CS240582B1 - Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition - Google Patents

Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition Download PDF

Info

Publication number
CS240582B1
CS240582B1 CS84902A CS90284A CS240582B1 CS 240582 B1 CS240582 B1 CS 240582B1 CS 84902 A CS84902 A CS 84902A CS 90284 A CS90284 A CS 90284A CS 240582 B1 CS240582 B1 CS 240582B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
nickel
concentration
water
per
phosphorus alloy
Prior art date
Application number
CS84902A
Other languages
English (en)
Other versions
CS90284A1 (en
Inventor
Vladimir Holpuch
Ilja Nykl
Original Assignee
Vladimir Holpuch
Ilja Nykl
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vladimir Holpuch, Ilja Nykl filed Critical Vladimir Holpuch
Priority to CS84902A priority Critical patent/CS240582B1/cs
Priority to DE19853504186 priority patent/DE3504186A1/de
Publication of CS90284A1 publication Critical patent/CS90284A1/cs
Publication of CS240582B1 publication Critical patent/CS240582B1/cs

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/562Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)

Description

Lázeň sestává z fluoroboritanu nikelnatého v koncentraci 100 až 600 g na '1 000 ml vody, kyseliny borité v koncentraci 10 až 50 g na 1 000 ml vody a fosfornanu nikelnatého, sodného nebo amonného, případně kyseliny fosfrité v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 mi vody. Pro odstranění vodíkového pittingu je použit přídavek smáčedla v koncentraci 0,01 až 1 g na 1000 ml vody.
Vynález se týká složení elektrolytické vodní lázně pro· vylučování slitiny nikl — fosfor.
Elektrolyticky vylučované povlaky nikl — fosfor mají podstatně vyšší mikrotvrdost než mají ostatní vylučované slitiny niklu. Používají se případech, kdy jsou na vyloučený kovový povlak kladeny velké nároky z hlediska otěru a kluzných vlastností. Elektrolyticky vyloučené povlaky slitiny nikl — fosfor mají po tepelném zpracování zvýšenou mikrotvrdost až o 50 % a jejich kvalita se vyrovná povrchům z · tvrdého chrómu.
Dosud používané a v literatuře uváděné elektrolyty pro vylučování slitiny nikl-fosfor pracují při teplotách 80 až 90 °C a nízkém pH 0,5 až 1,5. Obsahují-li nikl ve formě síranů, chloridů a fosfor ve formě kyseliny fosforite.
Nevýhodou těchto · elektrolytů je vysoká provozní teplota a tím i značná energetická náročnost. Přitom při dlouhodobém provozu je technicky velmi náročné udržet nízkou hodnotu pH v rozmezí 0,5 až 1,5.
Další známé, · avšak méně používané typy elektrolytů obsahují karbonové kyseliny, jako například ' kyselinu citrónovou. Tyto látky sice umožňují pracovat s provozní teplotou lázně podstatně nižší, v rozmezí 40 až 60 stupňů · Celsia, , při ,dlouhodobém provozu však dochází k rozkladu karbonových kyselin. Rozkladné produkty · pak zvyšují vnitřní pnutí vyloučených povlaků a tím dochází ke vzniku trhlin a destrukci vyloučených povlaků.
Vynález odstraňuje nedostatky dosud známých elektrolytických lázní pro vylučování slitiny nikl —. fosfor a jeho podstata spočívá ve složení elektrolytu, který sestává z fluoroboritanu nikelnatého v koncentraci 100 až 600 g na 1 000 ml vody, kyseliny borité v koncentraci 10 až 50 g na 1000 ml vody a fosfornanu nikelnatého, sodného, nebo amonného, případně kyseliny fosforite v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 ml vody.
Pro další zlepšení kvality a odstranění · vodíkového pittingu je · výhodný přídavek ethylenoxidových smáčedel, případně alkylsulfonanových smáčedel v koncentraci 0,1 až 1 g na 1 000 ml vody.
Elektrolyt pracuje při provozních teplotách 30 až 50 °C v oblasti 2 až 3,5 pH. Katodová proudová hustota se pohybuje v rozmezí 1 až 16 A/dm2. Hlavní výhodou elektrolytu podle vynálezu je velmi nízká hodnota vnitřního pnutí a jeho dobrá životnost. Mikrotvrdost povlaků je vysoká, 900 až 1200 HM a není nutné další tepelné zpracování. Mikrotvrdost se v · rozmezí teplot 20 až 40 °C nemění. Vyloučené, povlaky obsahují 1 . až 20 % hmotnostních fosforu v závislosti , na koncentraci fosforu v elektrolytické lázni. Vzhledem k nízkému vnitřnímu pnutí jsou · vyloučené povlaky vhodné v oblasti galvanoplastiky.
P říklldl
200 g/1 000 ml HžO .
fluoroboritanu nikelnatého, g/1 000 ml H2O kyseliny borité, · g/1 000 ml H2O fosfornanu nikelnatého,
0,2 g/1 000 ml H2O ethylen-oxidového smáčedla, katodová proudová hustota 1 až 5 A/dm2, provozní teplota 50 °C,
PH 2,5, mikrotvrdost 1150 HM, obsah fosforu v povlaku 7,5 % hmotnostních.
Příklad 2 ,
400 g/1 000 ml H2O fluoroboritanu nikelnatého, · g/1 000 ml H2O kyseliny borité, g/1 000 ml H2O fosfornanu sodného,
0,1 g/1 000 ml H2O lauryl-síranu sodného, katodová proudová hustota 1 až 8A/dm2, provozní teplota 50 °C, pH 2,4, ...........
mikrotvrdost 950 HM, obsah fosforu v povlaku 5,4 % hmotnostních.
Příkladě. 3
400 g/1 000 ml H2O .;
fluoroboritanu nikelnatého · g/1 000 · ml H2O·.'· kyseliny borité ?20 g/1 000 ml H2O kyseliny fosforitů
0,1 g/1 000 ml H2O diisopropyl-naftalen-sulfonanu sodného katodová proudová hustota 1 až 10A'dm2 provozní teplota ' 50 °C pH 2,1 mikrotvrdost 1010 HM obsah fosforu v · povlaku 9,5 °/o hmotnostních

Claims (2)

  1. předmět
    1. Elektrolytická vodní lázeň pro vylučování slitiny nikl-fosfor, vyznačující se tím, že sestává · z fluoroboritanu nikelnatého v koncentraci 100 až 600 g na 1 000 ml vody, kyseliny borité v koncentraci 10 až 50 g na
    1 000 ml vody a fosforitanu nikelnatého, sodného 'nebo amonného, případně kyseliny fosVynalezu forité v koncentraci 1 až 50 g na 1000 ml vody.
  2. 2. Elektrolytická vodní lázeň podle bodu
    1, vyznačující se tím, že obsahuje přídavek ethylenoxidových smáčedel, případně alkylsulfonanových smáčedel· v koncentraci 0,01 až 1 g na 1000 ml vody.
CS84902A 1984-02-08 1984-02-08 Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition CS240582B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS84902A CS240582B1 (en) 1984-02-08 1984-02-08 Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition
DE19853504186 DE3504186A1 (de) 1984-02-08 1985-02-07 Elektrolytisches wasserbad und verfahren zur abscheidung einer nickel-phosphor-legierung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS84902A CS240582B1 (en) 1984-02-08 1984-02-08 Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS90284A1 CS90284A1 (en) 1985-07-16
CS240582B1 true CS240582B1 (en) 1986-02-13

Family

ID=5342071

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS84902A CS240582B1 (en) 1984-02-08 1984-02-08 Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition

Country Status (2)

Country Link
CS (1) CS240582B1 (cs)
DE (1) DE3504186A1 (cs)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5032464A (en) * 1986-10-27 1991-07-16 Burlington Industries, Inc. Electrodeposited amorphous ductile alloys of nickel and phosphorus
US4801947A (en) * 1987-06-25 1989-01-31 Burlington Industries, Inc. Electrodeposition-produced orifice plate of amorphous metal
CN1037039C (zh) * 1993-05-14 1998-01-14 清川镀金工业有限公司 具有保险丝功能的金属膜电阻器及其制造方法
US6099624A (en) * 1997-07-09 2000-08-08 Elf Atochem North America, Inc. Nickel-phosphorus alloy coatings

Also Published As

Publication number Publication date
DE3504186A1 (de) 1985-08-08
CS90284A1 (en) 1985-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2525942A (en) Electrodepositing bath and process
US3966564A (en) Method of electrodepositing an alloy of tin, cobalt and a third metal and electrolyte therefor
US2926124A (en) Tin nickel alloy plating process and composition
US4234396A (en) Chromium plating
US2693444A (en) Electrodeposition of chromium and alloys thereof
US5620583A (en) Platinum plating bath
CS240582B1 (en) Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition
US2728720A (en) Method of producing an electroplate of nickel on magnesium and the magnesium-base alloys
US4659629A (en) Formation of a protective outer layer on magnesium alloys containing aluminum
Ward et al. The Electrodeposition of Chromium from Trivalent Salts
US3654101A (en) Novel chromium plating compositions and processes
CA1117463A (en) Method for preparing active cathodes for electrochemical processes
US3003933A (en) Electro-plating of metals
US2594933A (en) Process for electrodepositing hard nickel plate
US4411744A (en) Bath and process for high speed nickel electroplating
CA1244374A (en) Electroplating bath containing palladium amine complex and stress reducing agent
JP2522101B2 (ja) ニッケル―モリブデン合金めっき浴及びめっき方法
US2802779A (en) Electrodeposition of nickel and nickel alloys
US3374154A (en) Electroforming and electrodeposition of stress-free nickel from the sulfamate bath
GB2033430A (en) Electrolyte for Cathodic Deposition of Alloys of Nickel with Tungsten
SU116447A1 (ru) Способ нанесени медных покрытий электролизом нецианистых электролитов
US3457147A (en) Chromium plating bath and process
SU145102A1 (ru) Способ электроосаждени сплавов индий - никель
US2361720A (en) Nickel electroplating bath
US3867267A (en) Chromium plating