CS262041B1 - Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze - Google Patents

Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze Download PDF

Info

Publication number
CS262041B1
CS262041B1 CS486887A CS486887A CS262041B1 CS 262041 B1 CS262041 B1 CS 262041B1 CS 486887 A CS486887 A CS 486887A CS 486887 A CS486887 A CS 486887A CS 262041 B1 CS262041 B1 CS 262041B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
methyl
silacyclobutane
polymer
organosilicon polymer
laser
Prior art date
Application number
CS486887A
Other languages
English (en)
Inventor
Josef Rndr Csc Pola
Vaclav Dr Ing Drsc Chvalovsky
Elvira A Ing Csc Volnina
Leonid E Drsc Guselnikov
Original Assignee
Pola Josef
Chvalovsky Vaclav
Elvira A Ing Csc Volnina
Leonid E Drsc Guselnikov
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pola Josef, Chvalovsky Vaclav, Elvira A Ing Csc Volnina, Leonid E Drsc Guselnikov filed Critical Pola Josef
Priority to CS486887A priority Critical patent/CS262041B1/cs
Publication of CS262041B1 publication Critical patent/CS262041B1/cs

Links

Landscapes

  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

Způsob depozice organokřemičitého polymeru na pevná povrchy z plynné fáze spocíva.líoj v tom, že depozice polymeru se uskutečňuje v důsledku rozkladu 1-metyl- -1-silacyklobutanu iniciovaného zářením kontinuálního CO? laseru v přítomnosti fluoridu sírového jako senzibilizátoru. Způsob je významný především tím, že umožňuje provádět tepelně iniciovanou polymerizaci v plynné fázi ve studených reakčních nádobách a že může být využit pro přípravu tenkých vrstev na površích z tepelná nestabilních materiálů, při přípravě komponent pro mikroelektroniku a pro přípravu membrán pro separační procesy.

Description

Vynález se týká nanášeni organokřemičitého polymeru laserem indukovaným rozkladem 1-metyl-l-silaoyklobutanu z plynné fáze.
Je známo, že tenké (C,l až 1yum) vrstvy polymerů mohou sloužit při přípravě mikroelektronických komponent a nacházejí též velmi široké uplatnění v membránových separačních procesech (Chem. Eng. 5» 329 (1982); Chem. Eng. Erocess 1986, 23; Chem. Eng. 1984, 64; J. Membrane 3ci. 8, 233 (1981)).
Dosavadní, tradiční techniky přípravy tenkých vrstev polymerů spočívají v provedení polymerizačních reakcí v tenké vrstvě kapalného monomeru. Pro iniciaci těchto polymerizací se používá katalyzátorů, tepelné energie nebo UV či J**-záření.
Potenciálním zdrojem inertních polymerů jsou i silacykloalkany. Z nich byly dosud nejvíce studovány silacyklobutany, které účinkém tepla a UV záření podléhají primárnímu rozkladu na etylen a silaetylen (Chem. Rev. 79» 524, 1979; Crganometallics 3,
918, 1984) a následné di-, oligo- či polymerizací silaetylenů (J. Crganometal. Chem. 201, 363 (1980); J. Am. Chem. 3oc. 97,
1957 (1975); J· Fhys. Chem. 82» 1203 (1978)). Bolymerizační reakce probíhají i při rozkladu silacyklo’butanů iniciovaném zářeniWz i.č. laserů (J. Chem. 80c., Chem. Commun. 1981, 915). V dosud uvedených případech však představují minoritní reakci silaetylenů, které podléhají převážně .cyklodimerizaci· Vysoké konverze na polymer bylo dosaženo pouze v případě tepelného rozkladu silacyklobutanu (J. Am. Chem. coc. 97»· 1957 (1975))· Během tepelně iniciovaných rozkladů však dochází k nanášení polymeru na horký povrch reaktoru.
Způsob přípravy tenkýoh vrstev organokřemičitého polymeru podle vynálezu využívá skutečnosti, že tepelný rozklad l-metyl-l-silacyklobutanu indukovaný kontinuálním CC2 laserem v přítomnosti senzibilizátoru (SFg) probíhá při vhodné intenzitě zářeni a vhodných koncentracích výše uvedených sloučenin výhradně podle
- 2 rovnioe
282 041
C02 laser > C2H4 + polymer a pevný polymer se přitom deponuje na studené stěny reakční nádoby.
Typický laser poskytující uspokojivé výsledky je kontinuální COg-Ng-He laser o výkonu vyšším než 5 W pracující na vlnové délce 9»Š aŽ 10,8 Jva, jehož záření je fokusováno. 1-Metyl-l-silacyklobutan lze ozařovat ve vhodné kovové nebo skleněné nádobě/ opatřené vstupním okénkem z materiálu propouštějícího zářeni (NaCl, KBr, Ge a pod.).
Pevný bílý polymer vznikající tímto laserem indukovaným rozkladem 1-metyl-l-silacyklobutanu je inertní vůči organickým rozpouštědlům a nerozpoušti se v nich. Je též stabilní na vzduchu.
Ve vakuu se nerozkládá do teploty přinejmenším 50C°C. Jeho infračervená spektra (absorpční pásy 2900 až 2950 , 2100, 1240, 1020 a 820 cnTl) nasvědčují, že obsah^ěí-CH^, 3i-CH2-3i a si—H uskupení, struktura polymeru je určována přednostně probíhající isomerizací
CHx-3i=CHo 5 I £
H > CH,-Si-CH,
Obě tyto species byly dokázány záchytem 1,3-butadienem jako 1,1-dimetyl-l-silacyklopenteny a l-metyl-l-silacyklohexen-(jj) hmotnostní spektroskopií.
Uvedený způsob přípravy organokřemičitého polymeru umožňuje depo8ici polymeru na studené povrchy a je významný především tím, že může najít uplatnění při přípravě komponent pro mikroelektroniku a při přípravě membrán (zvláště asymetrických) pro separační procesy.
Příklad 1
Nádoba válcového tvaru o délce 10 cm a vnitřním průměru 4 cm, opatřená dvěma NaCl okénky propustnými pro záření C02 laseru a ventilem, je napuštěna směsí 1-metyl-l-silacyklobutanu (2,671^) a fluoridu sírového (0,(7^¾) a ozářená fokusovaným laserovým svazkem (linie P(20) 10,6 #um přechodu) po dobu 2 minut. Po několikanásobném opakování tohoto postupu lze pozorovat deposici polymeru na stěnách reaktoru, přičemž tloušňku jeho vrstvy lze odhadnout po jediném ozáření na 0,7 ^um.
- 3 Příklad 2 282 041
Do reaktoru uvedeném v příkladu 1 bylo umístěno 5 kovových □ povrchů (1 cm). Za podmínek uvedených v příkladu 1 dochází k de· posici polymeru na těchto površích.

Claims (1)

  1. Způsob nanášení organokřemičitého polymeru laserem indukovaným rozkladem 1-metyl-l-silacyklobutanu z plynné fázejvyznačený tím, že se polymer vytváří rozkladem 1-metyl-1-silacyklobutanu iniciovaným zářením kontinuálního CC^ laseru v přítomnosti fluoridu sírového jako senzibilátoru.
CS486887A 1987-06-29 1987-06-29 Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze CS262041B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS486887A CS262041B1 (cs) 1987-06-29 1987-06-29 Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS486887A CS262041B1 (cs) 1987-06-29 1987-06-29 Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS262041B1 true CS262041B1 (cs) 1989-02-10

Family

ID=5392383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS486887A CS262041B1 (cs) 1987-06-29 1987-06-29 Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS262041B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Okoshi et al. Photochemical modification of polytetrafluoroethylene into oleophilic property using an ArF excimer laser
EP0233755A2 (en) Ultraviolet laser treating of molded surfaces
US5096739A (en) Ultrafine fiber composites and method of making the same
Mohr et al. Surface fluorination of composite membranes. Part II. Characterization of the fluorinated layer
CS262041B1 (cs) Způsob nanášení organokřemičitého polymer’.! l?.rer»m indukovaným rozkladem, l-metyl-l-silacyklobutanu z plynn* fáze
Kravets et al. Formation of hydrophobic and superhydrophobic coatings on track-etched membrane surfaces to create composite membranes for water desalination
Inayoshi et al. Formation of polytetrafluoroethylene thin films by using CO2 laser evaporation and XeCl laser ablation
Pellegrino et al. Polymeric platform for the growth of chemically anchored ZnO nanostructures by ALD
Williams et al. Formation of thin polymer films in a glow discharge
Blanchet et al. Thin‐film fabrication by laser ablation of addition polymers
Gumpenberger et al. Modification of expanded polytetrafluoroethylene by UV irradiation in reactive and inert atmosphere
EP0054189A1 (en) Improved photochemical vapor deposition method
Katoh et al. Synchrotron radiation direct photo-etching of polymers and crystals for micromachining
Muraoka et al. Sulfonation of UHMW-PE fibers for adhesion promotion in epoxy polymers
Kravets et al. Deposition of hydrophobic polymer coatings on the surface of track-etched membranes from an active gas phase
Christensen et al. Far infrared spectra and thermodynamic functions of some halogeno cyanoacetylenes and monohalogeno diacetylenes
Niino et al. Surface reaction of organic materials by laser ablation of matrix-isolated photoreactive aromatic azido compound
EP0216664B1 (fr) Procédé de préparation de décafluorure de soufre et d'hexafluorure de soufre
US4270997A (en) Laser photochemical synthesis of Si3 N4
JP3194010B2 (ja) 高反応性活性種が表面に固定されている改質された固体表面
Murthy et al. Molecular packing in alkylated and chlorinated poly-p-xylylenes
JPS5852473A (ja) 金属材料の表面処理法
JP4085158B2 (ja) 光照射による基材表面処理方法及びその装置
RU2048607C1 (ru) Способ нанесения защитных покрытий
Kravets et al. Formation of Hydrophobic Coatings on the Surface of Track-Etched Membranes Using Magnetron Sputtering of Polymers in Vacuum