CS229380B1 - Kývete β řízením tlaku plynu nebo par - Google Patents

Kývete β řízením tlaku plynu nebo par Download PDF

Info

Publication number
CS229380B1
CS229380B1 CS913882A CS913882A CS229380B1 CS 229380 B1 CS229380 B1 CS 229380B1 CS 913882 A CS913882 A CS 913882A CS 913882 A CS913882 A CS 913882A CS 229380 B1 CS229380 B1 CS 229380B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
cuvette
control
finger
gas
vapor pressure
Prior art date
Application number
CS913882A
Other languages
English (en)
Inventor
Jan Ing Csc Blabla
Original Assignee
Jan Ing Csc Blabla
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jan Ing Csc Blabla filed Critical Jan Ing Csc Blabla
Priority to CS913882A priority Critical patent/CS229380B1/cs
Publication of CS229380B1 publication Critical patent/CS229380B1/cs

Links

Landscapes

  • Battery Mounting, Suspending (AREA)

Abstract

Kývete a řízením tlaku plynu nebo par je určena ke etudiu vlastností atomů nebo molekul v různých fyzikálních a chemických zařízeních a jako etalonový prvek ke stabilizaci kmitočtu laserů a laserových zařízení, ftídicí prst kyvety je nepojen svým dnem na termobaterii, která svým účinkem zajifiíuje potřebnou teplotu dne prstu, a tak zajiěíuje v kyvetě požadovaný tlak prostředí. Teplo z tarmobaterie je odváděno do výměníku tepla teplovodičem. Měření teploty a její řízení je umožněno čidly umístěnými v bezprostřední blízkosti dna prstu.

Description

Vynález se týká kyvety naplněné atomárním nebo molekulárním prostředím, u kterého se dosahuje řízení tlaku plynu nebo par pomocí tepelného účinku termobaterie s odděleným chladičem nebo jiným výměníkem tepla, řídící proces se ovládá a měří regulačním a měřícím Čidlem.
Dosud známé způsoby řízení tlaku plynu nebo par v kyvetě naplněné atomárním nebo molekulárním prostředím využívají v zařízeních, vyznačujících se náročnými požadavky na přesnost řízení tlaku plynu nebo par, uspořádání s řídícím prstem, který vychází z těla kyvety, nejčastěji ze střední části, a je umístěn v rovině procházející osou kyvety nebo je napojen na tělo kyvety tak, že k řídícímu účinku dochází stranou kyvety. Prst je ponořen do nádobky vyplněné chladicí látkou, jejíž teplota řídí tlak plynu nebo par v kyvetě. Teplote chladící látky je zajišťována termobaterií, která je svou řídící plochou přilepena nebo přiletována ke dnu nebo k boční stěně nádobky a teplo převádějící plochou je napojena n3 chladič. K řízení tlaku plynu se využívá čidla umístěného v chladicí látce nebo ve stěně nádobky. Nevýhodou popsaného uspořádání kyvety s řízením tlaku prostředí je značná setrvačnost v řídicím procesu, způsobená přestupem tepla mezi prstem kyvety, chladící látkou, stěnou nádobky a řídící plochou termobaterie, malá homogenita tepelného pole v chladicí látc^ způsobující nejistotu při určení tlaku v kyvetě, a složitá konstrukce chladícího systému.
Výše uvedené nedostatky jsou odstraněny kyvetou s řízením tlaku plynu nebo par podle vynálezu, jejíž podstatou je, že prst kyvety je napojen dnem na řídící plochu termobaterie, přičemž teplo převádějící plocha termobaterie je v tepelném kontaktu s teplovodičem, odvádějícím teplo do výměníku tepla. K řízení tlaku plynu nebo par v kyvetě se využívají řídící a měřící čidla umístěné v bezprostředním kontaktu β řídicí plochou termobaterie a dna prstu. Prst kyvety a termobaterii lze pro dosažení vyšší ú229 380
- > činnosti izolovat od okolní teploty pomocí materiálu o Spatné tepelné vodivosti, např. polystyrenem.
Přímé napojení termobaterie na dno prstu kyvety zvyšuje účinnost řídícího procesu a způsobuje, že požadovaný účinek se dosáhne s nižším příkonem energie. Ukončení prstu kyvety plochým dnem, opatřeným tenkou vrstvou tepelně vodivého materiálu, vytváří dokonalý tepelný kontakt s celou řídící plochou termobaterie, přičemž informace pro řídící a měřící čidlo se získává přímo z teploty dna prstu. Proces řízení je při tomte uspořádání rychlejší -j odchylka od požadované hodnoty tlaku uvnitř kyvety menší. Tím, že termobaterie je od chladiče či jiného výměníku tepla oddělena pružným teplo odvádějícím vodičem, je dosaženo snadnější manipulace s kyvetou a jejího nastavení např. v laserech stabilizovaných pomocí saturované absorpce.
Na přiložených výkresech jsou uvedeny dva příklady provedení kyvety s řízením tlaku podle vynálezu. Na obr. 1 je znázorněn příklad kyvety s řídícím prstem, připojeným k tělu kyvety v rovině procházející podélnou osou kyvety, a termobaterií uchycenou ke dnu prstu kyvety ne rozebíratelným způsobem. Na obr. 2, kde je zachycen detail uspořádání prstu kyvety s termobaterií a chladičem, tvoří termobaterie s vodičem, popřípadě i s chladičem jeden nerozebíratelný celek, který je ke dnu prstu kyvety přitlačován. Na obr. 3 je uveden jiný způsob připojení prstu k tělu kyvety. Obr. 4,5 a 6 znázorňují příklady ukončení prstu kyvety plochým dnem.
Na tělo kyvety 1 ( obr.1), ukončené na obou stranách okén2 , je napojen prst 3 a ukončen plochým dnem 4. K ochlazování dna 4 dochází pomocí termobaterie 6, která je ukončena řídící plochou 7, a teplo převádějící plochou 6, např. teplovodivou keramikou s pokovenými vnějšími plochami. Řídící plochou 7 je termobaterie přiletována na tepelně vodivou vrstvu 5 vytvořenou tak,že dno 4 je např. vakuově napařeno nebo katodově naprá šeno kovem nebo jiným vhodným technologickým pomtupem vytvořeno z kovového či jiného tepelně vodivého materiálu.Tepelně vodivá vrstva 2 může být vhodným technologickým postupem zesílena nebo dále zpracována. Teplo převádějící plocha 8 termobaterie 6 je přiletována na přírubu 9, která zprostředkuje převod tepla mezi termobaterií 6 a výměníkem tepla 14. K převodu tepla dochází přea kovovou koncovku II s naletováným teplovodičem 12, přičemž tepelný kontakt mezi přírubou 9 a koncovkou 11 je zajištěn po229 380
- 4 mocí pasty nebo kovové fólie 10 tak, že příruba 9 a koncovka 11 jsou k sobě přitlačovény přes fólii 10. např. pomocí matice 13.
K dosažení vyšší účinnosti řízení je prst 3 se dnem. 4 a termobaterií 6 opatřen tepelnou izolací 15. např. pěnovým polystyrenem. K řízení a měření tlaku plynu nebo par je v kontaktu a tepelně vodivou vrstvou 5 nebo s řídicí plochou 7 termobaterie 6 řídicí čidlo 16 a měřicí čidlo 17.
Uspořádání podle vynálezu lze provést rovněž podle obr.2 . Termobaterie 6 je naletována teplo převádějící plochou 8 přímo na koncovku 11, to znamená,že příruba 9 a pasta nebo kovové fólie 10 je vynechána, a spolu s teplovodičem 12 a výměníkem^tepla tvoří nerozebíratelný celek, který je ke dnu 4 přitlačován přes řídicí plochu 7 termobaterie 6 např. pomocí tažné matice 18. Zachycení tažné matice lí. které je z materiálu o špatné tepelné vodivosti, lze provést pomocí kroužku 15 přitmeleného k prstu J).Tepelná izolace 15 pratu 3 se provede např. pomocí pěnového polystyrenu. V uvedeném uspořádání se uchytí řídicí čidlo a měřicí čidlo 17 rovněž na tepelně vodivou vrstvu 5.
V obou příkladů provedení lze vyhřívat tělo kyvety na vyšší teplotu, čímž se vytvoří v některých případech výhodnější pracovní režim. U obou příkladů provedení kyvety s řízením tlaku plynu nebo par podle vynálezu lze prst 3 připojit k tělu kyvety 1 rovněž podle obr. 3 , kdy k řídicímu účinku dodází stranou kyvety. Dno £ prstu 3 se vytvoří bu3 běžnou sklářskou technologií z jednoho kusu materiálu* ob· např. pamocí návlečné koncovky 23 a přechodu 24 z dobře tepelně vodivých materiálů, nebo ze dvou kusů tak, že prst _3 a dno 4 se opatří fazetou 22 (obr.4) nebo styčnou plochou 21 (otr.5), přičemž vakuově těsné spojení obou částí se provede některým z používaných technologických postupů, např. svařením, difuzr.í technologií, přítmě lením apod.
Fro zvýšení řídicího účinku lze prst 3 nélevkovitě rozšířit (obr.6) a ukjbnčit některým z předcházejících způsobů. Pro snadnější a přesnější umíetění řídicího čidla 16 a měřicího čidle lze v uvedených případech dno 4 opatřit zápichy 22.
Tlak plynu nebo par v kyvetč 1 je řízen ochlazováním dna £ prstu 3 pqmocí tepelného účinku termobaterie 6. Zlektrický proud procházející termobaterií 6 způsobuje ochlazování řídicí plochy 7 . Dokonalý tepelný kontakt mezi řídicí plochou 7 a dnem 4, vytvořený tepelně vodivou vrstvou 2» zajištuje ochlazování dna 4 na teplotu potřebnou pro zajištění požadovaného tlaku v kyvetě. Teplo odvedené ze dna 4 pomocí řídicí plochy 7 termobaterie 6
I
- 5 - 229 380 se převede přes teplo odvádějící plochu C termobaterie £, přírubu 9, ^eplovodivou fólii 10, koncovku 11 a teplovodič 12 do výměníku T^epla. Chladící účinek se zvýší chráněním prstu 3* dna £ a termobaterie 6 od okolní teploty pomocí tepelné izolace 15. Tlak plynu nebo par v kyvetě 1 se určí pomocí teploty ochlazovaného dna 4 tak, Se se měří jeho teplota pomocí měřícího čidla 17. Pro udržování požadované teploty dna 4 slouží řídicí čidlo 16.
Kyveta s řízením tlaku plynu nebo par podle vynálezu nachází uplatněni zejména v optických zařízeních využívajících vlastnosti atomů nebo molekul, jako např. v laserech a laserových zařízeních se stabilizací kmitočtu pomocí saturované absorpce, ve fyzikálních a chemických přístrojích^ kde je třeba definovat tlak plynu nebo par a extrémní přesností.

Claims (9)

1. Kyveta s řízením tlaku plynu nebo par sestávající z trubice, z jejíž střední části vychází řídicí prst a jejíž oba konce jsou zakončeny okénky, vyznačená tím, že prst (3) je napojen dnem (4) na řídicí plochu (7) tennobaterie (6), přičemž teplo převádějící plocha (8) tennobaterie (6) je v tepelném kontaktu s teplovodičem (12) odvádějícím teplo do výměníkutfr) tepla·
2. Kyveta β řízením tlaku plynu nebo par podle bodu 3, vyznačené tím, že řídicí plocha (7) tennobaterie (6) je přeletována na tepelně vodivou vrstvu (5), kterou je opatřena vnější strana dna (4), a teplo převádějící plocha (5) tennobaterie Có) je v tepelném kontaktu s přírubou (9) mechanicky spojenou s koncovkou (11) teplovodiče (12), přičemž tepelný kontakt mezi přírubou (9) a koncovkou (11) je zajištěn teplovodivou pastou nebo kovovou fďlií (10).
3. Kyveta β řízením tlaku plynu nebo par podle bodu 3, vyznačená tím, že teplo převádějící plocha (8) tennobaterie (6) je je přímo napojena na koncovku (11) teplovodiče (12) a tepelný kontakt mezi řídicí plochou (7) tennobaterie (6) a dnem (4) je vytvořen tepelně vodivou vrstvou (5) a mechanicky zajištěn.
4. Kyveta s řízením tlaku plynu nebo par podle bodu 1, vyznačené tím, že prst (3) a dno (4) jsou vakuově spojeny pomoci fazety (20) nebo styčné plochy (21).
5. Kyveta a řízením tlaku plynu nebo par podle bodu 1, vyznačené tím, že prst (3) je u dna (4) nálevkovitě rozšířen.
6. Kyveta s řízením tlaku plynu nebo par podle bodu 1,vyznačená tím, že dno (4) tvoří návlečná koncovka (29) mechanicky přichycená k prstu (3) přes tepelně vodivý přechod (24).
7. Kyveta s řízením tlaku plynu nebo par podle bodu vyznačené tím, že v kontaktu
8 tepelně vodivou vrstvou (5) nebo s řídicí plochou (7) tennobaterie (6) je řídicí čidlo (16) a měřící čidlo (17).
' -7.
&. Kyveta β řízením tlaku plynu nebo par podle bodu tím, Se řídící čidlo (16) a měřící čidlo (17) je dně (4) prstu (3) v zópichu (22).
9. Kyveta s řízením tlaku plynu neb· par podle boču ná tí·, Se prst (3) a dno (4) β termobaterií (6) ny tepelnou izolací (15).
CS913882A 1982-12-14 1982-12-14 Kývete β řízením tlaku plynu nebo par CS229380B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS913882A CS229380B1 (cs) 1982-12-14 1982-12-14 Kývete β řízením tlaku plynu nebo par

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS913882A CS229380B1 (cs) 1982-12-14 1982-12-14 Kývete β řízením tlaku plynu nebo par

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS229380B1 true CS229380B1 (cs) 1984-06-18

Family

ID=5442672

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS913882A CS229380B1 (cs) 1982-12-14 1982-12-14 Kývete β řízením tlaku plynu nebo par

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS229380B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100437042C (zh) 流量传感器
US7244913B2 (en) Temperature regulator for microchemical chip
CN103412592B (zh) 一种惯性测量系统三级温控系统
CA2509033A1 (en) Thermal tympanic thermometer tip
CN115074236B (zh) 用于pcr仪的温控装置、扩增设备和pcr仪
CN216121190U (zh) 一种隔振恒温的光纤封装结构
CN109507229B (zh) 薄板薄膜材料导热系数测量装置和测量方法
CN219792943U (zh) 一种反应组件及核酸扩增装置
RU2161384C1 (ru) Устройство для температурной стабилизации электронного оборудования
CS229380B1 (cs) Kývete β řízením tlaku plynu nebo par
US7318671B1 (en) Heat-flux based emissivity/absorptivity measurement
US3332285A (en) Fast precision temperature sensing thermocouple probe
JPS61134651A (ja) 霜の析出を検出するためのセンサ装置
RU173874U1 (ru) Термостатированный корпус для измерительных приборов
JP2002098845A (ja) 温度調整装置および温度調整装置付き光導波路デバイス
US12523550B2 (en) Thermopile laser sensor with response time acceleration and methods of use and manufacture
Altona A versatile cooling technique for X-ray diffraction by single crystals at temperatures below 90° K
SU974351A1 (ru) Термостат дл кварцевого резонатора
JP2006329734A (ja) 界面レベルセンサ及び界面レベルセンサを備えた容器
JPS5862564A (ja) 液体容器の温度制御装置
Holleck et al. The Activity Coefficient of Lithium Chloride in Anhydrous Dimethyl Sulfoxide Solutions
CN115435593A (zh) 一种高温材料发射率测试用样品加热炉
WO2000022391A1 (en) Infrared sensor and radiation pyrometer
JPH0476618B2 (cs)
Smythe Heat and Temperature