CS240582B1 - Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition - Google Patents
Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition Download PDFInfo
- Publication number
- CS240582B1 CS240582B1 CS84902A CS90284A CS240582B1 CS 240582 B1 CS240582 B1 CS 240582B1 CS 84902 A CS84902 A CS 84902A CS 90284 A CS90284 A CS 90284A CS 240582 B1 CS240582 B1 CS 240582B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- nickel
- concentration
- water
- per
- phosphorus alloy
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
Description
Lázeň sestává z fluoroboritanu nikelnatého v koncentraci 100 až 600 g na '1 000 ml vody, kyseliny borité v koncentraci 10 až 50 g na 1 000 ml vody a fosfornanu nikelnatého, sodného nebo amonného, případně kyseliny fosfrité v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 mi vody. Pro odstranění vodíkového pittingu je použit přídavek smáčedla v koncentraci 0,01 až 1 g na 1000 ml vody.
Vynález se týká složení elektrolytické vodní lázně pro· vylučování slitiny nikl — fosfor.
Elektrolyticky vylučované povlaky nikl — fosfor mají podstatně vyšší mikrotvrdost než mají ostatní vylučované slitiny niklu. Používají se případech, kdy jsou na vyloučený kovový povlak kladeny velké nároky z hlediska otěru a kluzných vlastností. Elektrolyticky vyloučené povlaky slitiny nikl — fosfor mají po tepelném zpracování zvýšenou mikrotvrdost až o 50 % a jejich kvalita se vyrovná povrchům z · tvrdého chrómu.
Dosud používané a v literatuře uváděné elektrolyty pro vylučování slitiny nikl-fosfor pracují při teplotách 80 až 90 °C a nízkém pH 0,5 až 1,5. Obsahují-li nikl ve formě síranů, chloridů a fosfor ve formě kyseliny fosforite.
Nevýhodou těchto · elektrolytů je vysoká provozní teplota a tím i značná energetická náročnost. Přitom při dlouhodobém provozu je technicky velmi náročné udržet nízkou hodnotu pH v rozmezí 0,5 až 1,5.
Další známé, · avšak méně používané typy elektrolytů obsahují karbonové kyseliny, jako například ' kyselinu citrónovou. Tyto látky sice umožňují pracovat s provozní teplotou lázně podstatně nižší, v rozmezí 40 až 60 stupňů · Celsia, , při ,dlouhodobém provozu však dochází k rozkladu karbonových kyselin. Rozkladné produkty · pak zvyšují vnitřní pnutí vyloučených povlaků a tím dochází ke vzniku trhlin a destrukci vyloučených povlaků.
Vynález odstraňuje nedostatky dosud známých elektrolytických lázní pro vylučování slitiny nikl —. fosfor a jeho podstata spočívá ve složení elektrolytu, který sestává z fluoroboritanu nikelnatého v koncentraci 100 až 600 g na 1 000 ml vody, kyseliny borité v koncentraci 10 až 50 g na 1000 ml vody a fosfornanu nikelnatého, sodného, nebo amonného, případně kyseliny fosforite v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 ml vody.
Pro další zlepšení kvality a odstranění · vodíkového pittingu je · výhodný přídavek ethylenoxidových smáčedel, případně alkylsulfonanových smáčedel v koncentraci 0,1 až 1 g na 1 000 ml vody.
Elektrolyt pracuje při provozních teplotách 30 až 50 °C v oblasti 2 až 3,5 pH. Katodová proudová hustota se pohybuje v rozmezí 1 až 16 A/dm2. Hlavní výhodou elektrolytu podle vynálezu je velmi nízká hodnota vnitřního pnutí a jeho dobrá životnost. Mikrotvrdost povlaků je vysoká, 900 až 1200 HM a není nutné další tepelné zpracování. Mikrotvrdost se v · rozmezí teplot 20 až 40 °C nemění. Vyloučené, povlaky obsahují 1 . až 20 % hmotnostních fosforu v závislosti , na koncentraci fosforu v elektrolytické lázni. Vzhledem k nízkému vnitřnímu pnutí jsou · vyloučené povlaky vhodné v oblasti galvanoplastiky.
P říklldl
200 g/1 000 ml HžO .
fluoroboritanu nikelnatého, g/1 000 ml H2O kyseliny borité, · g/1 000 ml H2O fosfornanu nikelnatého,
0,2 g/1 000 ml H2O ethylen-oxidového smáčedla, katodová proudová hustota 1 až 5 A/dm2, provozní teplota 50 °C,
PH 2,5, mikrotvrdost 1150 HM, obsah fosforu v povlaku 7,5 % hmotnostních.
Příklad 2 ,
400 g/1 000 ml H2O fluoroboritanu nikelnatého, · g/1 000 ml H2O kyseliny borité, g/1 000 ml H2O fosfornanu sodného,
0,1 g/1 000 ml H2O lauryl-síranu sodného, katodová proudová hustota 1 až 8A/dm2, provozní teplota 50 °C, pH 2,4, ...........
mikrotvrdost 950 HM, obsah fosforu v povlaku 5,4 % hmotnostních.
Příkladě. 3
400 g/1 000 ml H2O .;
fluoroboritanu nikelnatého · g/1 000 · ml H2O·.'· kyseliny borité ?20 g/1 000 ml H2O kyseliny fosforitů
0,1 g/1 000 ml H2O diisopropyl-naftalen-sulfonanu sodného katodová proudová hustota 1 až 10A'dm2 provozní teplota ' 50 °C pH 2,1 mikrotvrdost 1010 HM obsah fosforu v · povlaku 9,5 °/o hmotnostních
Claims (2)
- předmět1. Elektrolytická vodní lázeň pro vylučování slitiny nikl-fosfor, vyznačující se tím, že sestává · z fluoroboritanu nikelnatého v koncentraci 100 až 600 g na 1 000 ml vody, kyseliny borité v koncentraci 10 až 50 g na1 000 ml vody a fosforitanu nikelnatého, sodného 'nebo amonného, případně kyseliny fosVynalezu forité v koncentraci 1 až 50 g na 1000 ml vody.
- 2. Elektrolytická vodní lázeň podle bodu1, vyznačující se tím, že obsahuje přídavek ethylenoxidových smáčedel, případně alkylsulfonanových smáčedel· v koncentraci 0,01 až 1 g na 1000 ml vody.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS84902A CS240582B1 (en) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition |
DE19853504186 DE3504186A1 (de) | 1984-02-08 | 1985-02-07 | Elektrolytisches wasserbad und verfahren zur abscheidung einer nickel-phosphor-legierung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS84902A CS240582B1 (en) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS90284A1 CS90284A1 (en) | 1985-07-16 |
CS240582B1 true CS240582B1 (en) | 1986-02-13 |
Family
ID=5342071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS84902A CS240582B1 (en) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS240582B1 (cs) |
DE (1) | DE3504186A1 (cs) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5032464A (en) * | 1986-10-27 | 1991-07-16 | Burlington Industries, Inc. | Electrodeposited amorphous ductile alloys of nickel and phosphorus |
US4801947A (en) * | 1987-06-25 | 1989-01-31 | Burlington Industries, Inc. | Electrodeposition-produced orifice plate of amorphous metal |
CN1037039C (zh) * | 1993-05-14 | 1998-01-14 | 清川镀金工业有限公司 | 具有保险丝功能的金属膜电阻器及其制造方法 |
US6099624A (en) * | 1997-07-09 | 2000-08-08 | Elf Atochem North America, Inc. | Nickel-phosphorus alloy coatings |
-
1984
- 1984-02-08 CS CS84902A patent/CS240582B1/cs unknown
-
1985
- 1985-02-07 DE DE19853504186 patent/DE3504186A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3504186A1 (de) | 1985-08-08 |
CS90284A1 (en) | 1985-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2525942A (en) | Electrodepositing bath and process | |
US3966564A (en) | Method of electrodepositing an alloy of tin, cobalt and a third metal and electrolyte therefor | |
US2926124A (en) | Tin nickel alloy plating process and composition | |
US4234396A (en) | Chromium plating | |
US2693444A (en) | Electrodeposition of chromium and alloys thereof | |
US5620583A (en) | Platinum plating bath | |
CS240582B1 (en) | Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition | |
US2728720A (en) | Method of producing an electroplate of nickel on magnesium and the magnesium-base alloys | |
US4659629A (en) | Formation of a protective outer layer on magnesium alloys containing aluminum | |
Ward et al. | The Electrodeposition of Chromium from Trivalent Salts | |
US3654101A (en) | Novel chromium plating compositions and processes | |
CA1117463A (en) | Method for preparing active cathodes for electrochemical processes | |
US3003933A (en) | Electro-plating of metals | |
US2594933A (en) | Process for electrodepositing hard nickel plate | |
US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
CA1244374A (en) | Electroplating bath containing palladium amine complex and stress reducing agent | |
JP2522101B2 (ja) | ニッケル―モリブデン合金めっき浴及びめっき方法 | |
US2802779A (en) | Electrodeposition of nickel and nickel alloys | |
US3374154A (en) | Electroforming and electrodeposition of stress-free nickel from the sulfamate bath | |
GB2033430A (en) | Electrolyte for Cathodic Deposition of Alloys of Nickel with Tungsten | |
SU116447A1 (ru) | Способ нанесени медных покрытий электролизом нецианистых электролитов | |
US3457147A (en) | Chromium plating bath and process | |
SU145102A1 (ru) | Способ электроосаждени сплавов индий - никель | |
US2361720A (en) | Nickel electroplating bath | |
US3867267A (en) | Chromium plating |