CS265107B1 - Zařízení pro leptání velmi tenkých křemíkových destiček - Google Patents

Zařízení pro leptání velmi tenkých křemíkových destiček Download PDF

Info

Publication number
CS265107B1
CS265107B1 CS865714A CS571486A CS265107B1 CS 265107 B1 CS265107 B1 CS 265107B1 CS 865714 A CS865714 A CS 865714A CS 571486 A CS571486 A CS 571486A CS 265107 B1 CS265107 B1 CS 265107B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
etching
silicon wafers
rotating drum
thin silicon
equipment
Prior art date
Application number
CS865714A
Other languages
English (en)
Other versions
CS571486A1 (en
Inventor
Dusan Ing Srnka
Jirina Ing Ptackova
Rimma Prom Chem Svobodova
Original Assignee
Dusan Ing Srnka
Jirina Ing Ptackova
Rimma Prom Chem Svobodova
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dusan Ing Srnka, Jirina Ing Ptackova, Rimma Prom Chem Svobodova filed Critical Dusan Ing Srnka
Priority to CS865714A priority Critical patent/CS265107B1/cs
Publication of CS571486A1 publication Critical patent/CS571486A1/cs
Publication of CS265107B1 publication Critical patent/CS265107B1/cs

Links

Landscapes

  • Weting (AREA)

Abstract

Zařízení zajištuje současné oboustranné chemické leptání křemíkových destiček, tvořících základní komponenty pro výrobu polovodičových průletových detektorů.Leptací zařízení je tvořeno rotačním bubnem, v jehož čelních stěnách je přívod a odvod leptacího a promývacího roztoku. Podél vnitřního povrchu obvodového pláště rotačního bubnu je vytvořena nejméně jedna drážka, v níž je uloženo nejméně jedno kruhové pouzdro s oboustranným otvorem pro vymezení leptaných ploch křemíkové destičky.

Description

Vynález se týká zařízení pro leptání velmi malých křemíkových destiček, pužívaných pro výrobu polovodičových průletových detektorů.
Jedním ze známých způsobů leptání je jednostranné leptání, kde se kyselinovzdorným tmelem zamaskují okraje jedné strany a celá druhá strana křemíkové destičky. Takto upravená destička se vloží do nádoby s kyselinou a leptá se řádově desítky minut. Aby křemíková destička byla odleptána rovnoměrně, je nutné leptaci lázeň míchat. Míchání se provádí ručně, čož je namáhavé a časově náročné. Stejným způsobem se odleptá i druhá strana křemíkové destičky Při současném leptání obou stran křemíkové destičky se docílí uspokojivého odleptání pouze na její horní straně. Spodní strana je v důsledku špatného přístupu kyseliny odleptána nepravidelně, což často vede k jejímu znehodnocení.
Jiný způsob využívá k míchání leptaci lázně elektrického pohonu, spojeného s leptaci nádobou. Ta se otáčí kolem své osy a tak je zajištěno potřebné promývání křemíkových destiček, které jsou v leptaci nádobě upevněny na teflonové podložce. Nedostatkem je zde odleptání křemíkové dětičky po celé ploše, tj, i na jejích krajích. Manipulace s těmito destičkami je pak velmi obtížná a často dochází k jejich mechanickému poškození.
Leptáním tenkých polovodičových destiček se zabývá také US Patent 4 251 317. Zařízení pode tohoto patentu je tvořeno nádrží naplněnou leptacím roztokem, v němž je na pevných ramenech upevněna kazeta. V ní jsou pak vedle sebe uloženy leptavé polovodičové plátky. Otáčení kazety je řešeno řetězovým pohonem z vnějšího elektrického motoru. Míchání leptacího roztoku se provádí dusíkem, vháněným do roztoku. Nedostatky tohoto uspořádání lze spatřovat především v tom, že řetězový pohon je ponořen do leptaci lázně, což omezuje jeho životnost a klade zvýšené nároky na volbu použitého materiálu. Konstrukce kazety a způsob míchání nezajištuje rovnoměrné odleptání obou stran destiček a to jak v kvalitě tak i v rychlosti leptání. Konstrukční řešení je relativně složité.
Výše uvedené nedostatky odstraňuje zařízení pro leptání velmi tenkých křemíkových destiček podle vynálezu. Je tvořeno rotačním bubnem, v jehož čelních stěnách je upraven přívod a odvod leptacího a promývacího roztoku. Podél vnitřního povrchu obvodového pláště rotačního bubnu je vytvořena nejméně jedna drážka, v níž je uloženo nejméně jedno kruhové pouzdro s oboustranným otvorem pro vymezení leptaných ploch křemíkové destičky.
Zařízení podle vynálezu zajištuje optimální režim leptání, kterého je dosaženo dokonalým mícháním leptacího roztoku v průběhu leptání. Křemíkové destičky jsou leptány rovnoměrně po obou stranách. Výraznou výhodou je úplné oddělení pohonu od leptaci lázně. Zařízení je velmi jednoduché.
Zařízení podle vynálezu je znázorněno na přiloženém výkresu, kde na obr. 1 je nakreslen boční pohled a na obr. 2 řez A-A.
Je tvořeno rotačním bubnem 2' který je uložen na hnacích kladkách 2. V čelních stěnách rotačního bubnu 2 je vytvořen přívod 2 a odvod 2 leptacího \ promyvacího roztoku 5_. Na vnitřním povrchu obvodového pláště rotačního bubnu 2 je vytvořena drážka 6 pro uložení kruhového pouzdra 7 s oboustranným otvorem pro vymezení leptaných ploch křemíkové destičky 2· Přívod 2 a odvod 4. jsou vytvořeny v protilehlých čelech v ose rotačního bubnu 1, přičemž průměr přívodu 2 íe raen ší nežli průměr odvodu 2·
Při otáčení rotačního bubnu 2 se kruhová pouzdra 2 s oboustranným otvorem, uložená v drážce 2 a ponořená v leptacím a promývacím roztoku 2 odvalují po vnitřním povrchu jeho obvodového pláště. Tím je dosaženo rovnoměrného omývání křemíkových destiček 2* Po obvodu rotačního bubnu 2 může být vytvořeno více souběžných drážek 6· V těchto drážkách 6 pak mohou být uložena kruhová pouzdra 2 vedle sebe i za sebou.

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT VYNALEZU
    Zařízení pro leptání velmi tenkých křemíkových destiček pro polovodičové průletové detekto ry, tvořené nejméně jedním kruhovým pouzdrem a rotačním bubnem, který je naplněný leptacím a promývacím roztokem a opatřený pohonem, vyznačující se tím, že v čelních stěnách rotačního bubnu (1) je přívod (3) a odvod (4) leptacího a promývacího roztoku (5), přičemž podél vnitřního povrchu obvodového pláště rotačního bubnu (1) je vytvořena nejméně jedna drážka (6), v níž je uloženo nejméně jedno kruhové pouzdro (7) s oboustranným otvorem pro vymezení leptaných ploch křemíkové destičky (8) .
CS865714A 1986-07-29 1986-07-29 Zařízení pro leptání velmi tenkých křemíkových destiček CS265107B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS865714A CS265107B1 (cs) 1986-07-29 1986-07-29 Zařízení pro leptání velmi tenkých křemíkových destiček

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS865714A CS265107B1 (cs) 1986-07-29 1986-07-29 Zařízení pro leptání velmi tenkých křemíkových destiček

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS571486A1 CS571486A1 (en) 1989-01-12
CS265107B1 true CS265107B1 (cs) 1989-10-13

Family

ID=5402531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS865714A CS265107B1 (cs) 1986-07-29 1986-07-29 Zařízení pro leptání velmi tenkých křemíkových destiček

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS265107B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS571486A1 (en) 1989-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5672212A (en) Rotational megasonic cleaner/etcher for wafers
EP0420958B1 (en) Gas etching of wafers to remove oxide layers
US4300581A (en) Centrifugal wafer processor
US6660104B2 (en) Dual cassette centrifugal processor
EP0137947B1 (en) Spin dryer
JPH08130202A (ja) 回転式半導体基板処理装置
CS265107B1 (cs) Zařízení pro leptání velmi tenkých křemíkových destiček
KR100401376B1 (ko) 도금 장치, 도금 설비 및 이것을 이용한 도금 처리 방법
JPH088222A (ja) スピンプロセッサ
KR100408114B1 (ko) 기판처리장치
JP3035450B2 (ja) 基板の洗浄処理方法
JPS61212014A (ja) 化学的気相成長法による半導体ウエハ処理装置
KR20200077119A (ko) 기판 세정 장치
KR100618868B1 (ko) 스핀 장치
KR102648039B1 (ko) 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
JP4000341B2 (ja) 半導体基板のメッキ方法およびメッキ装置
KR102535798B1 (ko) 기판 세정 장치
JP2000228388A (ja) 半導体製造装置
JPH0155573B2 (cs)
JP2001303295A (ja) メッキ装置
KR19990020234U (ko) 반도체 웨이퍼 세정장치
KR200168500Y1 (ko) 반도체 웨이퍼 식각장치
JPH10144643A (ja) ウェハー洗浄装置及び方法
SU1294879A1 (ru) Барабан дл жидкостной обработки мелких изделий
JPS61112320A (ja) 半導体基板現像処理装置