé vrstvy, z nejméně jedné izolační vrstvy a z nejméně jedné vrstvy elektricky vodivých plošek nebo ze dvou dielektrických izolačních vrstev, mezi nimiž jsou elektricky vodivé vrstvy, mezi nimiž je substrát. Zpoždovací linka může být uspořádána i tak, že z elektricky vodivých plošek, z izolačních vrstev a z elektricky vodivých vrstev jsou utvořeny kondenzátory. Základní část může být pokryta izolační krycí hmotou, která může být adhezivní a může být z dielektrického materiálu.
Vstup zpoždovací linky může být připojen k hybridnímu hradlu, jehož výstup je připojen k první odbočce vinutí.
Zpoždovací linka podle vynálezu má tyto výhody:
Linka je konstrukčně nenáročná, dostatečně přesná a spolehlivá. Řešení umožňuje zkonstruovat větší plochu s natištěnými kondenzátory. To umožňuje zvolit jakostnější dielektrický materiál, a omezit tak ztráty a snížit útlum zpoždovací linky. Malá parazitní indukčnost, hybridní technologií vytvořených kondenzátorů, umožňuje snížit rozptyl charakteristické impedance a zpoždění linky. Při konstrukci linky, která je složena například ze dvou základních částí umístěných nad sebou, je možné zvýšit počet sekcí v závislosti na rozměru linky, což umožňuje zvýšit kvalitu zpoždovací linky. V takovém případě je ale nutné použít izolační vrstvy z dielektrického materiálu s vyšší permitivitou, než má izolační krycí hmota, aby docházelo k zakřivení siločar do dielektrika s vyšší permitivitou a nevznikla tak vazba mezi jednotlivými základními částmi.
Konkrétní provedení zpoždovací linky, která vycházejí z jednotlivých bodů definice předmětu vynálezu, se vyznačují bud lepšími parametry linky na úkor její větší konstrukční pracnosti, nebo materiálové náročnosti, nebo naopak.
Na připojeném obr. 1 je znázorněn konkrétní příklad konstrukčního provedení zpoždovací linky. Základní část _1 je složena z jednoho jádra 2· Jádro 2 je složeno ze dvou elektricky vodivých vrstev £, umístěných mezi dvěma dielektrickými vrstvami 2· Mezi elektricky vodivými vrstvami 4 je substrát 5 z elektricky vodivého, dielektrického, feromagnetického nebo ferimagnetického materiálu. Jádro 2 je ovinuto vinutím 6 s odbočkami 2 Pro nastavení hodnoty zpoždění. Tyto odbočky T_ jsou elektricky připojeny k elektricky vodivým ploškám 2·
Na obr. 2 je znázorněno připojení vstupu 19 zpoždovací linky k hybridnímu hradlu 17, jehož výstup je připojen k první odbočce 71 vinutí (>·
Funkce zpoždovací linky podle vynálezu je následující:
Signál je veden do vstupu 19 zpoždovací linky přes hybridní hradlo 17 k jednotlivým odbočkám T_ vinutí b. Vlastnosti zpoždovací linky jsou ovlivněny parametry vinutí b, kapacitou a indukčnosti vedení, parametry jádra 2, izolační krycí hmoty a hybridního hradla 17.
Zpoždovací linky podle vynálezu lze používat ve všech zařízeních číslicové a testovací techniky, v nichž je požadováno oddělení a nastavení impulsů a definovanou časovou prodlevou.
Claims (9)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZU1. Zpoždovací linka vyznačující se tím, že je složena z nejméně jedné základní části (1), která je složena z nejméně jednoho jádra (2), ovinutého vinutím (6) s odbočkami (7) pro nastavení hodnoty zpoždění, které jsou připojeny k elektricky vodivým ploškám (8).
- 2. Zpoždovací linka podle bodu 1, vyznačující se tím, že jádro (2) je.složeno z nejméně jedné elekticky vodivé vrstvy (4), z nejméně jedné izolační vrstvy (3) a z nejméně jedné vrstvy elektricky vodivých plošek (8).
- 3. Zpoždovací linka podle bodu 1, vyznačující se tím, že jádro (2) je složeno ze dvou dielektrických izolačních vrstev (3), mezi nimiž jsou elektricky vodivé vrstvy (4), mezi nimiž je substrát (5).
- 4. Zpoždovací linka podle bodů 1 až 3, vyznačující se tím, že z elektricky vodivých plošek (8), z izolačních vrstev (3) a z elektricky vodivých vrstev (4) jsou utvořeny kondenzátory.
- 5. Zpoždovací linka podle bodů 1 až 4, vyznačující se tím,že základní část (1) je pokryta izolační krycí hmotou.
- 6. Zpoždovací linka podle bodů 1 až 5, vyznačující se tím,že izolační krycí hmota je adhezívní.
- 7. Zpoždovací linka podle bodů 1 až 5, vyznačující se tím,že izolační krycí hmota je z dielektrického materiálu.
- 8. Zpoždovací linka podle bodu 1, vyznačující se tím, že vstup (19) zpoždovací linky je připojen k hybridnímu hradlu (17), jehož výstup je připojen k první odbočce (71) vinutí (6)
- 9. Zpoždovací linka podle bodu 1, vyznačující se tím, že izolační vrstvy (3) jsou z dielektrického materiálu.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS861116A CS265151B1 (cs) | 1985-10-31 | 1986-02-18 | Zpožďovací linka |
| BG7829887A BG48197A1 (en) | 1986-02-18 | 1987-02-02 | Delaying line |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS780685 | 1985-10-31 | ||
| CS861116A CS265151B1 (cs) | 1985-10-31 | 1986-02-18 | Zpožďovací linka |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS111686A1 CS111686A1 (en) | 1988-12-15 |
| CS265151B1 true CS265151B1 (cs) | 1989-10-13 |
Family
ID=5427859
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS861116A CS265151B1 (cs) | 1985-10-31 | 1986-02-18 | Zpožďovací linka |
| CS862018A CS266505B1 (cs) | 1985-10-31 | 1986-03-21 | Symetrická zpožďovací linka |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS862018A CS266505B1 (cs) | 1985-10-31 | 1986-03-21 | Symetrická zpožďovací linka |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (2) | CS265151B1 (cs) |
-
1986
- 1986-02-18 CS CS861116A patent/CS265151B1/cs unknown
- 1986-03-21 CS CS862018A patent/CS266505B1/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS266505B1 (cs) | 1990-01-12 |
| CS201886A1 (en) | 1989-05-12 |
| CS111686A1 (en) | 1988-12-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4547961A (en) | Method of manufacture of miniaturized transformer | |
| US3614554A (en) | Miniaturized thin film inductors for use in integrated circuits | |
| US4103267A (en) | Hybrid transformer device | |
| US2608610A (en) | Transformer | |
| US2619537A (en) | High-frequency delay device | |
| JP2005509300A (ja) | 集積されたバランおよび変成器構造 | |
| CA1177127A (en) | Miniaturized transformer construction | |
| US3590480A (en) | Method of manufacturing a pulse transformer package | |
| US2178653A (en) | Building-out unit | |
| US3238484A (en) | D-cores with associated windings for producing high q | |
| RU2753347C2 (ru) | Разделительный трансформатор | |
| US3731237A (en) | Broadband transformers | |
| US3543194A (en) | Electromagnetic delay line having superimposed elements | |
| CS265151B1 (cs) | Zpožďovací linka | |
| US6159817A (en) | Multi-tap thin film inductor | |
| JPS5848410A (ja) | チップ型インダクタの製造方法 | |
| DE102013113861A1 (de) | Galvanische Trennvorrichtung für Prozessmessgeräte | |
| US4507628A (en) | Delay line | |
| JPS6229115A (ja) | 平面型線輪体 | |
| JPS6126302A (ja) | 電力分配器 | |
| JPS643334B2 (cs) | ||
| CN218735131U (zh) | 用于隔离信号传输的互感器件及信号传输电路 | |
| JPS5768055A (en) | Semiconductor device | |
| SU805431A1 (ru) | Трансформатор | |
| US2931000A (en) | High precision electrical resistor device with minimized inductance |