CS225237B1 - Způsob výroby monokrystalů z taveniny a topný element k provádění tohoto způsobu - Google Patents

Způsob výroby monokrystalů z taveniny a topný element k provádění tohoto způsobu Download PDF

Info

Publication number
CS225237B1
CS225237B1 CS688081A CS688081A CS225237B1 CS 225237 B1 CS225237 B1 CS 225237B1 CS 688081 A CS688081 A CS 688081A CS 688081 A CS688081 A CS 688081A CS 225237 B1 CS225237 B1 CS 225237B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
heating element
melt
manufacture
crystal
crystals
Prior art date
Application number
CS688081A
Other languages
English (en)
Inventor
Oldrich Gilar
Zdenek Pavlicek
Blanka Svobodova
Ladislav Fojtik
Jiri Bendl
Vaclav Mlika
Jaroslav Trnka
Original Assignee
Oldrich Gilar
Zdenek Pavlicek
Blanka Svobodova
Ladislav Fojtik
Jiri Bendl
Vaclav Mlika
Jaroslav Trnka
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oldrich Gilar, Zdenek Pavlicek, Blanka Svobodova, Ladislav Fojtik, Jiri Bendl, Vaclav Mlika, Jaroslav Trnka filed Critical Oldrich Gilar
Priority to CS688081A priority Critical patent/CS225237B1/cs
Publication of CS225237B1 publication Critical patent/CS225237B1/cs

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

Vynález se týká způsobu výroby velkoobjemových krystalů z taveniny bezkelímkovou metodou a topného elementu k provádění tohoto způsobu.
Potřeby použití velkoobjemových krystalů v technice vědou k hle dání nových postupů a k vývoji odpovídajících technologickýeh záříze ní. U krystalů pěstovaných v kelímku se na kvalitě nepříznivě projevuje vyluhování materiálu kelímku, ^oužití platiny pro kelímky při pěstování velkých krystalů představuje vysoké pořizovací nékldy. Při pěstování monokrystalů z vlastní taveniny mají bezkelímkové metody řadu výhod. Snížení kontaminace výluhem materiálů přicházejících do styku s taveninou, odstranění pnutí v krystalech způsobeného lnutím krystalů ke stěnám krystalizační nádobky při rozdílné tepelné roztaž nosti, možnost docílení vyššího stupně homogenity rozdělení příměsí u dotovaných krystalů.
Jsou známy techniky pro růst relativně malých krystalů, průměru řádově několik centimetrů. Pro větší rozměry krystalů byly popsány metody pracující například s tavnou sííkou vnořenou do krystalu, nebo s tavnými elementy, které se pohybují v rovině krystalizace. S ohledem na poměrně malou hmotu topného elementu vyrobené monokrystaly jsou méně znečištěny. Procento nečistot lze snížit jěště zhotovením topného zařízení z platiny nebo wolframu, vzhledem k malým rozměrům jsou i náklady únosné. Kritickým bodem těchto postupů je stabilizace a udržení potřebné vrstvy taveniny nad růstovou plochou krystalu a zabránění jejímu odtečení. Při použití plošného topného elementu pro velké průměry, velké plochy pěstovaných krystalů, je obtížné vyrovnávání místních teplotních rozdílů ve zpracovávané ploše, které jsou ovlivňovány způsobem přivádění suroviny a homogenizace taveniny v tenké vrstvě.
225 237
Tyto nevýhody odstraňuje způsob výroby monokrystalů z taveniny a topný element k provádění tohoto způsobu podle vynálezu. Podstatou vynálezu je, že se topnému elementu uděluje příčně vratný nebo kruhový pohyb a topný element k provádění tohoto způsobu má tvar a plochu příčného řezu rostoucího krystalu.
Příčně vratný nebo kruhový pohyb udělovaný vyhřívanému topnému elementu v-rovině rovnoběžné s růstovou plochou krystalu homogenizuje taveninu roztavené vrstvy v celé ploše rovnoměrně na rozdíl od uděleného rotačního pohybu, kdy středová část taveniny zůstává v klidu. Příčně vratný nebo kruhový pohyb udělovaný topnému elementu stabilizuje růst a tvar rostoucího krystalu. Udělením uvedeného pohybu topnému elementu po obvodu taveného krystalu je pravidelně a řiditelně snížen přívod tepelné energie a tavenina zde přednostně vykrystalizovává. Po obvodu rostoucího krystalu se tak vytváří zvýšený okr#j. Zvýšený okraj zlepšuje svým zakřivením kapilární poměry v obvodovém pásu rostoucího krystalu a přispívá ke stabilizaci roztavené vrstvy. Plošným tvarováním topného elementu se docílí vnucené vymezení tavené a taveninou smáčené plochy krystalu a tím i stabilizace tvaru rostoucího krystalu.
Na obr. 1 je uvedeno uspořádání k provádění způsobu podle vynálezu. Topný element 1, kterému je udělován příčně vratný nebo kruhový pohyb, vytváří po obvodu taveného krystalu 2 zvýšený okraj 4. Na v
obr. 2 je znázorněn topný element 1, tvořený sítkou, mřížkou nebo perforovaným plechem nebo deskou, který má tvar a plochu příčného řezu 2 rostoucího krystalu 3 a určuje ohraničení tohoto rostoucího krystalu i·
Způsob pěstování monokrystalů z taveniny a topný element k provádění tohoto způsobu podle vynálezu byl odzkoušen při pěstování mokrystalú jodidu sodného aktivovaného thaliem o velikosti růstové plochy 100 x 100 mm. Dále byl způsob podle vynálezu včtně topného elementu odzkoušen na přípravě deskového krystalu jodidu česného aktivovaného thaliem a jodidu česného aktivovaného sodíkem opět o velikosti růstové plochy 100 x 100 mm. Jako další příklad prověření vynálezu lze uvést vypěstování monokrystalu chloridu draselného, přičemž růstová plocha byla zvolena v obdélníkovém tvaru o rozměrech 100 x 50 mm. Popsaný způsob pěstování monokrystalů skýtá mož225 237 nosti použití i pro růst velkoobjemových krystalů až do hmotnosti několika set kilogramů.
Využití velkoobjemových krystalů lze očekávat ve scintilační technice pro detekci záření gama v různých aplikacích.

Claims (2)

1. Způsob výroby monokrystalů z taveniny s krystalizací řízenou plošným topným elementem, vyznačený tím, že se topnému elementu uděluje příčně vratný nebo kruhový pohyb.
2. Topný element tvořený sítkou, mřížkou nebo perforovaným plechem nebo deskou k provádění způsobu podle bodu 1, vyznačený tím, že má tvar a plochu příčného řezu (2) rostoucího krystalu (3).
CS688081A 1981-09-17 1981-09-17 Způsob výroby monokrystalů z taveniny a topný element k provádění tohoto způsobu CS225237B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS688081A CS225237B1 (cs) 1981-09-17 1981-09-17 Způsob výroby monokrystalů z taveniny a topný element k provádění tohoto způsobu

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS688081A CS225237B1 (cs) 1981-09-17 1981-09-17 Způsob výroby monokrystalů z taveniny a topný element k provádění tohoto způsobu

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS225237B1 true CS225237B1 (cs) 1984-02-13

Family

ID=5416840

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS688081A CS225237B1 (cs) 1981-09-17 1981-09-17 Způsob výroby monokrystalů z taveniny a topný element k provádění tohoto způsobu

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS225237B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3681033A (en) Horizontal growth of crystal ribbons
GB1374065A (en) Optical control of crystal growth
US3977934A (en) Silicon manufacture
CS225237B1 (cs) Způsob výroby monokrystalů z taveniny a topný element k provádění tohoto způsobu
Red'kin et al. Investigation of the growth conditions of gadolinium molybdate crystals
JPH035392A (ja) シリコン単結晶の製造装置
JPH08253393A (ja) Ktp固溶体単結晶及びその製造方法
Nicolov Shaped single crystals of CaF2
Tatartchenko 10 Sapphire Crystal Growth and Applications
US4046617A (en) Method of crystallization
Kokh Crystal growth through forced stirring of melt or solution in Czochralski configuration
JPS55126597A (en) Single crystal growing method
JPS6111914B2 (cs)
Taranyuk State of the Art of Scintillation Crystal Growth Methods
JPH0471037B2 (cs)
JP3134415B2 (ja) 単結晶の育成方法
JP2622274B2 (ja) 単結晶の育成方法
DE102005037393B4 (de) Verfahren sowie Vorrichtung zur Züchtung von grossvolumigen Einkristallen unter Ausbildung einer konvexen Phasengrenzfläche während des Kristallisationsprozesses
Jindra et al. Multiple growth of profiled sapphire crystals
DIAN et al. Solvent zone crystallization of CdTe in a mirror heating facility(orientation experiments for space manufacturing)
Taranyuk Skull method—an alternative scintillation crystals growth technique for laboratory and industrial production
JPS59182292A (ja) 帯状シリコン結晶製造装置
BESPALOV et al. LETIER TO THE EDITORS
JPH08290991A (ja) 化合物半導体単結晶の成長方法
RU1443488C (ru) Устройство дл выращивани профилированных кристаллов