CS215466B1 - The material surface activation solution is a weak catalytic activity prior to electroless chemical plating - Google Patents
The material surface activation solution is a weak catalytic activity prior to electroless chemical plating Download PDFInfo
- Publication number
- CS215466B1 CS215466B1 CS931580A CS931580A CS215466B1 CS 215466 B1 CS215466 B1 CS 215466B1 CS 931580 A CS931580 A CS 931580A CS 931580 A CS931580 A CS 931580A CS 215466 B1 CS215466 B1 CS 215466B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- cooh
- chemical plating
- catalytic activity
- electroless chemical
- solution
- Prior art date
Links
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
Vynález řeší roztok pro aktivaci povrchu mate riálů se slabou katalytickou účinností před bez proudovým chemickým pokovováním jednostup- ňovým aktivátorem. Podstata roztoku spočívá v tom, že je složen ze solí alespoň jednoho z těchto kovů: stříbro, zlato, platina, paládium, iridium, ruthenium, rhodium, s výhodou paládium, v němž je kov obsažen v množství 0,01 až 10 g/1, s výhodou 0,1 až 0,5 g/1, a z organické komplexotvorné látky, v molárním poměru 1:1 až 1 : 50, s výhodou 1 : 10 až 1 : 30. í Vynálezu může být využito v elektrokeramice při výrobě korundových dílů spájených molybdeno vou nebo molymanganovou vrstvou, v oboru pouz der pro integrované obvody.The invention provides a solution for activating the surface of materials with poor catalytic efficiency before electroless chemical plating with a single-stage activator. The essence of the solution is that it is composed of salts of at least one of the following metals: silver, gold, platinum, palladium, iridium, ruthenium, rhodium, preferably palladium, in which the metal is contained in an amount of 0.01 to 10 g/1, preferably 0.1 to 0.5 g/1, and of an organic complexing agent, in a molar ratio of 1:1 to 1:50, preferably 1:10 to 1:30. The invention can be used in electroceramics in the production of corundum parts soldered with a molybdenum or molymanganese layer, in the field of housings for integrated circuits.
Description
í Vynálezu může být využito v elektrokeramice při výrobě korundových dílů spájených molybdenovou nebo molymanganovou vrstvou, v oboru pouzder pro integrované obvody.The invention can be used in electroceramics in the production of corundum parts soldered by molybdenum or molymangan layers, in the field of integrated circuit enclosures.
Vynález se týká roztoku pro aktivaci povrchu materiálů se slabou katalytickou účinností před bezproudovým chemickým pokovováním jednoí stupňovým aktivátorem.The present invention relates to a solution for activating the surface of materials with poor catalytic activity prior to electroless chemical plating with a single-stage activator.
V současné době je přímé pokovování materiálů se slabou katalytickou účinností, které snadno vytváří povrchovou pasivní vrstvu, nemožné. U těchto kovů se musí před pokovením odstranit povrchová pasivní vrstva. Podle charakteru vrstvy ; se používají alkalická nebo kyselá činidla, která však nemohou být oplachována a jsou tak přenášena do pokovovací lázně, kterou tím rychle znehodnotí. Jiný způsob odstranění vlivu pasivity povrchové vrstvy je opatření povrchu zárodečnými i centry pro pokovování pomocí příměsí v pokovované vrstvě. Nedostatkem všech známých způsobů je obtížná realizovatelnost s vysokým stupněm zmetkovitosti.At present, direct plating of materials with poor catalytic efficiency which readily forms a surface passive layer is impossible. For these metals, the surface passive layer must be removed before plating. According to the character of the layer; Alkaline or acidic agents are used but cannot be rinsed and are thus transferred to the plating bath, which is thereby quickly destroyed. Another way of eliminating the effect of the surface layer passivity is to provide the surface with both embryonic and metallization centers by impurities in the metallized layer. A disadvantage of all known methods is the difficult feasibility with a high degree of scrap.
Nedostatky současného stavu techniky jsou odstraněny roztokem pro aktivaci povrchu materiálů se slabou katalytickou účinností, jehož podstatou je, že se skládá z 0,01 až 10 g/l stříbra, zlata, platiny, paládia, iridia, ruthenia, rhodia ve formě jejich solí, a to jednotlivě, nebo ve vzájemné kombinaci, a z organické komplexotvorné látky, nebo ve vzájemné kombinaci, a z organické komplexotvorné látky, v molárním poměru 1 : 1 až 1 : 50. Organickou komplexotvornou látku tvoří; kyselina alfahydroxymonokarboxylová s obecným vzorcemThe shortcomings of the state of the art are eliminated by a solution for activating the surface of materials with poor catalytic efficiency, consisting of 0.01 to 10 g / l of silver, gold, platinum, palladium, iridium, ruthenium, rhodium in the form of their salts, individually or in combination with each other and from an organic complexing agent, or in combination with each other, and from an organic complexing agent in a molar ratio of 1: 1 to 1:50. alphahydroxymonocarboxylic acid of the general formula
Rj —(R2)„—CH2OH—COOH, kde R2 je tvořeno skupinouR 1 - (R 2 ) n -CH 2 OH-COOH, wherein R 2 is formed by a group
CH2- nebo CHOH a n = 0 až 4, kyselina dikarboxylová s obecným vzorcem COOH—(CH2)n—COOH, kde η = 1 až 4, kyselina trikarboxylová s obecným vzorcem COOH—Rj-R2—Rj-COOH, kde R, jsou tvořeny skupinou COOH —CH2— nebo CH(OH) — a R2 skupinou — CH—, nebo — C(OH)— a aminokyseliny a kyselina ethylendiaminotetraoctová, popřípadě je3 jich soli, a to jednotlivě nebo ve vzájemné kombinaci.CH 2 - or CHOH and n = 0 to 4, a dicarboxylic acid of the formula COOH - (CH 2 ) n - COOH, where η = 1 to 4, a tricarboxylic acid of the formula COOH - R 1 - R 2 - R 3 - COOH, where R 1 is COOH-CH 2 - or CH (OH) - and R 2 is -CH 2 - or - C (OH) - and the amino acids and ethylenediaminotetraacetic acid or salts thereof, individually or in combination.
Výhodou vynálezu je, že se při ponoření do aktivačního roztoku neaktivuje povrch izolantu, přičemž se spolehlivě odstraní pasivní vrstva na materiálech se slabou katalytickou účinností, a že přitom je možno předmět dokonale před vlastním pokovováním opláchnout, aby se neznehodnocovala pokovovací lázeň.It is an advantage of the invention that the immersion surface is not activated when immersed in the activation solution, reliably removing the passive layer on materials with poor catalytic efficiency, while allowing the article to be rinsed thoroughly prior to metallization in order not to degrade the plating bath.
Vynález bude blíže vysvětlen a popsán na příkladu možného provedení. Aktivační roztoky byly použity pro aktivaci povrchu žárově vypálených molybdenových a wolframových vodivých dráh, které jsou známy tvořením pasivních povrchových vrstev, před jejich bezproudovým chemickým niklováním a měděním. Chemickým bezproudovým způsobem vytvořená vrstva niklu nebo mědi zajistila dobrou smačitelnost těchto povrchů tvrdou i měkkou pájkou.The invention will be explained and described in more detail by way of example. Activating solutions were used to activate the surface of the hot-burnt molybdenum and tungsten conducting pathways known to form passive surface layers before their electroless chemical nickel plating and copper plating. The electroless nickel or copper layer produced by chemical free current provided good wettability with hard and soft solder.
V konkrétním příkladu byla provedena aktivaceIn a specific example, activation was performed
V dalším konkrétním příkladu byla provedena aktivace povrchu v lázni o složení:In another specific example, the surface was activated in a bath of the composition:
Roztoku pro aktivaci povrchu materiálu se slabou katalytickou účinností před bezproudovým chemickým pokovováním může být použito při niklování nebo mědění molybdenových, molybdenmanganových, wolframových apod. pálených vodivých drah k zajištění smáčivosti pájkou.The surface activation solution of poor catalytic activity material prior to electroless chemical plating can be used in nickel plating or copper plating of molybdenum, molybdenum manganese, tungsten and the like burnt conductors to provide wettability by solder.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS931580A CS215466B1 (en) | 1980-12-24 | 1980-12-24 | The material surface activation solution is a weak catalytic activity prior to electroless chemical plating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS931580A CS215466B1 (en) | 1980-12-24 | 1980-12-24 | The material surface activation solution is a weak catalytic activity prior to electroless chemical plating |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS215466B1 true CS215466B1 (en) | 1982-08-27 |
Family
ID=5443894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS931580A CS215466B1 (en) | 1980-12-24 | 1980-12-24 | The material surface activation solution is a weak catalytic activity prior to electroless chemical plating |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS215466B1 (en) |
-
1980
- 1980-12-24 CS CS931580A patent/CS215466B1/en unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4232060A (en) | Method of preparing substrate surface for electroless plating and products produced thereby | |
| DE69728812T2 (en) | Method for increasing the solderability of a surface | |
| DE797690T1 (en) | PRODUCTION OF PRINTED CIRCUITS | |
| US5212138A (en) | Low corrosivity catalyst for activation of copper for electroless nickel plating | |
| DE795043T1 (en) | COATING WITH SILVER | |
| US4144118A (en) | Method of providing printed circuits | |
| US5518760A (en) | Composition and method for selective plating | |
| US5468515A (en) | Composition and method for selective plating | |
| US5843517A (en) | Composition and method for selective plating | |
| KR100761608B1 (en) | Palladium Removal Solution and Palladium Removal Method | |
| US5219815A (en) | Low corrosivity catalyst containing ammonium ions for activation of copper for electroless nickel plating | |
| JP2785102B2 (en) | Electroless gold plating method | |
| CS215466B1 (en) | The material surface activation solution is a weak catalytic activity prior to electroless chemical plating | |
| WO2001076334A1 (en) | Method for producing solderable and functional surfaces on circuit carriers | |
| CN1876891B (en) | Method for direct metallization of non-conducting substrates | |
| DE19631565A1 (en) | Uniform adherent palladium contact bump production | |
| JPH0610146A (en) | Method for obtaining platinum metal layer with very high catalytic activity | |
| JP2004323963A (en) | Gold plating liquid | |
| JP2004332036A (en) | Electroless plating method | |
| KR100186952B1 (en) | Electroless Plating of Palladium or Palladium Alloys on Copper and Iron-Nickel Alloys | |
| JPH06145994A (en) | Catalyst solution for selective electroless nickel plating and electroless nickel plating method using this solution | |
| JP2020105543A (en) | Replacement gold plating solution and replacement gold plating method | |
| JPH0480374A (en) | Production of printed circuit board | |
| JPH02104671A (en) | Palladium activator and electroless plating method for ceramic substrates | |
| JPH0669609A (en) | Electronic component substrate and manufacturing method thereof |