CS258735B1 - Zariadenie na bezdotyková kontrolu elektrografických vrstiev - Google Patents

Description

Predmetom vynálezu jo zariadenie na bezdotykoví! kontrolu elektrografických vrstiev. V, elektrografických vrstvách, deponovaných na hliníkových válcových podložkách sa možu vplyvom nedokonalej povrchovej úpravy hliníkovej valcovej podložky, alebo vplyvom nedodržania pracovného postupu pri deponovaní elektrografickej vrstvy vyskytnúť lokálně poruchy. Pri elektrografickom prenosovom kopírovaní sa p:tom v miestach týchto porúch odvádza povrchový elektrostatický náboj cez elektrografická vrstvu do podložky a obraz sa v týchto miestach nevyvolá. Výsledkom je nekvalitná kópia. V súčasnosti nie je k dispozícii žiadne zariadenie na vyhodnocovanie uvedených lokálnych porúch elektrografických vrstiev. Poruchy možno nájsť tak, že sa na kontrolovanom elektrografickém válci zhotoví tmavá kópia priamo v kopírovacom přístroji a poruchy sa zcbrazia ako nevyvolané wiesta na tmavom pozadí kopie. Nevýhodou tohoto sposobu kontroly je vel'ká spotřeba elektrografického pigmentu a potrebovanie elektrografickej vrstvy počas zbotovovania kontrolných kopií. Uvedené nedostatky odstraňuje zariadenie podfa tohoto vynálezu, ktoré sa skládá-z He—Ne laseru (vlnovej dížky 0,6328 mikrometre), spojnej šošovky, rotačného a posuvného mechanizmu kontrolovaného valca, ďalšej spojnej šošovky, fototranzistora a vyhodnocovacej časti.

Podstata vynálezu spočívá v tom, že rotačnému a posuvnému mechanizmu s kontrolovaným valcom je predradený He—Ne laser o vlnovej dížke 0,6328 mikrometra a 35 4 spojná šošovka a za rotačným a posuvným mechanizmom s kontrolovaným valcom je zaradená spojná šošovka, fotoranzistor a vyhodnocovacia časť.

Množstvo odrazeného světla od povrchu elektrografickej vrstvy závisí od kvality tejto vrstvy. V miestach porúch dochádza k zvýšeniu absorpcie a rozptylu světelného lúča, čím poklesne množstvo světla, dopadajúceho na aktívnu plochu fototranzlstora a dochádza k zmene velkosti výstupného signálu fototranzlstora.

Pomocou zariadenia podfa tohoto vynálezu možno elektrografické válce kontrolovat bezdotykovo, takže nedochádza k opotrebovaniu ani poškodeniu kontrolovanej elektrografickej vrstvy.

Bloková schéma kontrolného zariadenia je na pripojenom obrázku.

Světelný lúč 8 vychádza z He—Ne lasera 1 a po fokusácii spojnou šošovkou 2 dopadá na povrch elektrografickej vrstvy kontrolovaného valca 4 uloženého v rotačnom a posuvnom mechanizme 3. Odrazený světelný lúč 9, fokusovaný spojnou šošovkou S dopadá na aktívnu plochu fototranzlstora B. Velkost výstupného signálu fototranzlstora B závisí od množstva světla, odrazeného od povrchu elektrografickej vrstvy 4 a tým teda od jej kvality. Výstupný signál fototranzistora 6 vchádza do vyhodnocovacej časti 7.

Uvedené zariadenie možno využiť pri kontrole kvality elektrografických vrstiev, nanesených na hliníkových válcových podložkách.

Claims (1)

1. PREDMET Zariadenie na bezdotykovú kontrolu elektrografických vrstiev, skladajúce sa z He—Ne lasera (vlnová dížka 0,6328 mikrometra), spo jene j šošovky, rotačného a posuvného mechanizmu kontrolovaného valca, ďalšej spojnej šošovky, fototranzlstora a vyhodnocovacej časti, vyznačuje sa tým, že rotačnému a posuvnému mechanizmu (3) VYNÁLEZU s kontrolovaným valcom (4) je predradený He—Ne laser (1) o vlnovej dížke 0,6328 mikrometra a spojná šošovka (2) a za rotačným a posuvným mechanizmom (3) s kontrolovaným valcom (4) je zaradená spojná šošovka (5), fototranzlstora (6) a vyhodnocovacia časť (7). 1 list výkresov 258735

   λ