CS216153B2 - Method of activation of organic material - Google Patents
Method of activation of organic material Download PDFInfo
- Publication number
- CS216153B2 CS216153B2 CS707979A CS797970A CS216153B2 CS 216153 B2 CS216153 B2 CS 216153B2 CS 707979 A CS707979 A CS 707979A CS 797970 A CS797970 A CS 797970A CS 216153 B2 CS216153 B2 CS 216153B2
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- film
- italy
- parts
- solution
- water
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000011368 organic material Substances 0.000 title claims description 8
- 230000004913 activation Effects 0.000 title 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims abstract description 25
- -1 benzothiazolinylidene Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 20
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- MGFJDEHFNMWYBD-OWOJBTEDSA-N 4-[(e)-2-pyridin-4-ylethenyl]pyridine Chemical group C=1C=NC=CC=1/C=C/C1=CC=NC=C1 MGFJDEHFNMWYBD-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims abstract description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 16
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims description 8
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 4
- MWVTWFVJZLCBMC-UHFFFAOYSA-N 4,4'-bipyridine Chemical group C1=NC=CC(C=2C=CN=CC=2)=C1 MWVTWFVJZLCBMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910004072 SiFe Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 claims 1
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 34
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 34
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 24
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 abstract description 23
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 23
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 abstract description 18
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 abstract description 18
- 150000005839 radical cations Chemical class 0.000 abstract description 16
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 13
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 abstract description 13
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 abstract description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 12
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 238000007654 immersion Methods 0.000 abstract description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 abstract description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 7
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 abstract description 7
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 abstract description 7
- 239000006260 foam Substances 0.000 abstract description 6
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 abstract description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract description 5
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 abstract description 5
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 abstract description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 5
- UDATXMIGEVPXTR-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound O=C1NNC(=O)N1 UDATXMIGEVPXTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylformamide Substances CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 abstract description 4
- YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N mellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 abstract description 4
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 abstract description 4
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 abstract description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 abstract description 3
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N benzene-dicarboxylic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 3
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 abstract description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract description 3
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 abstract description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 3
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- MVWFINKRIQNHGG-UHFFFAOYSA-N 4-quinolin-4-ylquinoline Chemical compound C1=CC=C2C(C=3C4=CC=CC=C4N=CC=3)=CC=NC2=C1 MVWFINKRIQNHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- RXGJTUSBYWCRBK-UHFFFAOYSA-M 5-methylphenazinium methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC=C2[N+](C)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 RXGJTUSBYWCRBK-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- WDVSHHCDHLJJJR-UHFFFAOYSA-N Proflavine Chemical compound C1=CC(N)=CC2=NC3=CC(N)=CC=C3C=C21 WDVSHHCDHLJJJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N acridine orange free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=NC3=CC(N(C)C)=CC=C3C=C21 DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 abstract description 2
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 abstract description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 abstract description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 abstract description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N benzoquinolinylidene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 abstract description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 abstract description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 abstract description 2
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 abstract description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 abstract description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 abstract description 2
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 abstract description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 abstract description 2
- 229960000286 proflavine Drugs 0.000 abstract description 2
- JBSAUEMFOKUWTP-UHFFFAOYSA-N quinoline-4-carbonitrile Chemical compound C1=CC=C2C(C#N)=CC=NC2=C1 JBSAUEMFOKUWTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 abstract description 2
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 abstract description 2
- AUNGANRZJHBGPY-SCRDCRAPSA-N Riboflavin Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)CN1C=2C=C(C)C(C)=CC=2N=C2C1=NC(=O)NC2=O AUNGANRZJHBGPY-SCRDCRAPSA-N 0.000 abstract 2
- WTOSNONTQZJEBC-UHFFFAOYSA-N erythrosin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(C1C(C(=C(O)C(I)=C1)I)O1)=C2C1=C(I)C(=O)C(I)=C2 WTOSNONTQZJEBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- HFKPAXQHQKDLSU-MCDZGGTQSA-N (2r,3r,4s,5r)-2-(6-aminopurin-9-yl)-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol;pyridine-3-carboxamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CN=C1.C1=NC=2C(N)=NC=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H]1O HFKPAXQHQKDLSU-MCDZGGTQSA-N 0.000 abstract 1
- AWIHACLPIMKXFT-UHFFFAOYSA-N 1-(2-azulen-1-ylethenyl)azulene Chemical group C1=CC=CC=C2C(C=CC=3C4=CC=CC=CC4=CC=3)=CC=C21 AWIHACLPIMKXFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- ARHPRZLYSVRYDN-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylheptane-3,3-diamine Chemical compound CCCCC(N)(N)C(C)(C)C ARHPRZLYSVRYDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- GDALETGZDYOOGB-UHFFFAOYSA-N Acridone Natural products C1=C(O)C=C2N(C)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1O GDALETGZDYOOGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- DXPPGWXVSIJTSL-UHFFFAOYSA-N C=C.C1=CN(C=CC=C2)C2=C1.C1=CN(C=CC=C2)C2=C1 Chemical group C=C.C1=CN(C=CC=C2)C2=C1.C1=CN(C=CC=C2)C2=C1 DXPPGWXVSIJTSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- AUNGANRZJHBGPY-UHFFFAOYSA-N D-Lyxoflavin Natural products OCC(O)C(O)C(O)CN1C=2C=C(C)C(C)=CC=2N=C2C1=NC(=O)NC2=O AUNGANRZJHBGPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000001828 Gelatine Substances 0.000 abstract 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 abstract 1
- PEJLNXHANOHNSU-UHFFFAOYSA-N acridine-3,6-diamine;10-methylacridin-10-ium-3,6-diamine;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=NC3=CC(N)=CC=C3C=C21.C1=C(N)C=C2[N+](C)=C(C=C(N)C=C3)C3=CC2=C1 PEJLNXHANOHNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- FZEYVTFCMJSGMP-UHFFFAOYSA-N acridone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3NC2=C1 FZEYVTFCMJSGMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- DZGUJOWBVDZNNF-UHFFFAOYSA-N azanium;2-methylprop-2-enoate Chemical compound [NH4+].CC(=C)C([O-])=O DZGUJOWBVDZNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract 1
- 239000003975 dentin desensitizing agent Substances 0.000 abstract 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 abstract 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000006262 metallic foam Substances 0.000 abstract 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 abstract 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229960002477 riboflavin Drugs 0.000 abstract 1
- 235000019192 riboflavin Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000002151 riboflavin Substances 0.000 abstract 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 74
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 11
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 10
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 10
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 8
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L sodium sulphate Substances [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 4
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000008098 formaldehyde solution Substances 0.000 description 4
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 4
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001166 ammonium sulphate Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 3
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- 238000004435 EPR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- OIRDTQYFTABQOQ-KQYNXXCUSA-N adenosine Chemical compound C1=NC=2C(N)=NC=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H]1O OIRDTQYFTABQOQ-KQYNXXCUSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L erythrosin B Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M gold monochloride Chemical compound [Cl-].[Au+] FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N heavy water Substances [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N iron(3+);trinitrate Chemical compound [Fe+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- NYYDZOSYLUOKEM-UHFFFAOYSA-N oxaldehyde;hydrate Chemical compound O.O=CC=O NYYDZOSYLUOKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 2
- 239000002984 plastic foam Substances 0.000 description 2
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(CCl)C=C1 ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical group NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUXPKQXHDPXCMM-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethylheptane-1,6-diamine Chemical compound CC(N)(C)C(C)CCCCN HUXPKQXHDPXCMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000002126 C01EB10 - Adenosine Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021580 Cobalt(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 102100036873 Cyclin-I Human genes 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N EtOH Substances CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000713124 Homo sapiens Cyclin-I Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WRUZLCLJULHLEY-UHFFFAOYSA-N N-(p-hydroxyphenyl)glycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=C(O)C=C1 WRUZLCLJULHLEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920005830 Polyurethane Foam Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 239000004133 Sodium thiosulphate Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFPAKSUCGFBDDF-ZQBYOMGUSA-N [14c]-nicotinamide Chemical compound N[14C](=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229960005305 adenosine Drugs 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L barium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ba+2] WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001626 barium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical class C* 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- OKVJWADVFPXWQD-UHFFFAOYSA-N difluoroborinic acid Chemical compound OB(F)F OKVJWADVFPXWQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N disodium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [Na+].[Na+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVTASQJTDUCKMG-UHFFFAOYSA-L disodium;sulfate;pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O AVTASQJTDUCKMG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000003974 emollient agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004174 erythrosine Substances 0.000 description 1
- 229940011411 erythrosine Drugs 0.000 description 1
- 235000012732 erythrosine Nutrition 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 1
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012458 free base Substances 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UUCOIDIYWGRARD-UHFFFAOYSA-N methyl sulfate;pyridin-1-ium Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC=[NH+]C=C1 UUCOIDIYWGRARD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000003205 muscle Anatomy 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- FIKAKWIAUPDISJ-UHFFFAOYSA-L paraquat dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=C[N+](C)=CC=C1C1=CC=[N+](C)C=C1 FIKAKWIAUPDISJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011496 polyurethane foam Substances 0.000 description 1
- 239000001120 potassium sulphate Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001433 sodium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229960002167 sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011004 sodium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011850 water-based material Substances 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/58—Processes for obtaining metallic images by vapour deposition or physical development
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1603—Process or apparatus coating on selected surface areas
- C23C18/1607—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning
- C23C18/1608—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning from pretreatment step, i.e. selective pre-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1603—Process or apparatus coating on selected surface areas
- C23C18/1607—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning
- C23C18/1612—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning through irradiation means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1646—Characteristics of the product obtained
- C23C18/165—Multilayered product
- C23C18/1653—Two or more layers with at least one layer obtained by electroless plating and one layer obtained by electroplating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1655—Process features
- C23C18/1657—Electroless forming, i.e. substrate removed or destroyed at the end of the process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/30—Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
Vynález .se týká způsobu aktivace organických materiálů, zvláště na bázi ve vodě rozpustných nebo. ve vodě bobtnajících polymerů před bezproudovým pokovováním.
Pokovování organických materiálů je obecně obtížné a probíhá způsobem, který nebyl dosud dostatečně vysvětlen; je při něm nutný určitý způsob zvýšení citlivosti pokovovaného povrchu, například oděrem nebo počátečním nanesením stopy kovu.
Výrazu „roztok pro bezproudové pokovování“ se zde používá v normálním významu v technologii elektrolytického pokovování a jde o roztok obsahující kovovou sůl a redukovadlo, schopný nanášet kov bez zavedení elektrického proudu.
Vynález je založen na poznatku, že určité organické sloučeniny mají schopnost způsobit ukládání kovu z roztoku pro bezproudové pokovování. Jakmile se stopa kovu vyloučí na organickém materiálu, je takto nanesený kov schopen katalyzovat další ukládání téhož kovu nebo. odlišných .kovů z vhodného. roztoku a může se vytvořit pokovovací vrstva. Pozn(atek, že určité organické sloučeniny mají schopnost způsobit ukládání kovu na organických materiálech, je nový.
Přitom substrát sám obsahuje 'takovou organickou sloučeninu nebo z takové organické sloučeniny sestává nebo se na něj tako vá sloučenina ukládá. V některých případech se substrát nejdříve uvádí do styku s látkou zvyšující citlivost, zahrnující roztok sloučeniny kovu ze skupiny platiny (rubidium, rhenium, palladium, osmium, iridium, platina), stříbra nebo ' zlata a posléze s roztokem pro bezproudové pokovování. Tomuto způsobu se dává přednost v případech, kdy . pouhé bezproudové pokovování bez zvýšení citlivosti je zdlouhavé a vyžaduje příliš vysoké teploty.
Podle vynálezu je aktivační složkou pokovovaného substrátu shora uvedená organická sloučenina. Aktivační složka může sama vytvářet substrát nebo se může použít nosiče, který aktivační složku obsahuje nebo je aktivační 'složka nosičem nesena. Nosič může. být inertní k aktivační složce, nebo může mít na aktivační složku stabilizační vliv. ' Lze tedy aktivační složku stabilizovat tak, že je možné zpracování roztokem pro bezproudé pokovování, i když dochází k prodlevě mezi vytvořením aktivační .složky a mezi reakcí s pokovovacím roztokem.
Vynález se tedy týká způsobu aktivace organických materiálů zvláště na bázi ve vodě rozpustných nebo ve vodě bobtnajících polymerů před bezproudovým pokovováním, jehož podstata spočívá v tom, že se do substrátu nebo. na substrát ukládá aktivační látka odvozená od kationtu obecného vzorce
kde R1—12 jsou atomy vodíku, halogenu nebo organické substituenty, n = '0 nebo celé číslo.
Vazba spojuje obě jádra zpravidla v poloze 4,4‘ nebo v poloze 2,.2‘, jestliže nahrazuje R3'8 nebo R5’6 například 2,2‘-bipyridyly a 4,4‘-bipyridyly.
Dvojice substituentů na témže kruhu nebo na sousedních kruzích mohou být vázány za vytvoření cyklických struktur. Například ve sloučeninách struktury 4,4‘-bipyridylové (2)
mohou být dvojice skupin R spojeny za vytvoření jednotlivé divalentní nenasycené organické skupiny, zvláště ' dvojice Ru, R<5, R9’10, R6'7, R2'9 a R4’7. y prvních čtyřech těchto případech může divalentní organická skupina vytvářet aromatické jádro jako v bichinolylové sloučenině. Jestliže jsou . R2,Q a R4'7 spojeny ethylenovými .skupinami, vytváří se diazapyrenové jádro.
Aktivní sloučeninou může být jednoduchá sloučenina nebo radikálkationt, nebo mŮže být' aktivní sloučenina součástí komplexnější molekuly jako v dimeru. Může být také polymerní, v kterémžto případě může být aktivní jednotka .obsažena v polymerním skeletu, v koncových skupinách nebo v postranních řetězcích nebo v kombinaci' těchto poloh.
Definované neutrální ' sloučeniny a radikálkationty, které již' byly všeobecně popsány, a které budou podrobněji popsány v následujících příkladech, mají . ten společný znak, že jsou vytvářeny z kationických slou-
cenin vystavením teplu nebo ozáření. Soli obsahující -monokationty jsou redukovány n'a neutrální radikály.
Výhodou způsobu -podle vynálezu je skutečnost, že -se může dodat vodivost každému výrobku z .organického materiálu, když se do něho nebo na něj zavede vhodná aktivační složka podle vynálezu, a to povlečením, napuštěním, nastříkáním nebo- jiným vhod ným způsobem. Po zavedení takové aktivační složky se potom již výrobek vkládá do lázně pro bezproudové pokovování a ponechává se v takové lázni tak dlouho, až se na předmětu uloží žádané množství kovu.
Příklady monomerních kationtů s již popsanými vlastnostmi jsou uváděny pod obecnými vzorci (3) až (8).
4,4‘-bipyridylium (P)
4,4‘-bichinolinium (Q)
1,2-bis (4-pyridyl Jethylen (E)
2,7-diazapyrinium (A]
2,2‘-bipyridyl - (B) (3) (4) (5) (6) (7)
4- (4‘-pyridyl j-pyridinium (M) (8)
Písmen za chemickým-i názvy se používá v dalším popisu .k označení vhodného kationtu, aby se nemusel opakovat celý strukturní vzorec. Proto CH3—P—CH3.2C1 představuje- N',N‘-dimethyl-4,4‘-bipyridyliumchlorid. V této nomenklatuře je zahrnuto, že skupiny -СНз jsou vázány na dusík. Je tomu však nutno- rozumět tak, že je možná substituce uhlíkových atomů na jádru. Takové substituenty zahrnují skupiny alkylové, arylové, aralkylové, alkarylové a oxyhydrokarbylové. Z halogenů se dává přednost chloru a fluoru. Je žádoucí, aby nebyly obsaženy snadno redukovatelné skupiny, například skupina NO2. Proto, jestliže -se užije symbolu P.D, - Q atd., je - jasné, že se vedle mateřské sloučeniny -může použít také vhodně substituovaných -derivátů, například sloučenin 2,2‘-dimethyl-4,4‘-bipyrídiliových.
Aktivní složka se může vytvářet -v substrátu nebo se může nanášet na substrát různým způsobem. Roztoku aktivní složky se může použít k napouštění porézních nosičů, jako je papír, látka, dřevo nebo pěnová plastická hmota. Používá se rozpouštědla vhodného pro aktivní složku, například organického rozpouštědla pro neutrální radikály a neutrální- sloučeniny, vodných nebo organických rozpouštědel pro kationlcké sloučeniny. U -mnohých použití je žádoucí vytvářet substrát ve formě filmu. Toho se snadno -dosáhne roztoku v -rozpouštědle litím v přítomnosti polymerního -nosiče. V případě· radikálkationtů a neutrálních -sloučenin připravených z definovaných kationtů je výhodným způsobem provedení podepřít dikationickou sloučeninu ve - vodě rozpustnou nebo bobtnající filmotvornou polymerní matricí a převést dikationické jednotky na radikálkatiojrt - nebo neutrální sloučeninu in šitu -ozářením nebo· -ohřátím.
Pro monomerní kationty uvedené již písmeny - P, Q, E, A, B, M se dává přednost ultrafialovému ozáření a elektronovým paprskům jakožto vhodným formách ozáření pro převedení radikálkationtů na neutrální sloučeninu.
Ve vodě rozpustné nebo vodou bobtnající polymery vhodné pro matrice zahrnují polyvinylalkohol, polya-mo-niummethakrylát, želatinu, algináty, kopolymery maleinanhydridu, - -například se styrenvinyletherem nebo s - ethylenem.
R^:^]^i^:^tné polysacharidy, jako polysacharóza, se mohou rovněž použít. Polyvinylpyrrolidon je také vhodný a dobrých výsledků se dosáhlo se směsí filmotvorných polyme216153 rů, zvláště se směsí' polyvinylalkoholu s _ polyvinylpy^rolidonem za ' použití ' . ' 40 až 80 : % polyvinylpyrrolidonu.
Podíly :soli a: použitého filmotvorného polymeru nejsou Obzvláště rozhodující a řídí se hlavně praktickými úvahami a požadovanou citlivostí. Typický roztok ' pro lití filmu sestává z 5 až 20 dílů ve ' vodě rozpustného polym;eru, z '0,1 až 10 dílů soli propůjčující citlivost k ozáření jak 'v jednoduchém, tak polymerním stavu a z vody doplňující roztok na 100 dílů. Všechny ' uváděné 'díly a množství j'sou vždy míněny hmotnostně. Skladování a manipulace musí samozřejmě vyloučit záření, ke kterému je materiál citlivý.
Jakkoliv se dává přednost polymerům rozpustným ve vodě, může se použít také polymerů nerozpustných ve vodě, jestliže se rozpustí ve vhodném rozpouštědle. Příkladem je kopolymer 1,6-^-^iiaminotrimet'hylhexanu a tereftalové kyseliny, který může být odléván za vzniku filmu za použití polymerního rozpouštědla, jako je dimethylformamid a vhodná sůl.
Příklady ' sloučenin obsahujících ' dikationty, které mohou být převedeny alespoň na radikálkationty teplem nebo ozářením v přítomnosti polymeru rozpustného ve vodě nebo bobtnatelného vodou, jsou:
| R—-P—R 2X~ kde R je | |
| (9) | —СНз, X = Cl, Br, SiFe, HSO4-, CH3SO4— |
| (10) | |
| (11) | -c^c^-ýo) |
| (12) | Octi, |
| (13) | -0Ηζ00°& |
| CH} | |
| (14) | -c^§) |
| (15) | |
| (16) | —CH2CO NJC2H5)2 |
| (17) | |
| (18) | -CHzC0 |
| (19) | —CH2CO NH-t-but. | X = Cl | |
| X = Cl | (20) | — (CH2)CO CHs | X = Br |
| X = Cl | (21) | —CH2CH2OH | X = Cl |
| X = Cl | (22) | i-prop ' —· (CH^dCCNI X = Cl |
\ i-prop
| X = Cl | (23) | —CH2C0 —o | )CHsX = |
| X = Cl | (24) | —CH3COOC2H5 | X = Br |
| X = Cl | (25) | -O--cn | X =' Cl |
| X = Cl | (26) | X = Cl | |
| X = Cl | (27) | X = Cl | |
| X = Cl | (28) | X = Cl | |
| -© | X = Cl |
(29) t-but = terciární butyl i-prop as isopropyl
Skupiny R mohou být různé jako v
M—R‘ Xkde R‘ je [30) (31)
(33) —СНз X = Cl
Jiné sloučeniny, které byly zkoušeny jsou (34)
СНз—Q—CH3(CH3SO4- )2 (35) (36)
СНз—E—CHa(CH3SO4- )ž (37) в I (co2 чсн2
Barvy radikálkationtů jsou hlavně zelenánebo modrá nebo purpurová, mohou se však získat jiné barvy, například sloučenina (34)poskytuje růžovou barvu.
(38) (39)
CHZ yy 2'Cl
C^-P-CH^ 2-C1 (40)
CH-P-С1С/ХГН.-Р-СН1
CHfP-CH, CH-P-CH3 3 2 * 8 Cl (41)
(42) kde Z je
(43) cr kde B je zásada jako pyridin, monokvaternizovaný · bipyridyl chinolin nebo (M).
(44) (45)
CH-P-2СГ
CHZ-A —
CT Jn
Může se použít polymerních aniontů. Amfoterní sloučeniny, například (47) —ООО000\/
НС—P—CH /\
НзС СНз jsou též účinné.
Roztoky pro bezproudové pokovování jsou dobře popsány v literatuře; zvlášť dobře po psány jsou roztoky pro bezproudové pokovování stříbrem, mědí a niklem.
Nejvhodnější roztoky pro způsob jsou roztoky obsahující kovy VIII skupiny a IB skupiny spolu ' se rtutí, olovem, cínem, antimonem a vismutem.
Může se také použít roztoků obsahujících stříbro a měď a formaldehydem, jakožto redukujícím aldehydem. Všeobecně jsou použitelné také roztoky obsahující stříbro, ve kterých je redukujícím prostředkem, aminofenol, nebo jeden nebo několik jiných běžných organických redukčních prostředků používaných jako fotografické vývojky. Vhodný pokovovací systém pro železo, · kobalt nebo nikl obsahuje , fosfornanový roztok. Příprava specifických roztoků bude popsána v příkladech.
Je známo, že palladium a v menší míře jiné kovy · platinové skupiny, stříbro a zlato katalyzují rozklad roztoků pro bezproudové pokovování. Tohoto jevu se při způsobu podle vynálezu využívá ke zvýšení citlivosti aktivního· substrátu uváděním do styku substrátu se zvýšenou citlivostí se sloučeninou kovu v roztoku a potom uváděním substrátu se zvýšenou citlivostí do styku s roztokem pro· bezproudové pokovování. Může se · použít jednoduché soli palladia: velmi dobře se , hodí chlorid palladia v koncentraci · 0,001 až 10· dílů na 1000 dílů vody. Podobně se může použít solí platiny, jiných platinových kovů, stříbra nebo zlata. Přednost se dává koncentraci roztoků platiny nebo· palladia vyjádřené asi 0,1 dílem na 1000 dílů vody, počítáno na hmot, halogen-ídu. Nejvýhodněji se aktivní substrát ponoří · do roztoku aktivátoru na dobu 0,5 až 5 minut při teplotě 15 až 30 °C, opláchne se a přenese, se do roztoku pro bezproudé pokovování.
Aktivní substrát, případně ještě substrát se zvýšenou citlivostí, se uvádí do styku s roztokem pro bezproudové pokovování po tak dlouhou dobu, · až se nanese žádané množství kovu. To se obyčejně posuzuje vizuálně: barva organické sloučeniny se mění · · a je nahrazována jemně rozptýleným kovem za vzniku temnějšího · obra-zu. Metalizovaný obraz ztmavne, jakmile nejprve vyloučený kov katalyzuje redukci roztoku. Tímto způsobem se optická hustota obrazu zintenzívní.
Jestliže · je aktivní složka obsažena v nos216153 ném filmu na bázi polymeru rozpustného ve vodě nebo bobtnajícího vedou, jako je polyvinylalkohol, jsou nutná určitá opatření к předcházení poškození nebo ztráty substrátu v průběhu zpracování. Jestliže se proces uvádění substrátu do styku s pokovovacím roztokem provádí za studená, například při teplotě místnosti, potom se ve vodě rozpustný polymer musí volit tak, aby jeho rozpustnost ve studeném vodném prostředí byla mnohem menší než v horkém vodném prostředí. Vhodným druhem polyvinylalkoholu je z 99 až 100 °/o hydrolyzovaný polyvinylalkohol c střední nebo vysoké molekulové hmotnosti. Jiným dalším nebo přídavným opatřením je práce v přítomnosti vysoké koncentrace iontů přidáním neaktivních solí. Může se použít 1 až 30 % hmotnostních solí alkalických kovů nebo solí amonných: přednost se dává síranu amonnému, sodnému nebo draselnému v koncentraci 1 až 5 % hmotnostních počítáno- na pokovovací roztoky.
Dalším alternativním nebo přídavným opatřením je předběžná úprava polyvinylalkoholového filmu vodným roztokem boraxu nebo glyoxalovým roztokem к sesítění polymerníeh řetězců; borax se může vnášet do pokovovacího roztoku.
Je také výhodné přidávat do pokovovacího roztoku povrchově aktivní přípravek. Snižuje sklon к příliš brzkému ukládání kovu. Může se použít aminů s dlouhým řetězcem. К témuž účelu se také může použít až do 5 %-, s výhodou okolo 2 % hmotnostních poJyvinylpyrrolidonu.
Používá-li se pokovovacího roztoku na bázi stříbra, jsou nutná určitá opatření к předcházení srážení halogenidů stříbra. Používá se buď substrátu prostého halogenidů, nebo vhodné komplexotvorné přísady a případně s výhodou polyvmylpyrrolidonu v právě uvedené koncentraci.
Jestliže bezproudové pokovování probíhá po dostatečně dlouhou dobu, stane se při nanesení dostatečného množství kovu substrát vodivým. Vodivá kovová vrstva :se potom může dále pokovovat běžným elektrolytickým pokovováním tímtéž kovem nebo jiným kovem. Rovněž plastickým pěnovým hmotám lze touto technikou dodávat vodivost.
Důležitou možností použití způsobu podle vynálezu je vytváření trvalého obrazu nebo intenzifikace obrazu latentního nebo zřejmého na stříbra prostých fotografických systémech, kde je obraz ve formě organických neutrálních volných radikálů, radikálkationtů nebo definovaných neutrálních sloučenin. Přednost se dává solím na bázi sloučenin obsahujících kvartenizované atomy dusíku s řetězcem konjugovaných dvojných vazeb múzí dusíkovými atomy. Všechny již uvedené fotosenzitivní sloučeniny se mohou z tohoto hlediska při způsobu podle vynálezu použít. Fotosenzitivní sloučenina nesena ve vodě rozpustným nebo vodou bob tnatelným polymerem při ozáření zvláště ultrafialovými nebo krátkovlnnými viditelnými paprsky se převádí převážně na radikálkatíonty. Polymerní nosič je schopen stabilizovat vytvořené ra-dikálkationty, avšak případně kombinované působení kyslíku a vlhkosti vybělí obraz, pokud nebyl vysušen. Jestliže se radikálkationtový obraz zpracuje způsobem podle vynálezu, je stálý jako při běžném fotografickém systému a má četné přednosti pro vysokou rozlišovací schopnost souvisící s již popsaným materiálem citlivým ke světlu. Bylo rozlišeno 1500 párů linek mm-1. Musí se však dbáti toho, aby pokovování neproběhlo tak daleko, aby vzrůstající kovová vrstva nesnižovala rozlišovací schopnost. Proto je v některých případech nutné vyvážit rozlišovací schopnost a optickou hustotu.
Filmotvorný polymer může kromě aktivní složky obsahovat přísady [1] pro zlepšení rychlosti, například sloučeniny obsahující aktivní vodík, Jako v alkoholech a aminech včetně alkoholů, fenolů, karboxylových kyselin a cukrů, jako je například glukóza, kyselina šťavelová, p-chlorbenzoová, glycerin, fenol,, ethylendiamintetraoctová kyselina (dvojsodná sůl), pikrová kyselina, glycin, 0-alanin, mellitová kyselina, triethanolamin, thiazin a nikotinamid, adenosin, dinukleotid, fosfát, (2) látky ke zvýšení citlivosti, například sloučeniny rozšiřující rozlišovací citlivost do viditelné oblasti spektra, jako je riboiflavHV jakožto volná zásada, žluť na bázi 3,6-drmethyl-2- (4-dimethylaminofenyl) benzthiazoliumchloridu a alkalické roztoky derivátů dřevné pryskyřice známé jakožto kalafuna, které jsou schopny rozšířit citlivost až do 500 nm nebo nad tuto hodnotu a jiné látky zvyšující citlivost, jako je 3,3‘-diethylthiakyanidjodid, proflavin, akridinová Oranž, akrif lavin, N-methylf enaziniummetJhylsulfát, 4-kyanochinoliniummeth jodid a erythrosin, (3) látky snižující citlivost, například látky, které se mohou přidat ke snížení citlivosti ke světlu, takže se s filmem může manipulovat za denního světla, zahrnující p-aminobenzoovou kyselinu, 6-amino-3,4-ftaloylakridon a urazol, (4) různé aditivy,. například sloučeniny, které se mohou vnášet do filmu к modifikaci citlivosti ke světlu nebo к modifikaci fyzikálních vlastností upraveného materiálu. Například chlorid amonný zlepšuje citlivost ke světlu a také splývavost filmu; ke zlepšení této vlastnosti se může použít také jiných ve vodě rozpustných zvláčňovadel, jako je močovina, glycerin a jiné polyoly. Citlivost к rentgenovým paprskům se může zvýšit zavedením sloučenin kovů o vysoké atomové hmotnosti jako chloridu barnatého.
Samonosné filmy se mohou připravit z polymerů rozpustných ve vodě; tyto filmy mají zpravidla tloušťku 0,2 až 2 mm. S výhodou se však film připravuje jakožto povlak ohebného základu a jako polyethylentereftalo216153 vého filmu, jestliže se tloušťka může snížit na 0,001 až 0,1 mm.
Na film se mohou zaznamenávat data - prostřednictvím ultrafialového nebo viditelného světla vhodné vlnové délky, elektronovým paprskem nebo infračervenými paprsky, které způsobí místní ohřátí filmu na teplotu, při které se vytváří radikálkationt. Exponovaný film se potom zpracuje způsobem podle vynálezu tak - brzy, jak je možné. Jestliže je třeba skladovat exponovaný film po delší dobu před jeho zpracováním, je žádoucí skladovat film v suchém prostředí a/nebo za podmínek vyloučení kyslíku.
Důležitý obor použití je založen na skutečnosti, že -se při bezproudovém pokovování - prováděném po dostatečnou dobu -získá elektricky vodivý produkt, který -může potom být případně dále pokovován běžným elektrolytickým - pokovováním. Proto se může -dodat vodivost každému -výrobku, když - se zavede do něho nebo- na něj vhodná aktivační složka povlakem, napuštěním, postřikem nebo- jiným vhodným způsobem. Aktivační složka se může ostatně odvodit od bipyridylu a. -příbuzných typů sloučenin, jak již bylo· uvedeno. Po- zavedení -nebo vytvoření aktivační složky se výrobek zavede do lázně pro bezproudové pokovování a ponechá -se v této· lázni tak dlouho, až se na předmětu uloží žádané množství kovu, případně se senzibilizační předběžnou úpravou.
Pokovená pěnová plastická hmota se připraví tak, -že se do plastické pěny zavede aktivní -složka, -pěnová hmota se poté bezproudově pokoví, nanesený kov se potom pokoví elektrolyticky a případně se rozpustí, vypálí nebo se jiným způsobem odstraní plastický materiál.
V jiných případech se získává proud ke konstrukci elektrických nebo - -elektronických Zařízení- vytvořením proudového, rozložení aktivační složky nad základním podložním materiálem, například laminováním plastickou hmotou, bezproudovým pokovením, po případné senzibilizaci -a vytvořením kovového povlaku o dostatečné tloušťce -dalším bezproudovým nebo- konvenčním -pokovením. Je -třeba -si všimnout, že není potřeba žádného leptání. Také vzhledem k vysoké rozlišovací schopnosti filmu je možná vysoká hustota složky. Proudy je možno získat také mezi oblastmi různého měrného odporu tím, -že se použije různých kovů v různých místech. První proudové - uspořádání aktivní složky se nanese kovem o vysoké vodivosti, například mědí. V místech, kde je - pozorována nižší vodivost -se - vynechají mezery a nanese se druhé proudové uspořádání aktivní -složky tak, aby zaplnila mezery. Toto je potom pokoveno do -požadované míry kovem o větším měrném odporu, například směsemi nikl-železo. Tato- -technika je použitelná tam, kde se používá - substrátu, ve -kterém je aktivní složka- -vázána - v - polymeru, tj. bipyridilových radikálkationtech obsahujících polymery ve hlavním nebo v bočním řetězci. Například film -obsahující bipyridilovou sůl je vystaven ultrafialovému záření, aby -se vytvořil - první proudový obraz radikálkationtů a tento celek je bezproudově pokoven -v prvním pokovovacím roztoku, tj. mědí. Tam, kde se vyžaduje složka o - větším měrném odporu, jsou ponechány mezery. Jelikož bipyridilová sůl, která není přeměněna na radikálkationt je vázána v substrátu, může být potom vystavena ultrafialovému záření, aby tak vytvořila sekundární obraz radikálkationtů přiřazený k prvnímu. Ten je poté pokoven -druhým pokovovacím roztokem, tj. směsí železo-nikl, aby se vytvořily -citlivé články.
Popřípadě se může tato operace opakovat s různými kovy, avšak kov -o nejnižším měrném -odporu se má ukládat nejdřív.
Typický postup podle vynálezu je objasněn v následujících - příkladech provedení, ve - kterých jsou díly - množství a procenta míněny hmotnostně, pokud není jinak uvedeno.
Příklad 1
Polyvinylalkoholový film -obsahující 10 % procent N.,N,-dimethylbipyridШumdichloridu se- vystaví ultrafialovému ozáření přes negativ různé optické hustoty. Získá se tmavě modrý obraz o optické hustotě v oboru 0,1 až 1,5. Film -se zpracuje ponořením do roztoku pro bezproudové pokovování -při teplotě .20 °C po dobu 20- minut. Připraví se -vývojka z následujících složek rozpustná ve vodě a doplní se na 1000 dílů.
| Bezvodý siřičitan sodný | 20 | dílů |
| Pentahydrát sirnatanu | ||
| sodného | 30 | dílů |
| dusičnan stříbrný | 3,0 | díly |
| 2,4-^I^ii^imn(^fř^i^ol(dihydro- | ||
| chlorid | 1,5 | dílu |
| Bezvodý uhličitan sodný | 1,2 | dílu |
| Bezvodý síran sodný | 40 | dílů |
| Tetraboritan sodný | 4 | •díly |
| Poslední dvě složky -se | přidávají ke sníže- |
ní vlivu vody na polyvinylalkoholový film.
Po promytí a -vysušení se modrá barva ztrácí a je nahrazena tmavě hnědým obrazem o optické hustotě v oboru 0,1 až 2,2.
Podobných výsledků se dosáhne při náhradě síranu sodného síranem draselným (40 dílůj nebo -síranem amonným (60 dílůj.
2,4-Diaminodiienoldihydrochlori'd se nahradí stejným hmotnostním množstvím -p-methylaminofenolsulfátu („m-etol“), p-hydroxyfenylaminooctovou kyselinou („glycin“) nebo p-aminofenolem a získají se dobré výsledky.
Vyššího konstrastu a optické hustoty se dosáhne snížením množství sirnatanu sodného a zvýšením -hodnoty pH přidáním amoniakálního roztoku nebo uhličitanu sodné216153 ho. - Roztok se musí stabilizovat, aby -nedocházelo. k ukládání stříbra přidáním kationaktivních povrchově -aktivních látek a k předcházení srážení kationického činidla se musí přidávat také neionické -činidlo. Vhodné množství' detergentu je 0,001 -až 0,1 procent.
Příklad 2
Vývojka - -vytváří vysokou optickou hustotu, není však vhodná pro filmové materiály, které obsahují halogenidy, protože -dochází -k vysrážení halogenidů -stříbra. Vývojka- se - připraví rozpuštěním následujících složek ve vodě a zředěním na jeden litr.
Kyselina citrónová 20 dílů
Dusičnan stříbrný 1,75 - dílu p-^^tl^^^l;ami^i^<^í^enojlsulfát 4,0 díly
Povrchově aktivní přípravek
Bezvodý síran sodný 40 dílů
Polyvinylalkoholový film obsahující 10- % N,,N‘-dimetéylbipyridiliшnm'ethylsulfátu sevystaví působení ultrafialového -světla přes drátěnou -očkovou mřížku, dokud optická hustota- nedosáhne hodnoty okolo 2. Po ponoření do uvedeného roztoku po dobu 10 minut při teplotě 20 °C, promytí a vysušení má stříbrný obraz optickou -hustotu větší než 4 v exponovaných oblastech.
Příklad 3
Opakuje se způsob popsaný v příkladu - 2, avšak povrch aktivního činidla se nahradí polyvinylpyr-rolidonem (20 dílů). S tímto roztokem byla zjištěna možnost použít aktivních složek obsahujících halogenidy bez nežádoucího- závoje.
Příklad 4
Skleněná deska povlečená želatinou se ponoří- do 10.% vodného- roztoku N,N‘-dimethylbipyridiliumdichloridu. Deska se vysuší a vystaví se působení ultrafialového- světla přes kovovou mřížku.
Po expozici se d-eska ponoří do roztoku obsahujícího
Pentahydrát síranu m&Tnatého 10 dílů
Hydroxid sodný 10 dílů
Vin-a-n sodný 50 dílů doplněného- na 1'000 -dílů, do kteréoo e e přidá 10 dílů 37% formaldehydového roztoku. Modrý obraz změní barvu na tmavo hnědou. Po promytí a vysušení je hustota -větší než 2.
Příklad 5
Skleněná deska povlečená želatinou o tloušťce 0,025 mm -se ponoří do roztoku
N,N‘-dimethylbis( pyridinium) methylsulf átu (1Q%ní vodný roztok) -po dobu - jedné minuty, oplachuje se destilovanou vodou po dobu 5 sekund a nechá se uschnout. Po expozici po dobu - 5 minut přes čárový negativ 100- wattovou rtuťovou -výbojkou při 50 cm se deska ponoří dc· roztoku chloridu palládia připraveného z chloridu palladičitého (0,1 díl), koncentrované solné kyseliny (10 dílů) a vody (do 1000 dílů). Po jedné minutě se deska -vyjme, -promyje se -vodou a vyvine -se v lázni pro bezproudé -niklování připravené z -následujících -složek:
Chlorid nikelnatý (6H2O) 25 dílů
Kyselina maleinová (m-onc-sodná sůl) 6,5 dílů
Glukonová kyselina (sodná -sůl) 55 dílů
Amoniak (roztok o -specifické hmotnosti -0,880) do hodnoty pH 9
Fosfornan sodný 35 dílů
Za jednu minutu se získá černý obraz, optická hustota plně exponované plochy je větší než 3.
Popsaný postup - se opakuje za postupného -použití jakožto sensibilizátoru 0,1 dílu chloridu plstnatého a chloridu -zlatitého s kyselinou solnou (10 dílů) a potom za použití dusičnanu stříbrného (0,1 dílu) s kyselinou dusičnou (10 dílů). Zjišťuje se podobná senzibilizace.
Příklad 6
Opakuje -se postup popsaný v příkladu 5 za použití palladiového senzibilizátoru, avšak doba prodlevy v nikelnatém roztoku se zvýší na 30 minut. Obraz získá - kovový vzhled a je dostatečně vodivý, takže může být elektrolyticky pokoven.
Příklad 7
Polyethylentereftalový film povlečený lakem na bázi alkylové pryskyřice se povlékne roztokem obsahujícím
Póly (N,N‘-p-xylylen-4,4‘-bipyridilium-Dichlorid) 0,5 dílů
Polyvinylalkohol vysokomolekulární, s vysokým hydrolytickým stupněm 10 dílů glyoxalhydrát 1,0 dílu
Ammoniumchlorid 0,2 dílu
Voda do 150 dílů
Roztok se odpaří za vzniku citlivé vrstvy o tloušťce -0,025 mm. Příprava -se provádí za sníženého umělého osvětlení. Film se exponuje přes čárový negativ po dobu tří - minut za podmínek uvedených v příkladu 5. Po expozicí se ponoří do- roztoku chloridu zlatitého (0,5 dílů) a koncentrované kyseliny solné (10 dílů) ve vodě doplňující na 1000 dílů) po- dobu jedné minuty.
Po -proprání se -dokončí vyvolání ponořením do -obchodně dostupného roztoku pro bezproudové, - niklování při teplotě- místnosti po dobu pěti minut. Získá -se - -černý obraz , -s optickou - hustotou -v plně exponované ploše větší než 2.
Příklad 8
Kousek povlečeného filmu připraveného způsobem popsaným v příkladu 7 se exponuje a senzibilizuje solí -palládia způsobem popsaným v příkladu - . 5. Potom se promyje a vyvíjí v následující lázni:
Chlorid kobaltitý (6H2O) 27 dílů
Citran sodný (2H2O) 90 - dílů
Ammoniumchlorid 45 dílů
Fosfornan sodný 7,5- dílů
Voda do 1000 dílů nastavené amoniakálním roztokem na hodnotu 8,5.
Získá se hnědý obraz.
Kousek se podrobí prodlouženému vyvíjení (po dobu 45 minut) a poté dalšímu vyvíjení při -vyšší teplotě (~ 80 °C, po- dobu 3 -minut). V obou případech se- získávají vodivé kobaltové filmy.
Příklad 9
Skleněná deska se povlékne, exponuje a senzibilizuje způsobem popsaným v příkladu 5. Po promytí se želatinová vrstva vytvozuje formaldehydovým zpracováním (po dobu 5 minut v roztoku sestávajícím z následujících složek:
Form'aldehydový roztok (40 % ) 10 dílů
Uhličitan sodný (bezvodý) - 5 dílů
Voda do 1000. dílů
Potom -se vyvíjí v následující lázni po- dobu tří minut při teplotě + 80 °C.
| Chlorid -kobaltnatý (6H2O) | 60 | dílů |
| Chlorid nikelnatý (6H2O) | 2 | díly |
| Vinan sodnodraselný (4H2O) | 200 | dílů |
| Ammoniumchlorid | 50 | dílů |
| Fosfornan sodný | 17 | dílů |
| Voda do | 1000 | dílů |
| Amoniak do | hodnoty pH 9 |
Získá se hustý černý obraz.
Příklad 10
Deska - se povlékne, exponuje -a senzibilizuje způsobem popsaným v příkladě 5 a poté se vyvíjí po dobu deseti - minut při teplotě místnosti - v - následujícím roztoku.
Síran - železnatý (7H2O) 120 dílů
Sitran sodný (2H2O) 170 dílů
Ethylendtamintetracctová kyselina - 50 dílů Fosfocman sodný 8E> dílů
38%. formaldeihydový roztok 220 dílů
Voda 800- dílů roztok hydroxidu amonného do: hodnoty pH 10
Získá se hustý černý -obraz.
Příklad 11
Roztok diftnylpiktylhydrazylu (2% v acetonu) se použije k vytvoření obťazu na kousku polyvinylalkoholového filmu, který se potom usuší v atmosféře dusíku. Film se senzibilizuje 0,1% roztokem chloridu - palladnatého· a potom se vyvine v roztoku pro pomědbvání způsobem popsaným - v příkladu 4. Po pěti minutách má obraz tmavo hnědou barvu. Po 30 minutách je - -obraz kovový a má odpor okolo 200 ohm/cm2.
Příklad 12 :
Polyuretanová pěnová hmota s - otevřenými póry se napustí roztokem obsahujícím:
Polyvmylalkohol 20- dílů
N,N‘-dimethylbipyridiliummethylsulfát 1 díl
Vody do- 1030- - dílů
Pěna se odvodní, vysuší a radikál se vytvoří zahříváním na 100 °C po dobu 30 minut. Pěnová hmota se poté ponoří do pokovovacího roztoku popsaného- v příkladu 4 a červenohnědý - nános- mědi - vytvořený - v- pěnové hmotě je potom vodivý.
Příklad 13
Povrch kousku fenolformaldeihydového laminátu se zdrsní například oděrem .smirkovým papírem, povlékne se následujícím roztokem- a usuší- se.
Polyvinylalkohol 10- - dílů (kesíťující prostředek)
Glyoxalhydrát 1 díl
Parakvatdichlotid 0,5 dílu (kesíťující katalyzátor) Amo-niumchlorid 0,2- - -díly
Voda... 120.- , dílů
Po expozici ultrafialovým světlem· - - přes negativ tištěného spoje se lepenka vyvíjí v následující lázni po dobu 30 minut při teplotě místnosti (20 °C).
Pentahydrát síranu mědnatého
CukO4.5H2O 10 dílů
Vinan - sodnodraselný 50 dílů
Hydroxid sodný 10 dílů
37% formaldehydový roztok IQ- dílů
Voda 1OOO- dílů
Výsledný měděný - -povlak- má -odpor - menší než 1 ohm/cm2 a jeho tloušťka se může dále zvýšit elektrolytickým pokovením nebo dalším ponořením do již uvedeného roztoku. Tlustší vrstvy mědi (0,0025 až - 0,005- -cm) se mohou získat běžnými technikami.
1 6 1 5 3
Příklad 14
Polyethylentereftalový film povlečený lakem na bázi alkydové pryskyřice se povlékne roztokem obsahujícím
N,N‘-p-kyanofenyl-4,4‘-bipyridiliumdimethosulfát 1,0 dílu
Polyvinylalkohol o vysoké molekulární hmotností, vysokého hydrolytického stupně 10 dílů
Glyoxal 0,5 dílů
Kyselina sírová do hodnoty pH 3 až 4
Voda do 100 dílů
Roztok se odpaří při teplotě nepřesahující 75 °C, čímž se ' získá citlivý povlak o tloušťce 0,003 mm.
Příprava se provádí za tlumeného umělého osvětlení. . Film se exponuje elektrony ze snímacího elektronového mikroskopu. Energie elektronů kolísá mezi 10 až 80· keV. Určená velikost skvrny je O,2 až 0,5. μΐη. Barva obrazu je temně zelená. Po vyvíjení v pokovovacím' roztoku podle příkladu 1 po dobu 5 minut má exponovaný film normální čárový vzor. Bylo rozlišeno . 2000 dvojic čar na mm.
Při prodloužené · expozici elektronům je obraz červený v důsledku vytvoření .neutrální sloučeniny a může být rovněž . pokoven roztokem podle příkladu 1.
Příklad 15
Způsobem· popsaným- v příkladu 14 se připraví povlečený polyethylentereftalový film a exponuje se ultrafialovým ozářením ve spektrometru pro elektronovou spinovou rezonanci. Vytvoří se zelené zabarvení radikálkationtu a . spinová koncentrace vzrůstá lineárně s expoziční dobou až do 2,5 X 1015 spinů/cm2. Optická hustota dosahuje 0,5 při 610 nm. Radikálkationtový obraz se ponoří do· pokovovacího roztoku popsaného v příkladu 1 a dosáhne . se velmi tmavě hnědého obrazu o optické hustotě větší než 4.
Příklad 16
Povlečený polyethylentereftalový film se připraví způsobem popsaným v příkladu 14 a exponuje se elektrony ve snímacím elektronovém mikroskopu při energii 50 kev. Exponovaný film má optickou hustotu 0,5 při 610 nm· a radikálovou koncentraci 1,4 X X1O.10 spinů/cm2, měřeno elektronovou spinovou rezonancí. Po ponoření do pokovovacího roztoku popsaného· v příkladu 1 .se obraz zkouší elektronovým mikroskopem a vykazuje rozlišovací schopnost větší než 1500. párů čar/mm.
Příklad 17
Povlečený polyethylentereftalový film se připraví způsobem popsaným v příkladu 14 a exponuje se ultrafialovým· ozářením . přes kovovou mřížku k vytvoření zeleného. .radikálkationtového obrazu. ' Roztok pro bezproudové pokovení má toto složení:
Roztok A
| Síran železnatoamonný | 78 | dílů |
| Dusičnan železitý | 8 | dílů |
| Kyselina citrónová | 10,5 | dílu |
| Povrchově aktivní prostředek | 0,2 | dílu |
| Dodecylam-in | 0,2 | dílu |
| Voda | do 1000 | dílů |
Roztok B
Dusičnan stříbrný Voda
8,5 dílu do 100. dílů
Před použitím jeden díl roztoku B byl smíchán s devíti díly roztoku A. Po pětiminutovém ponoření do tohoto· roztoku se získá černý obraz.
Příklad 18
Připraví se vodný roztok obsahující. 3 díly polymeru obsahujícího jednotky -struktury
- CřW O/- CH^P- 2HSOo a 15 dílů polyvinylalkoholu.
Vytvořený film vytvoří na skleněné desce modrý .nebo purpurový radikálkationtový . obraz při expozici ultrafialovému světlu. Obraz se vyvíjí · roztokem pro pokovování podle příkladu 1 za vzniku černého obrazu.
Příklad 19
Připraví se polymer z p-xylylendichloridu a 2,2‘-bipyridylu. Polymer sestává z opakujících se . jednotek
cF
Polyvinylalkoholový film obsahující tento polymer rychle přesmykuje modrou ba-rvu při expozici slunečním· světlem a při ponoření do pokovovacího roztoku podle příkladu 1 se získá černý povlak.
Příklad 20
Odleje se film z roztoku .obsahujícího 10 procent . polyvinylalkoholu, 1 % N,N‘-bisfenyl-.2,7-diazapyríníumdifluoroborátu, 0,2 % amoniumchloridu, 0,5 % glukózy. Film vystavený působení světla o vlnové délce . do nejméně 436. nm dává radikálkationtový obraz, který zčerná po ponoření do pokovovacího roztoku podle příkladu 3.
Příklad 21
Odleje se film způsobem popsaným v pří kladu 30 za použití l,2-bis(r-methyl-4‘-pyridiniumjethylendimethylsulfátu. Ve· slunečním světle se získá purpurový' obraz, jestliže se exponuje přes kovovou mřížku. Purpurový obraz zčerná ponořením do pokovovací lázně popsané v příkladu 3.
Claims (5)
1. Způsob aktivace organických materiálů zvláště na bázi ve vodě rozpustných nebo ve vodě bobtnajících polymerů před bezproudovým· pokovováním, vyznačený tím, že se do substrátu nebo na substrát ukládá aktivační látka odvozená od kationtu obecného vzorce kde Ri až R12 · znamená atom vodíku, atom halogenu nebo· organickou skupinu a n nulu nebo celé číslo.
2. Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že se do substrátu nebo na substrát ukládá aktivační látka odvozená od kationtu ze skupiny zahrnující 4,4‘-bipyridyliový, 4,4‘-bichi noliniový, l,2-bis-(4-pyridyl)ethylenový, 2,7-diazapyridiniový, ' 2,2‘-bipyridylový nebo· 4- (4‘-pyridy 1) pyridiniový kationt.
3. Způsob podle bodu 1 nebo 2!· vyznačený tím, že se do substrátu nebo na substrát ukládají aktivační látky odvozené alespoň od jednoho kationtu vzorce 3 až 47
C3)
4,4‘-bipyridylium· (P) (4)
4,4‘-bichlnolinium (Q) (5) (aj (7)
O
1,2-bis (4-pyridy! j-ethylen (E)
2,7-diazapyrinium (A)
2,2,-bipyridyl ' (B)
4-(4‘-pyridyl)pyrldinium (M) kde R znamená:
[9] —CH3, X = Cl, Br, SiFe, HSOá—, CH3SO4— (10·)
-CH^CH.
X = Cl
t-but = terciární butyl i-prop = isopropyl
(41) (43) (47) —OOC
COO
4CÍ kde В je zásada jako pyridin, chinolin nebo monokvaternizoivaný bipyridyl (M), (44) (45)
4. Způsob podle bodů 1 až 3, vyznačený tím, že se substrát před ukládáním aktivační látky uvádí do styku se senzibilizátorem, kterým je roztok sloučeniny kovu ze skupiny platiny, zvláště roztok sloučeniny paládia. nebo roztok sloučeniny stříbra nebo sloučeniny zlata.
5. Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že se do substrátu nebo na substrát ukládá aktivační složka odvozená od kationtu sloučeniny vzorce
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB5786269 | 1969-11-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS216153B2 true CS216153B2 (en) | 1982-10-29 |
Family
ID=10480208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS707979A CS216153B2 (en) | 1969-11-26 | 1970-11-26 | Method of activation of organic material |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS216153B2 (cs) |
| GB (1) | GB1335962A (cs) |
| SU (1) | SU674680A3 (cs) |
| ZA (1) | ZA707588B (cs) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2003262021A1 (en) * | 2002-09-09 | 2004-03-29 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Plated polyester resin article and method for production thereof |
-
1969
- 1969-11-26 GB GB5786269A patent/GB1335962A/en not_active Expired
-
1970
- 1970-11-09 ZA ZA707588A patent/ZA707588B/xx unknown
- 1970-11-23 SU SU701494347A patent/SU674680A3/ru active
- 1970-11-26 CS CS707979A patent/CS216153B2/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA707588B (en) | 1971-08-25 |
| GB1335962A (en) | 1973-10-31 |
| SU674680A3 (ru) | 1979-07-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5443865A (en) | Method for conditioning a substrate for subsequent electroless metal deposition | |
| US3993802A (en) | Processes and products for making articles for electroless plating | |
| US4701351A (en) | Seeding process for electroless metal deposition | |
| US3223525A (en) | Method of manufacturing, by photographic means, external, electrically conductive noble-metal patterns on non-metallic, electrically non-conductive, macromolecular supports and products obtained by these methods | |
| US5242713A (en) | Method for conditioning an organic polymeric material | |
| US4192764A (en) | Stabilizing composition for a metal deposition process | |
| US4066804A (en) | Metal deposition process | |
| US4084023A (en) | Method for depositing a metal on a surface | |
| WO1996003757A1 (en) | Process for preparing selectively conductive materials by electroless metal deposition and product made therefrom | |
| US4133908A (en) | Method for depositing a metal on a surface | |
| US4181750A (en) | Method of depositing a metal on a surface | |
| US5203955A (en) | Method for etching an organic polymeric material | |
| US3853589A (en) | Metal deposition process | |
| CN104250731A (zh) | 含五元杂环氮化合物的化学镀金属化催化剂 | |
| JPH0354872B2 (cs) | ||
| CS216153B2 (en) | Method of activation of organic material | |
| USRE29039E (en) | Metal deposition process | |
| US3859092A (en) | Photographic systems based on photosensitive copper (i) complexes | |
| US5135779A (en) | Method for conditioning an organic polymeric material | |
| US3980654A (en) | Copper (II) complexes | |
| US6635410B2 (en) | Metallizing method for dielectrics | |
| Jonker et al. | Principles of PD recording systems and their use in photofabrication | |
| CA1062071A (en) | Method of manufacturing an external electrically conducting metal pattern | |
| PL83099B1 (en) | Metal deposition on radicals[ca939989a] | |
| US3130052A (en) | Method of manufacturing, by photographic agency, internal and/or external images on and/or in macromolecular supports with mercury and silver salts germ introduction baths |