CS240582B1 - Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition - Google Patents
Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition Download PDFInfo
- Publication number
- CS240582B1 CS240582B1 CS84902A CS90284A CS240582B1 CS 240582 B1 CS240582 B1 CS 240582B1 CS 84902 A CS84902 A CS 84902A CS 90284 A CS90284 A CS 90284A CS 240582 B1 CS240582 B1 CS 240582B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- nickel
- concentration
- water
- per
- phosphorus alloy
- Prior art date
Links
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 6
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title description 3
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 5
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 2
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 claims 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 claims 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000159 nickel phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 claims 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- GJYJYFHBOBUTBY-UHFFFAOYSA-N alpha-camphorene Chemical compound CC(C)=CCCC(=C)C1CCC(CCC=C(C)C)=CC1 GJYJYFHBOBUTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- XXSPKSHUSWQAIZ-UHFFFAOYSA-L 36026-88-7 Chemical compound [Ni+2].[O-]P=O.[O-]P=O XXSPKSHUSWQAIZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 7
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- -1 nickel fluoroborate Chemical compound 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- RUQIYMSRQQCKIK-UHFFFAOYSA-M sodium;2,3-di(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(C(C)C)C(C(C)C)=CC2=C1 RUQIYMSRQQCKIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
Description
Lázeň sestává z fluoroboritanu nikelnatého v koncentraci 100 až 600 g na '1 000 ml vody, kyseliny borité v koncentraci 10 až 50 g na 1 000 ml vody a fosfornanu nikelnatého, sodného nebo amonného, případně kyseliny fosfrité v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 mi vody. Pro odstranění vodíkového pittingu je použit přídavek smáčedla v koncentraci 0,01 až 1 g na 1000 ml vody.
Vynález se týká složení elektrolytické vodní lázně pro· vylučování slitiny nikl — fosfor.
Elektrolyticky vylučované povlaky nikl — fosfor mají podstatně vyšší mikrotvrdost než mají ostatní vylučované slitiny niklu. Používají se případech, kdy jsou na vyloučený kovový povlak kladeny velké nároky z hlediska otěru a kluzných vlastností. Elektrolyticky vyloučené povlaky slitiny nikl — fosfor mají po tepelném zpracování zvýšenou mikrotvrdost až o 50 % a jejich kvalita se vyrovná povrchům z · tvrdého chrómu.
Dosud používané a v literatuře uváděné elektrolyty pro vylučování slitiny nikl-fosfor pracují při teplotách 80 až 90 °C a nízkém pH 0,5 až 1,5. Obsahují-li nikl ve formě síranů, chloridů a fosfor ve formě kyseliny fosforite.
Nevýhodou těchto · elektrolytů je vysoká provozní teplota a tím i značná energetická náročnost. Přitom při dlouhodobém provozu je technicky velmi náročné udržet nízkou hodnotu pH v rozmezí 0,5 až 1,5.
Další známé, · avšak méně používané typy elektrolytů obsahují karbonové kyseliny, jako například ' kyselinu citrónovou. Tyto látky sice umožňují pracovat s provozní teplotou lázně podstatně nižší, v rozmezí 40 až 60 stupňů · Celsia, , při ,dlouhodobém provozu však dochází k rozkladu karbonových kyselin. Rozkladné produkty · pak zvyšují vnitřní pnutí vyloučených povlaků a tím dochází ke vzniku trhlin a destrukci vyloučených povlaků.
Vynález odstraňuje nedostatky dosud známých elektrolytických lázní pro vylučování slitiny nikl —. fosfor a jeho podstata spočívá ve složení elektrolytu, který sestává z fluoroboritanu nikelnatého v koncentraci 100 až 600 g na 1 000 ml vody, kyseliny borité v koncentraci 10 až 50 g na 1000 ml vody a fosfornanu nikelnatého, sodného, nebo amonného, případně kyseliny fosforite v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 ml vody.
Pro další zlepšení kvality a odstranění · vodíkového pittingu je · výhodný přídavek ethylenoxidových smáčedel, případně alkylsulfonanových smáčedel v koncentraci 0,1 až 1 g na 1 000 ml vody.
Elektrolyt pracuje při provozních teplotách 30 až 50 °C v oblasti 2 až 3,5 pH. Katodová proudová hustota se pohybuje v rozmezí 1 až 16 A/dm2. Hlavní výhodou elektrolytu podle vynálezu je velmi nízká hodnota vnitřního pnutí a jeho dobrá životnost. Mikrotvrdost povlaků je vysoká, 900 až 1200 HM a není nutné další tepelné zpracování. Mikrotvrdost se v · rozmezí teplot 20 až 40 °C nemění. Vyloučené, povlaky obsahují 1 . až 20 % hmotnostních fosforu v závislosti , na koncentraci fosforu v elektrolytické lázni. Vzhledem k nízkému vnitřnímu pnutí jsou · vyloučené povlaky vhodné v oblasti galvanoplastiky.
P říklldl
200 g/1 000 ml HžO .
fluoroboritanu nikelnatého, g/1 000 ml H2O kyseliny borité, · g/1 000 ml H2O fosfornanu nikelnatého,
0,2 g/1 000 ml H2O ethylen-oxidového smáčedla, katodová proudová hustota 1 až 5 A/dm2, provozní teplota 50 °C,
PH 2,5, mikrotvrdost 1150 HM, obsah fosforu v povlaku 7,5 % hmotnostních.
Příklad 2 ,
400 g/1 000 ml H2O fluoroboritanu nikelnatého, · g/1 000 ml H2O kyseliny borité, g/1 000 ml H2O fosfornanu sodného,
0,1 g/1 000 ml H2O lauryl-síranu sodného, katodová proudová hustota 1 až 8A/dm2, provozní teplota 50 °C, pH 2,4, ...........
mikrotvrdost 950 HM, obsah fosforu v povlaku 5,4 % hmotnostních.
Příkladě. 3
400 g/1 000 ml H2O .;
fluoroboritanu nikelnatého · g/1 000 · ml H2O·.'· kyseliny borité ?20 g/1 000 ml H2O kyseliny fosforitů
0,1 g/1 000 ml H2O diisopropyl-naftalen-sulfonanu sodného katodová proudová hustota 1 až 10A'dm2 provozní teplota ' 50 °C pH 2,1 mikrotvrdost 1010 HM obsah fosforu v · povlaku 9,5 °/o hmotnostních
Claims (2)
- předmět1. Elektrolytická vodní lázeň pro vylučování slitiny nikl-fosfor, vyznačující se tím, že sestává · z fluoroboritanu nikelnatého v koncentraci 100 až 600 g na 1 000 ml vody, kyseliny borité v koncentraci 10 až 50 g na1 000 ml vody a fosforitanu nikelnatého, sodného 'nebo amonného, případně kyseliny fosVynalezu forité v koncentraci 1 až 50 g na 1000 ml vody.
- 2. Elektrolytická vodní lázeň podle bodu1, vyznačující se tím, že obsahuje přídavek ethylenoxidových smáčedel, případně alkylsulfonanových smáčedel· v koncentraci 0,01 až 1 g na 1000 ml vody.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS84902A CS240582B1 (en) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition |
| DE19853504186 DE3504186A1 (de) | 1984-02-08 | 1985-02-07 | Elektrolytisches wasserbad und verfahren zur abscheidung einer nickel-phosphor-legierung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS84902A CS240582B1 (en) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS90284A1 CS90284A1 (en) | 1985-07-16 |
| CS240582B1 true CS240582B1 (en) | 1986-02-13 |
Family
ID=5342071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS84902A CS240582B1 (en) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS240582B1 (cs) |
| DE (1) | DE3504186A1 (cs) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5032464A (en) * | 1986-10-27 | 1991-07-16 | Burlington Industries, Inc. | Electrodeposited amorphous ductile alloys of nickel and phosphorus |
| US4801947A (en) * | 1987-06-25 | 1989-01-31 | Burlington Industries, Inc. | Electrodeposition-produced orifice plate of amorphous metal |
| JP3498919B2 (ja) * | 1993-05-14 | 2004-02-23 | 清川メッキ工業株式会社 | ヒューズ機能を有する金属皮膜抵抗器とその製造方法 |
| US6099624A (en) * | 1997-07-09 | 2000-08-08 | Elf Atochem North America, Inc. | Nickel-phosphorus alloy coatings |
-
1984
- 1984-02-08 CS CS84902A patent/CS240582B1/cs unknown
-
1985
- 1985-02-07 DE DE19853504186 patent/DE3504186A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS90284A1 (en) | 1985-07-16 |
| DE3504186A1 (de) | 1985-08-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4461680A (en) | Process and bath for electroplating nickel-chromium alloys | |
| US3966564A (en) | Method of electrodepositing an alloy of tin, cobalt and a third metal and electrolyte therefor | |
| US2926124A (en) | Tin nickel alloy plating process and composition | |
| US3161575A (en) | Copper pyrophosphate electroplating solutions | |
| US4234396A (en) | Chromium plating | |
| US5620583A (en) | Platinum plating bath | |
| US2728720A (en) | Method of producing an electroplate of nickel on magnesium and the magnesium-base alloys | |
| CS240582B1 (en) | Electrolytic aqueous bath for nickel-phosphorus alloy deposition | |
| US4673471A (en) | Method of electrodepositing a chromium alloy deposit | |
| ES339183A2 (es) | Procedimiento para recubrir por electrolisis la superficie de objetos con un revestimiento de cromo de estructura mi- crofisurada. | |
| Ward et al. | The electrodeposition of chromium from trivalent salts | |
| CA1117463A (en) | Method for preparing active cathodes for electrochemical processes | |
| US3003933A (en) | Electro-plating of metals | |
| US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
| HK74389A (en) | Bath for the galvanic deposition of gold alloys | |
| CA1244374A (en) | Electroplating bath containing palladium amine complex and stress reducing agent | |
| JP2522101B2 (ja) | ニッケル―モリブデン合金めっき浴及びめっき方法 | |
| US2802779A (en) | Electrodeposition of nickel and nickel alloys | |
| US3374154A (en) | Electroforming and electrodeposition of stress-free nickel from the sulfamate bath | |
| SU116447A1 (ru) | Способ нанесени медных покрытий электролизом нецианистых электролитов | |
| GB2033430A (en) | Electrolyte for Cathodic Deposition of Alloys of Nickel with Tungsten | |
| US3778358A (en) | Zinc plating solution | |
| US3243362A (en) | Method of anodizing aluminum | |
| US3457147A (en) | Chromium plating bath and process | |
| SU145102A1 (ru) | Способ электроосаждени сплавов индий - никель |