CS221900B1 - Electrolyte for cathodic elimination of indium from aqueous solutions - Google Patents
Electrolyte for cathodic elimination of indium from aqueous solutions Download PDFInfo
- Publication number
- CS221900B1 CS221900B1 CS999681A CS999681A CS221900B1 CS 221900 B1 CS221900 B1 CS 221900B1 CS 999681 A CS999681 A CS 999681A CS 999681 A CS999681 A CS 999681A CS 221900 B1 CS221900 B1 CS 221900B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- indium
- electrolyte
- concentration
- aqueous solutions
- cathodic
- Prior art date
Links
Landscapes
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
Elektrolyt podle vynálezu řeší problém vylučování india z vodných roztoků. Podstatou řešení je to, že elektrolyt obsahuje indium ve formě komplexu s kyselinou sulfosalicylovou v koncentraci 0,1 až 1,5 M, halogenidy ve formě sodných nebo draselných solí v koncentraci 0,1 až 1 M pro zlepšení rozpustnosti indiových anod a případně přídavek anionaktivního smáčedla v koncentraci 0,001 až 0,05 M k odstranění vodíkového pittingu. Elektrolyt pracuje v kyselé oblasti, v rozmezí pH 1,2 až 3,5, při teplotách 20 až 80 °C. Katodová proudová hustota se pohybuje v rozmezí 2 až 10 A/dm2.The electrolyte according to the invention solves the problem of indium precipitation from aqueous solutions. The essence of the solution is that the electrolyte contains indium in the form of a complex with sulfosalicylic acid in a concentration of 0.1 to 1.5 M, halides in the form of sodium or potassium salts in a concentration of 0.1 to 1 M to improve the solubility of indium anodes and optionally the addition of an anionic wetting agent in a concentration of 0.001 to 0.05 M to remove hydrogen pitting. The electrolyte operates in an acidic region, in the pH range of 1.2 to 3.5, at temperatures of 20 to 80 °C. The cathode current density ranges from 2 to 10 A/dm2.
Description
Vynález se týká elektrolytu pro katodické vylučování india z vodných roztoků.The invention relates to an electrolyte for the cathodic deposition of indium from aqueous solutions.
V dosud známých elektrolytech pro katodické vylučování india se používá různých solí india, nejvíce síranů, sulfamátů a komplexních kyanidů. Nevýhodou elektrolytů na bázi síranů a sulfamátů je vylučování povlaků india při nízkém katodovém proudovém výtěžku - 80 až 90 %. Dalším nedostatkem těchto elektrolytů je nízká hloubková účinnost, která je příčinou nerovnoměrného rozložení vyloučeného povlaku. Sulfamátový elektrolyt je drahý a během elektrolýzy dochází k jeho hydrolýze a ke vzniku amonných solí, které snižují hloubkovou účinnost elektrolytu. Nevýhodou elektrolytů na bázi amoniakálních chlorokomplexů je jejich nestabilita a vznik nerozpustné sloučeniny india v průběhu elektrolýzy, čímž dochází k podstatnému zhoršení kvality vyloučených povlaků. K udrženi pH elektrolytu v rozmezí 10 až 12 se používá vodného čpavku, který způsobuje nepříjemné dráždění. Kyanidový komplex je silně toxický a jeho likvidace je velmi obtížná.In the electrolytes known so far for cathodic deposition of indium, various salts of indium are used, mostly sulfates, sulfamates and complex cyanides. The disadvantage of electrolytes based on sulfates and sulfamates is the deposition of indium coatings at a low cathodic current yield - 80 to 90%. Another disadvantage of these electrolytes is the low depth efficiency, which is the cause of the uneven distribution of the deposited coating. The sulfamate electrolyte is expensive and during electrolysis it is hydrolyzed and ammonium salts are formed, which reduce the depth efficiency of the electrolyte. The disadvantage of electrolytes based on ammoniacal chloro complexes is their instability and the formation of an insoluble indium compound during electrolysis, which significantly deteriorates the quality of the deposited coatings. Aqueous ammonia is used to maintain the pH of the electrolyte in the range of 10 to 12, which causes unpleasant irritation. The cyanide complex is highly toxic and its disposal is very difficult.
<·<·
Výše uvedené nevýhody odstraňuje elektrolyt pro katodické vylučování india z vodných roztoků podle vynálezu, jehož podstatou je to, že obsahuje indium ve formě komplexu s kyselinou sulfosalicylovou v koncentraci 0,1 až 1,5 M, halogenidy ve formě sodných nebo draselných solí v koncentraci 0,1 až 1 M a případně přídavek anionaktivního smáčedla, například laurylsiranu sodného, alfa-naftalensulfonanu sodného, v koncentraci 0,001 až 0,05 M.The above-mentioned disadvantages are eliminated by the electrolyte for cathodic deposition of indium from aqueous solutions according to the invention, the essence of which is that it contains indium in the form of a complex with sulfosalicylic acid in a concentration of 0.1 to 1.5 M, halides in the form of sodium or potassium salts in a concentration of 0.1 to 1 M and optionally the addition of an anionic wetting agent, for example sodium lauryl sulfate, sodium alpha-naphthalene sulfonate, in a concentration of 0.001 to 0.05 M.
Komplex india s kyselinou sulfosalicylovou je možné získat například působením kyseliny sulfosalicylové na hydroxid inditý. Halogenidy ve formě sodných nebo draselných solí, obsažené v elektrolytu v uvedeném rozmezí koncentrací, zlepšují rozpustnost indiových anod. Přídavek anionaktivního smáčedla slouží k odstranění vodíkového pittingu. Kromě již uvedených anionaktivnich smáčedel lze také použít sulfonovaného mastného alkoholu nebo átylenoxidových smáčedel.The indium complex with sulfosalicylic acid can be obtained, for example, by the action of sulfosalicylic acid on indium hydroxide. Halides in the form of sodium or potassium salts, contained in the electrolyte in the specified concentration range, improve the solubility of indium anodes. The addition of an anionic surfactant serves to eliminate hydrogen pitting. In addition to the anionic surfactants already mentioned, sulfonated fatty alcohol or ethylene oxide surfactants can also be used.
Elektrolyt pracuje v rozmezí teplot 20 až 80 °C. Vlivem teplot v uvedeném rozmezí nedochází k jeho destrukci. Katodová proudová hustota se pohybuje v rozmezí 2 až 10 A/dm . Hloubková účinnost elektrolytu je o 30 až 40 % vyšší ve srovnání se známými elektrolyty. Elektrolyt pracuje v kyselé oblasti, v rozmezí pH 1,2 až 3,5. Likvidaci tohoto elektrolytu, který není toxický, je možné provést běžnými prostředky.The electrolyte operates in the temperature range of 20 to 80 °C. It is not destroyed by temperatures in the specified range. The cathode current density ranges from 2 to 10 A/dm. The depth efficiency of the electrolyte is 30 to 40% higher compared to known electrolytes. The electrolyte operates in the acidic range, in the pH range of 1.2 to 3.5. Disposal of this electrolyte, which is not toxic, can be carried out by conventional means.
sodnýsodium
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS999681A CS221900B1 (en) | 1981-12-30 | 1981-12-30 | Electrolyte for cathodic elimination of indium from aqueous solutions |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS999681A CS221900B1 (en) | 1981-12-30 | 1981-12-30 | Electrolyte for cathodic elimination of indium from aqueous solutions |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS221900B1 true CS221900B1 (en) | 1983-04-29 |
Family
ID=5447503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS999681A CS221900B1 (en) | 1981-12-30 | 1981-12-30 | Electrolyte for cathodic elimination of indium from aqueous solutions |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS221900B1 (en) |
-
1981
- 1981-12-30 CS CS999681A patent/CS221900B1/en unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB1327376A (en) | Electrodeposition of copper | |
| US4013523A (en) | Tin-gold electroplating bath and process | |
| US4157945A (en) | Trivalent chromium plating baths | |
| US4053374A (en) | Chromium electroplating baths | |
| US4448649A (en) | Trivalent chromium electroplating baths | |
| Drela et al. | Electrodeposition of chromium from Cr (III) electrolytes in the presence of formic acid | |
| US4448648A (en) | Trivalent chromium electroplating baths | |
| US4502927A (en) | Electrodeposition of chromium and its alloys | |
| US4107004A (en) | Trivalent chromium electroplating baths and method | |
| CA1208159A (en) | Electrodeposition of chromium and its alloys | |
| CS221900B1 (en) | Electrolyte for cathodic elimination of indium from aqueous solutions | |
| CA1053174A (en) | Bath for the electrodeposition of gold | |
| JP2010031329A (en) | Nickel plating bath | |
| GB755635A (en) | Improvements in the electrodeposition of iron | |
| US4422908A (en) | Zinc plating | |
| JPS6233147A (en) | Composition for electroplating, manufacture and surfactant compound therefor | |
| US3457147A (en) | Chromium plating bath and process | |
| CN105102686B (en) | There is the function layers of chrome of improved corrosion resistance | |
| ARAI et al. | Polarographic study on the smoothing of Sn-Ag alloy film electrodeposited from pyrophosphate-iodide bath | |
| US3532610A (en) | Selenium compounds as brighteners in copper plating baths | |
| ES2992438T3 (en) | Electrolytic treatment device for preparing plastic parts to be metallized and a method for etching plastic parts | |
| JPH0141717B2 (en) | ||
| CS201413B1 (en) | Electrolyte for cathodic production of nickel-molybdenum alloys | |
| US3520785A (en) | Electroplating gold and thiomalate electrolyte therefor | |
| US3293157A (en) | Process for electrolytic silvering |