CS209294B1 - Frit for preparation of basic enamel for dry coating in electrostatic field - Google Patents

Frit for preparation of basic enamel for dry coating in electrostatic field Download PDF

Info

Publication number
CS209294B1
CS209294B1 CS738379A CS738379A CS209294B1 CS 209294 B1 CS209294 B1 CS 209294B1 CS 738379 A CS738379 A CS 738379A CS 738379 A CS738379 A CS 738379A CS 209294 B1 CS209294 B1 CS 209294B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
oxide
frit
enamel
electrostatic field
preparation
Prior art date
Application number
CS738379A
Other languages
Czech (cs)
Slovak (sk)
Inventor
Artur Dusanek
Stefan Haraslin
Original Assignee
Artur Dusanek
Stefan Haraslin
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Artur Dusanek, Stefan Haraslin filed Critical Artur Dusanek
Priority to CS738379A priority Critical patent/CS209294B1/en
Publication of CS209294B1 publication Critical patent/CS209294B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/06Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing halogen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

(54) Frita pre přípravu základného smaltu k nanášaniu za sucha v elektrostaticko!» poli(54) Frit for the preparation of basic enamel for dry application in the electrostatic field

Vynález sa týká frity pre přípravu základného smaltu k nanášaniu za sucha v elektrostatickom poli, vhodnej najma pre spósob nanášania základíného a krycieho smaltu s jedným vypalováním.The invention relates to a frit for the preparation of dry-base enamel in an electrostatic field, suitable in particular for a method of applying single-firing base and top enamel.

Známe frity tohto druhu podlá súčasného stavu techniky majú, popři všetkých výhodách, vyplýva;júcich z jednorázového vypalovania, svoju nevýhodu v tom, že sú náročné na povrchová predúpravu plechu, t. j. na odmasťovanie a morenie.Known frits of this kind according to the state of the art have, in addition to all the advantages resulting from disposable firing, the disadvantage that they are demanding for surface pre-treatment of the sheet, i.e. for degreasing and pickling.

Tieto nevýhody v značnej miere odstraňuje frita podlá vynálezu, ktorého podstata spočívá v tom, že frita obsahuje v hmotnostnej koncentrácii:These disadvantages are largely eliminated by the frit according to the invention, which consists in the fact that the frit contains, by weight concentration:

kysličník křemičitý silicon dioxide SiO2 .SiO 2 . . A26až30% . A26up30% kysličník boritý boric oxide B2O3 B 2 O 3 . . 20 až 24% . . 20 to 24% kysličník sodný natron Na2ONa 2 O . . 19 až 23% . . 19 to 23% kysličník draselný potassium oxide K2O .K 2 O. .. 3,7 až 4,3% .. 3.7 to 4.3% kysličník železitý ferric oxide Fe2O3 Fe 2 O 3 1,4 až 1,65% 1.4 to 1.65% fluorid vápenatý calcium fluoride CaF2 CaF 2 . . 6,2 až 6,6 % . . 6.2 to 6.6% kysličník fosforečný Phosphorus pentoxide P2OS .P 2 O N. .. 0,9 až 1,1% .. 0.9 to 1.1% kysličník nikelnatý nickel oxide NiO . NiO. .. 0,9 až 1,1% .. 0.9 to 1.1% kysličník hlinitý alumina A12O3 A1 2 O 3 . 3,7 až 4,3% . 3.7 to 4.3% kysličník barnatý barium oxide BaO BaO .. 3,7 až 4,3% .. 3.7 to 4.3% kysličník vápenatý calcium oxide CaO CaO .. 4,7 až 5,3% .. 4.7 to 5.3% kysličník kobaltnatý cobalt oxide CoO CoO .. 0,76 až 0,84% .. 0.76 to 0.84% kysličník manganičitý manganese dioxide MnO2 MnO 2 . 1,2 až 1,4% . 1.2 to 1.4%

Výhodou frity pódia vynálezu popři tom, že ide o fritu vhodnú pre nanášanie základného smaltu v procese s jedným vypalováním, je.aj to, že je menej náročná na povrchová predúpravu plechu. Aj pri vynechaní morenia z povrchovej predúpravy si smalt zachovává velmi dobrú prídržnosť.The advantage of the frit according to the invention, while being a frit suitable for applying a base enamel in a single firing process, is that it is less demanding for surface pre-treatment of the sheet. Even if the pickling is omitted from the surface pre-treatment, the enamel retains a very good adhesion.

V dalšom je uvedený jeden z príkladov zloženia , frity, ktorej zložky sú vyjádřené v hmotnostnej koncentrácii:The following is one example of a frit composition whose components are expressed in weight concentration:

kysličník křemičitý SiO2 ..........28 % kysličník boritý B2O3 .........22 % kysličník sodný Na2O .........21% ' kysličník draselný K2O .......... 4 % kysličník hlinitý A12O3 ........ 4 % kysličník barnatý BaO ......... 4 % kysličník, vápenatý CaO .......... 5 % kysličník železitý Fe2O3 ........ 1,5% fluorid vápenatý CaF2 ......... 6\4 % kysličník fosforečný P2O5 ......... 1 % kysličník nikelnatý NiO .......... J %’ kysličník kobaltnatý CoO ......... 0,8 %, kysličník manganičitý MnO2 ........ 1,3%silicon dioxide SiO 2 ....... 28% boron oxide B 2 O 3 ......... 22% sodium oxide Na 2 O ......... 21% ' potassium oxide K 2 O .......... 4% aluminum oxide A1 2 O 3 ........ 4% barium oxide BaO ......... 4% calcium oxide CaO .......... 5% ferric oxide Fe 2 O 3 ........ 1.5% calcium fluoride CaF 2 ......... 6 \ 4% phosphorus pentoxide P 2 O 5 ......... 1% nickel oxide NiO .......... J% 'cobalt oxide CoO ......... 0,8%, manganese dioxide MnO 2 ........ 1.3%

Spftsobi aplikácie frity podlá vynálezu je nasledóviíý:The application of the frit according to the invention is as follows:

Frita s;a zomelie s vhodným hydrofobizačným prostriedkom, t. j. obafovadlom na konečnú jemnost’ mletia so zvyškom 2,3 až 8 % hmotnosti naFrit s and grind with a suitable hydrophobizing agent, i.e. a finish fineness grinding with a balance of 2.3 to 8% by weight

2.09294 site 63 gm, aleho so zvyškom 1,3 až 4,9% hmotnosti na site 78 μ á preoseje sa cez šito 250 μπι. Prášok musí mať měrný elektrický odpor minimálně ΙΟ12 Ω . m a vhodnú fluiditu. Prášok tohoto smaltu sa nastrieka v elektrostatickom poli tak, že sa vytvoří vrstva o plošnej hustotě nánosu2.09294 sieve 63 gm, but with a balance of 1.3 to 4.9% by weight on a 78 μ sieve and sieved through a 250 μπι sieve. The powder must have a specific electrical resistance of at least ΙΟ 12 Ω. has suitable fluidity. The powder of this enamel is sprayed in an electrostatic field so as to form a layer of surface density

Claims (1)

PŘEDMĚTSUBJECT 75 až 125 g. m-2 a na tuto vrstvu sa nanesie vhodný krycí titaniěitý smalt o plošnej hustotě 250 až 300 g. m-2. Potom sa obidve vrstvy naraz vypália pri teplote 800 až 820 °C.75 to 125 g. M -2, and this layer is applied titaniěitý suitable covering enamel with a surface density of 250-300 g. M -2. The two layers are then baked at a temperature of 800 to 820 ° C. Ako podkladový materiál možno použit plech z neukTudnenej, ga studená valcovanej ocele.As a base material, a sheet of non-cold and cold rolled steel can be used. VYNÁLEZUOF THE INVENTION Frita pre přípravu základného smaltu k nanášaniu za sucha v elektrostatickom poli, vyžnačujúca sa tým, že obsahuje hmotnostnú koncentráciu:Frit for the preparation of basic enamel for dry deposition in an electrostatic field, characterized in that it contains a weight concentration of: kysličník křemičitý silicon dioxide SiO2 . . .SiO 2 . . . 26 až 30% 26 to 30% kysličník boritý boric oxide :Ba.O3 ..: Ba .. 3 .. 20 až 24% 20 to 24% kysličník sodný natron 2o . .n » 2 o. . 19 až 23% 19 to 23% kysličník draselný potassium oxide K2O*.....K 2 O * ..... 3,7 až 4,3% 3.7 to 4.3% kysličník hlinitý alumina al2o3 .al 2 o 3 . 3,7 až 4,3% 3.7 to 4.3%
kysličník barnatý barium oxide BaO . BaO. . 3,7 až 4,3 % . 3.7 to 4.3% kysličník vápenatý calcium oxide CaO . CaO. . 4,7 až 5,3 % . 4.7 to 5.3% kysličník železitý ferric oxide Fe2O3 Fe 2 O 3 . 1,4 až 1,65% . 1.4 to 1.65% fluorid vápenatý calcium fluoride CaF2 .CaF 2 . . 6,2 až 6,6% . 6.2 to 6.6% kysličník fosforečný Phosphorus pentoxide p2o5 .p 2 o 5 . . 0,9 až 1,1% . 0,9 to 1,1% kysličník nikelnatý nickel oxide NiO ... NiO ... . 0,9 až 1,1% . 0,9 to 1,1% kysličník kobaltnatý cobalt oxide CoO .. CoO .. , . 0,76 až 0,84% ,. 0.76 to 0.84% kysličník manganičitý manganese dioxide MnO2 .MnO 2 . . 1,2 až 1,4% . 1.2 to 1.4%
CS738379A 1979-10-31 1979-10-31 Frit for preparation of basic enamel for dry coating in electrostatic field CS209294B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS738379A CS209294B1 (en) 1979-10-31 1979-10-31 Frit for preparation of basic enamel for dry coating in electrostatic field

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS738379A CS209294B1 (en) 1979-10-31 1979-10-31 Frit for preparation of basic enamel for dry coating in electrostatic field

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS209294B1 true CS209294B1 (en) 1981-11-30

Family

ID=5422863

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS738379A CS209294B1 (en) 1979-10-31 1979-10-31 Frit for preparation of basic enamel for dry coating in electrostatic field

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS209294B1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0397633A (en) Glass composition and usage thereof
EP1047554B1 (en) Porcelain enamel composition for electronic applications
CA1113804A (en) Process for preparing dual coat ceramic layer by single firing
US5677250A (en) Low-temperature lead-free glaze for alumina ceramics
US3953646A (en) Two-component ceramic coating for silica insulation
EP0358933A2 (en) Enamel frits for acid-resistant single layer enamels on unetched steels
CN109437569B (en) Negative ion ceramic tile and preparation method thereof
US3888796A (en) Semiconductive glaze compositions
US2753271A (en) Vitreous enamels and enameling processes
US2842458A (en) Low temperature vitreous coatings for steel
US3715196A (en) Low-expansion glass-ceramic cementing method
CN114379240A (en) Thermal print head substrate with composite lead-free protective layer and manufacturing method thereof
US2864721A (en) Plural coat enameling process
CS209294B1 (en) Frit for preparation of basic enamel for dry coating in electrostatic field
US3380846A (en) Matte surface vitreous enamels and articles made therefrom
PL160100B1 (en) Basic enamel for only one fired multilayer coatings
US3906124A (en) Method of applying vitreous enamel ground coat
US3849142A (en) Barium- or strontium-containing glass frits for silver metallizing compositions
CS216270B1 (en) Sintered glass for preparation of the ground enamel for the dry coating in the electrostatic field
GB1413713A (en) Protecting iron surface from molten metal by adherent enamel layer
SU398517A1 (en) GLAZED COATING
JPH0451502B2 (en)
JPH01145347A (en) Aluminum enamel article having high brightness
US3095321A (en) High hardness porcelain enamel composition, method of coating therewith and article produced thereby
JPH0375238A (en) Enamel frit