CS223128B1 - vývojka světlocitlivé vrstvy - Google Patents
vývojka světlocitlivé vrstvy Download PDFInfo
- Publication number
- CS223128B1 CS223128B1 CS82382A CS82382A CS223128B1 CS 223128 B1 CS223128 B1 CS 223128B1 CS 82382 A CS82382 A CS 82382A CS 82382 A CS82382 A CS 82382A CS 223128 B1 CS223128 B1 CS 223128B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- developer
- sensitive layer
- water
- positive
- glycerin
- Prior art date
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Vývojka světlocitlivé vrstvy s pozitivním fotochemickým charakterem, používaná v polygrafii pro přípravu ofsetových nebo knihtiskových forem. Účelem je náhrada dovážených roztoků a úspora devizových prostředků. Vývojka je použitelná pro všechny druhy pozitivních světlocitlivých vrstev na bázi ortochinondiazidů. Uvedeného účelu se dosahuje vodným roztokem, který sestává z 24 až 32 g hydroxidu sodného, 10 až 14 g kyseliny fosforečné, 8 až 28 g silikátů, 10 až 20 g glycerinu a 1,5 až 2,5 g kyseliny fluorovodíkové na obsah 1 litr vody.
Description
Vynález se týká vývojky pro světlocitlivé vrstvy s pozitivním fotochemickým charakterem, používané v polygrafii pro přípravu ofsetových nebo knihtiskových forem. Tiskové fozray se zhotovují kopírováním tiskového obrazu na světlócitlivou vrstvu, která je uložena na vhodné nosné podložce, například kovové. Světlocitlivé vrstvy s pozitivním fotochemickým charakterem jsou běžně vyráběny na bázi diazosloučenin a jsou před osvitem ve vodě nerozpustné.
Dosud známé vývojky pro tento účel jsou tvořeny alkalickými sloučeninami a jejich volné ionty OH” reagují při vyvolávání nakopírovaného obrazu s diazosloučeninami světlocitlivých vrstev na látky ve vodě rozpustné. Nevýhodou těchto vývojek je skutečnost, že alkalické (alkalie) sloučeniny ve větších koncentracích reagují netoliko s místy osvitnutými, netisknoucími, ale částečně i s místy neosvitnutými, které nesou tiskový obraz a způsobují tím neostrost jeho kresby. Kromě toho napadají volné OH”ionty i povrch nosné podložky v místech, kde byla vodou odmyta citlivá vrstva a to zejména povrch podložek hliníkových.
Uvedené nedostatky odstraňuje vývojka podle vynálezu, jejíž podstatu tvoří vodný roztok sestávající z 24 4Γ32 g hydroxidu sodného, 10 4ifl4 g kyseliny fosforečné, 6 <^26 g silikátů, 10 ěi* 20 g glycerinu^*]/? - 2$ g kyseliny fluorovodíkové na obsah 1 litru vody.
Výhodou vývojky podle vynálezu je docílené uspořádání volných OH” iontů, aby nedocházelo k nežádoucím reakcím s vrstvou tvořící obraz i s povrchem nosné podložky, dále je to využití silikátů pro vytvoření hydrofilního filmu na
Sta 128
- 2 povrchu nosné podložky po jejím obnažení při odmývání citlivé vrstvy, čímž se zvýší smáčivost povrchu nosné podložky a sníží jeho reokceschopnost s volnými OH“ ionty. Výhodou je rovněž přítomnost glycerinu ve vývojce, který snižuje povrchové napětí původní světlocitlivé vrstvy, která je ve své podstatě hydrofobní. Tím se usnadňuje rovnoměrnost rozptylu vývojky na povrchu tiskové formy a zaručuje rovnoměrnost počátku reakce vývojky v celé vyvolávané ploše současně·
Příklad 1
Vývojka má složení:
g NaOH - čistý granulovaný g silikagelu g kyseliny fluorovodíkové 38 - 40 % p. a,
14,2 g kyseliny fosforečné p. a. 85 % ml glycerinu 1 1 vody
Příklad 2
Vývojka má složení:
ml vodního skla 36 - 38°Bé
8,5 ml kyseliny fosforečné 85% p. a· ml glycerinu p. a.
25,8 g KaOH - čistý granulovaný
1 vody
Uvedený dobře promíchaný roztok se nalije na povrch osvitnuté desky a roztírá se tamponem. Nechá se působit cca lrf 2 minuty „ až se objeví vykopírovaný obraz - osvi tnutá místa vrstvy se odplavují. Potom se deska’opláchne proudem studené vody,,
K přípravě je možno použít vodního skla tekutého dle ČSN 653191, nebo vodního skla sodného pevného. Při přípravě je však nutno vycház.et z hustoty vodního skla a z molámího poměru kysličníku křemičitého a kysličníku sodného (SiOg a NaOg) a podle toho přizpůsobit ekvivalentní množství ostatních chemikálií hydroxidu sodného a kyseliny fosforečné (NaOH a HýPO^). K dosažení lepší mísitelnosti vodního skla s ostatními složkami je možno použít přídavku kyseliny fluorovodíkové (HP) - v množství odpovídajícím obsahu kysličníku křemičitého (siO2)
223 128 ve vodním skle - množství ostatních komponent je opět nutno regulovat.
Pro dosažení výhodnější ekonomiky při výrobě vývojky je možno použít i chemikálií technických.
Glycerinu je možno přidávat i větší množství, nutno však počítat s tím, že částečně reaguje s ostatními komponenty.
Při použití silikagelu je nutno dbát na jeho perfektní rozpuštění, aby nerozpuštěné částečky nepoškozovaly povrch vyvolávané desky.
Vývojka může být připravována - podle uvedeného předpisu z uvedených komponent přímo u spotřebitele nebo může být vyráběna hromadně.
Claims (1)
- Vývojka světlocitlivé vrstvy s pozitivním fotochemickým charakteremj vyznačená tím, že je tvořena vodným roztokem, sestávajícím z 24 32 g hydroxidu sodného, 10 14 g kyseliny fosforéčné, 8 28 g silikátů, 10 ^20 g glycerinu^!, 5 ^2,5 g kyseliny fluorovodíkové na obsah.1 litru vody.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS82382A CS223128B1 (cs) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | vývojka světlocitlivé vrstvy |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS82382A CS223128B1 (cs) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | vývojka světlocitlivé vrstvy |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS223128B1 true CS223128B1 (cs) | 1983-09-15 |
Family
ID=5341093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS82382A CS223128B1 (cs) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | vývojka světlocitlivé vrstvy |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS223128B1 (cs) |
-
1982
- 1982-02-05 CS CS82382A patent/CS223128B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4374920A (en) | Positive developer containing non-ionic surfactants | |
| US4945030A (en) | Method for developing lithographic plates comprising a developer comprising ethylene oxide/propylene oxide block copolymers | |
| JPS58190952A (ja) | 感光性印刷版の現像液 | |
| KR100280757B1 (ko) | 금속 이온 함량이 낮은 현상제의 제조 방법 | |
| JPH04305915A (ja) | 密着型露光装置 | |
| US2614927A (en) | Rapid processing of photographic materials | |
| US3146104A (en) | Silver halide sensitized lithographic printing plate | |
| CN100476592C (zh) | 利用高酸碱值浸润流体的浸润式微影技术的方法与装置 | |
| US5164286A (en) | Photoresist developer containing fluorinated amphoteric surfactant | |
| KR870011503A (ko) | 혼합 에스테르 o-퀴논 감광제 | |
| US4379830A (en) | Developer for positive photolithographic articles | |
| JPH07120935A (ja) | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 | |
| CS223128B1 (cs) | vývojka světlocitlivé vrstvy | |
| US3385701A (en) | Lithographic offset master and method | |
| TW422938B (en) | Low metals perfluorooctanoic acid and top anti-reflective coatings for photoresists | |
| US2414839A (en) | Light sensitized lead printing compounds and process of reproduction | |
| US3764323A (en) | Method of forming lithographic printing plate | |
| KR880013043A (ko) | 알칸올 아민을 함유한 고콘트라스트 양화 감광성 내식막 현상액 | |
| US4168168A (en) | Method of making durable photomasks with metal ion diffusion | |
| US3043687A (en) | Photographic colloid transfer process | |
| US5897985A (en) | Potassium silicate developing composition and method of use to process lithographic printing plates | |
| US3089770A (en) | Process for making planographic printing forms using a light sensitive gelatin reception layer | |
| JPH06282080A (ja) | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 | |
| JPH0836265A (ja) | フォトレジスト組成物 | |
| JPH08286387A (ja) | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |