CS262041B1 - Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze - Google Patents
Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze Download PDFInfo
- Publication number
- CS262041B1 CS262041B1 CS486887A CS486887A CS262041B1 CS 262041 B1 CS262041 B1 CS 262041B1 CS 486887 A CS486887 A CS 486887A CS 486887 A CS486887 A CS 486887A CS 262041 B1 CS262041 B1 CS 262041B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- methyl
- silacyclobutane
- polymer
- organosilicon polymer
- laser
- Prior art date
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
Způsob depozice organokřemičitého polymeru na pevná povrchy z plynné fáze spocíva.líoj v tom, že depozice polymeru se uskutečňuje v důsledku rozkladu 1-metyl- -1-silacyklobutanu iniciovaného zářením kontinuálního CO? laseru v přítomnosti fluoridu sírového jako senzibilizátoru. Způsob je významný především tím, že umožňuje provádět tepelně iniciovanou polymerizaci v plynné fázi ve studených reakčních nádobách a že může být využit pro přípravu tenkých vrstev na površích z tepelná nestabilních materiálů, při přípravě komponent pro mikroelektroniku a pro přípravu membrán pro separační procesy.
Description
Vynález se týká nanášeni organokřemičitého polymeru laserem indukovaným rozkladem 1-metyl-l-silaoyklobutanu z plynné fáze.
Je známo, že tenké (C,l až 1yum) vrstvy polymerů mohou sloužit při přípravě mikroelektronických komponent a nacházejí též velmi široké uplatnění v membránových separačních procesech (Chem. Eng. 5» 329 (1982); Chem. Eng. Erocess 1986, 23; Chem. Eng. 1984, 64; J. Membrane 3ci. 8, 233 (1981)).
Dosavadní, tradiční techniky přípravy tenkých vrstev polymerů spočívají v provedení polymerizačních reakcí v tenké vrstvě kapalného monomeru. Pro iniciaci těchto polymerizací se používá katalyzátorů, tepelné energie nebo UV či J**-záření.
Potenciálním zdrojem inertních polymerů jsou i silacykloalkany. Z nich byly dosud nejvíce studovány silacyklobutany, které účinkém tepla a UV záření podléhají primárnímu rozkladu na etylen a silaetylen (Chem. Rev. 79» 524, 1979; Crganometallics 3,
918, 1984) a následné di-, oligo- či polymerizací silaetylenů (J. Crganometal. Chem. 201, 363 (1980); J. Am. Chem. 3oc. 97,
1957 (1975); J· Fhys. Chem. 82» 1203 (1978)). Bolymerizační reakce probíhají i při rozkladu silacyklo’butanů iniciovaném zářeniWz i.č. laserů (J. Chem. 80c., Chem. Commun. 1981, 915). V dosud uvedených případech však představují minoritní reakci silaetylenů, které podléhají převážně .cyklodimerizaci· Vysoké konverze na polymer bylo dosaženo pouze v případě tepelného rozkladu silacyklobutanu (J. Am. Chem. coc. 97»· 1957 (1975))· Během tepelně iniciovaných rozkladů však dochází k nanášení polymeru na horký povrch reaktoru.
Způsob přípravy tenkýoh vrstev organokřemičitého polymeru podle vynálezu využívá skutečnosti, že tepelný rozklad l-metyl-l-silacyklobutanu indukovaný kontinuálním CC2 laserem v přítomnosti senzibilizátoru (SFg) probíhá při vhodné intenzitě zářeni a vhodných koncentracích výše uvedených sloučenin výhradně podle
- 2 rovnioe
282 041
C02 laser > C2H4 + polymer a pevný polymer se přitom deponuje na studené stěny reakční nádoby.
Typický laser poskytující uspokojivé výsledky je kontinuální COg-Ng-He laser o výkonu vyšším než 5 W pracující na vlnové délce 9»Š aŽ 10,8 Jva, jehož záření je fokusováno. 1-Metyl-l-silacyklobutan lze ozařovat ve vhodné kovové nebo skleněné nádobě/ opatřené vstupním okénkem z materiálu propouštějícího zářeni (NaCl, KBr, Ge a pod.).
Pevný bílý polymer vznikající tímto laserem indukovaným rozkladem 1-metyl-l-silacyklobutanu je inertní vůči organickým rozpouštědlům a nerozpoušti se v nich. Je též stabilní na vzduchu.
Ve vakuu se nerozkládá do teploty přinejmenším 50C°C. Jeho infračervená spektra (absorpční pásy 2900 až 2950 , 2100, 1240, 1020 a 820 cnTl) nasvědčují, že obsah^ěí-CH^, 3i-CH2-3i a si—H uskupení, struktura polymeru je určována přednostně probíhající isomerizací
CHx-3i=CHo 5 I £
H > CH,-Si-CH,
Obě tyto species byly dokázány záchytem 1,3-butadienem jako 1,1-dimetyl-l-silacyklopenteny a l-metyl-l-silacyklohexen-(jj) hmotnostní spektroskopií.
Uvedený způsob přípravy organokřemičitého polymeru umožňuje depo8ici polymeru na studené povrchy a je významný především tím, že může najít uplatnění při přípravě komponent pro mikroelektroniku a při přípravě membrán (zvláště asymetrických) pro separační procesy.
Příklad 1
Nádoba válcového tvaru o délce 10 cm a vnitřním průměru 4 cm, opatřená dvěma NaCl okénky propustnými pro záření C02 laseru a ventilem, je napuštěna směsí 1-metyl-l-silacyklobutanu (2,671^) a fluoridu sírového (0,(7^¾) a ozářená fokusovaným laserovým svazkem (linie P(20) 10,6 #um přechodu) po dobu 2 minut. Po několikanásobném opakování tohoto postupu lze pozorovat deposici polymeru na stěnách reaktoru, přičemž tloušňku jeho vrstvy lze odhadnout po jediném ozáření na 0,7 ^um.
- 3 Příklad 2 282 041
Do reaktoru uvedeném v příkladu 1 bylo umístěno 5 kovových □ povrchů (1 cm). Za podmínek uvedených v příkladu 1 dochází k de· posici polymeru na těchto površích.
Claims (1)
- Způsob nanášení organokřemičitého polymeru laserem indukovaným rozkladem 1-metyl-l-silacyklobutanu z plynné fázejvyznačený tím, že se polymer vytváří rozkladem 1-metyl-1-silacyklobutanu iniciovaným zářením kontinuálního CC^ laseru v přítomnosti fluoridu sírového jako senzibilátoru.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS486887A CS262041B1 (cs) | 1987-06-29 | 1987-06-29 | Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS486887A CS262041B1 (cs) | 1987-06-29 | 1987-06-29 | Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS262041B1 true CS262041B1 (cs) | 1989-02-10 |
Family
ID=5392383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS486887A CS262041B1 (cs) | 1987-06-29 | 1987-06-29 | Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS262041B1 (cs) |
-
1987
- 1987-06-29 CS CS486887A patent/CS262041B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Okoshi et al. | Photochemical modification of polytetrafluoroethylene into oleophilic property using an ArF excimer laser | |
| EP0233755A2 (en) | Ultraviolet laser treating of molded surfaces | |
| US5096739A (en) | Ultrafine fiber composites and method of making the same | |
| Mohr et al. | Surface fluorination of composite membranes. Part II. Characterization of the fluorinated layer | |
| CS262041B1 (cs) | Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze | |
| Kravets et al. | Formation of hydrophobic and superhydrophobic coatings on track-etched membrane surfaces to create composite membranes for water desalination | |
| Inayoshi et al. | Formation of polytetrafluoroethylene thin films by using CO2 laser evaporation and XeCl laser ablation | |
| Pellegrino et al. | Polymeric platform for the growth of chemically anchored ZnO nanostructures by ALD | |
| Williams et al. | Formation of thin polymer films in a glow discharge | |
| Blanchet et al. | Thin‐film fabrication by laser ablation of addition polymers | |
| Gumpenberger et al. | Modification of expanded polytetrafluoroethylene by UV irradiation in reactive and inert atmosphere | |
| EP0054189A1 (en) | Improved photochemical vapor deposition method | |
| Katoh et al. | Synchrotron radiation direct photo-etching of polymers and crystals for micromachining | |
| Muraoka et al. | Sulfonation of UHMW-PE fibers for adhesion promotion in epoxy polymers | |
| Kravets et al. | Deposition of hydrophobic polymer coatings on the surface of track-etched membranes from an active gas phase | |
| Christensen et al. | Far infrared spectra and thermodynamic functions of some halogeno cyanoacetylenes and monohalogeno diacetylenes | |
| Niino et al. | Surface reaction of organic materials by laser ablation of matrix-isolated photoreactive aromatic azido compound | |
| EP0216664B1 (fr) | Procédé de préparation de décafluorure de soufre et d'hexafluorure de soufre | |
| US4270997A (en) | Laser photochemical synthesis of Si3 N4 | |
| JP3194010B2 (ja) | 高反応性活性種が表面に固定されている改質された固体表面 | |
| Murthy et al. | Molecular packing in alkylated and chlorinated poly-p-xylylenes | |
| JPS5852473A (ja) | 金属材料の表面処理法 | |
| JP4085158B2 (ja) | 光照射による基材表面処理方法及びその装置 | |
| RU2048607C1 (ru) | Способ нанесения защитных покрытий | |
| Kravets et al. | Formation of Hydrophobic Coatings on the Surface of Track-Etched Membranes Using Magnetron Sputtering of Polymers in Vacuum |