CS205287B1 - Method of preparation of light sensitive copying layer for photomechanical negative printing plates - Google Patents
Method of preparation of light sensitive copying layer for photomechanical negative printing plates Download PDFInfo
- Publication number
- CS205287B1 CS205287B1 CS356576A CS356576A CS205287B1 CS 205287 B1 CS205287 B1 CS 205287B1 CS 356576 A CS356576 A CS 356576A CS 356576 A CS356576 A CS 356576A CS 205287 B1 CS205287 B1 CS 205287B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- photomechanical
- preparation
- light sensitive
- printing plates
- sensitive copying
- Prior art date
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 15
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 claims description 4
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 azides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate Substances CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
SOCIALISTICKÁ I POPIS VYNÁLEZU
1 ’·> K AUTORSKÉMU OSVEDČENIU 205287 (II) (Bl)
/22/ Přihlášené 28 05 76/21/ /PV 3565-76/ (51) Int. Cl.3G 03 F 7/10 (40) Zverejnené 29 08 80
ÚŘAD PRO VYNÁLEZY (1.51 Vydané 15 11 82
A OBJEVY (7.51 LAPČÍK Í.LBOMÍR doc. ing. CSc., LAZÁR MILAN ing . DrSc., \ulor ivtiáh-zu ČÍK GABRIEL ing., BRATISLAVA, MARKUS STANISLAV ing. CSc., REVÚCA, VALAŠEK JAROSLAV ing., LAZY pod Makytou, PANÁK JÁN ing.,
BLAŽEJ ΑΝΙΌΝ prot. ing. DrSc. a REISER VLADIMÍR ing. CSc., BRATISLAVA (54) Spósob přípravy svetlocitiivej kopirovacej vrstvy pre fotomechanickénegativna tlačové došky
Vynález sa týká sposobu přípravy svetlocitiivej kopirovacej vrstvy pre fotomechanické ne-gatívne tlačové došky.
Tvorba kopírovaného obrazu je založená na presietení lineárnych makromolekul prírodného,alebo syntetických kaučukov birad-ikálmi oligomérneho styrénu, vznikajúcimi vo fotochemickomprocese ožiarovania UV svetlom za a bez přítomnosti kyslíka. V súčasnom období sa na výrobu kopírovacích vrstíev pre fotoreprodukciu používají! zlo žitépolymérne kompozície. Optický záznam je sprostredkovaný zosietením rečazových molekul poly-raérov na osvětlených miestach fotoreaktívnym sietovacím činidlům. Hustota vznikajúcej sietezávisí od množstva absorbovaných světelných kvant. Ako sieťovacie činidla sa používají! zloži-té organické ziiíčeniny ako azidy, diazidy a spiropyrány. 'Tvorba obrazu u všetkých kopírovacích kompozicí! je založená na zraene fyzikálnych a me-chanických vlastností polymérov, hlavně rýchlosti napučievania a rozpustnosti. Principom tvor-by obrazu je vznik nerozpustného zosieteného polymeru po osvětlení nezosieteného polymeruluČmi UV žiarenia. Okrem tohto postupu vzniku obrazu možno použit aj klasická fotopo 1 ytneriá-ciu osvětlením rozpuštěného monomeru za přítomnosti vhodného polymeri zač ného iniciátora. Závažným nedostatkom doteraz používaných postupov je zložitosč kopírovacích kompozicí!,ich náročná příprava z hladiska konkrétnej technologie a vysoká cena.
Tieto nedostatky v podstatnej miere odstraňuje sposob přípravy svetlocitiivej kopirovacejvrstvy pre fotomechanické negativné tlačové došky pod fa vynálezu, ktorého podstata spočíváv tom, že sa sve11 oci11i vá polymérna vrstva připraví z polymérov butadiúnu, chloroprénu nebo 205287 205287 prírodného kaučuku za přítomnosti 1 až 15 Z hmotnostních oligomornebo styrénu. Svet loci11ívákompozicia sa připraví rozpuštěním zvlášť polymeru a zvlášť oligomérneho styrénu vo vhodnomrozpúšťadle a ich roztoky podlá vyžadovaného poměru sa zmicšajú.
Koncentrácia polymeru v roztoku sa móže v závislosti od sposobu nanášania na kovová podlož-**ku a požadovanej hrůbky vrstvy pohybovať v rozmedzí I až 10 7. hmot. Koncentrácia oligomérnehostyrénu v roztoku je v rozsahu 0,5 až 10 Z hm. Ako rozpúšťadla je vhodné použiť chlórovanéa aromatické uhlovodíky. Získaným svetlocitlivým roztokom sa ovrství kovová platina na hoři-zontálnej odstredivke máčaním alebo poliatím. Před vlastným nanesením sve11oci11 ivej vrstvyje potřebné povrch kovověj platné v závislosti od jej povrchovej struktury dokonale očistita odmaštiť.
Osvětlením ovrstvenej kovověj vrstvy cez fubovoíná masku, alebo filmový negativ sa získálatentný obraz, pričom doba osvitu závisí od síly použitého zdroja a hrábky nanesencj vrstvy.
Proces vyvoiávania sa skládá z dvoch operácií. temperováním osvetlenej platné na teplotu130 až 150 °C po dobu 5 mináť dochádza k rozloženiu oligomérneho styrénu a stíčasne zosieteniupolymeru. Nezosietené míesta sa rozpustia a dokladné vyčistia chlorovanými alebo aromatický-mi uhfovodíkmi. Zbytky rozpášťadiel sa odstránia opátovným p i ťmi nútovýtn zahriatím celej plat-né na 110 °C. Zvýšenie hydrofility sa dosiahne vtieraním klasických ofsetových vlhčiacichroztokov na báze ety 1 én-g1yko1u. Po tejto úpravě vytvořený obraz sa vyfarbí a nakonzervuje. Přikladl
Svetlocitlivý roztok pozostáva z 2 g po 1 ybutad iénu a 0,1 g oligomérneho styrénu rozpuště-ných v 100 ml benzenu. Hliníková platňa sa po dokonalom očistění áčinkom kyselin a organic-kých rozpúšťadiei ovrství nanesením svetlocitlivého roztoku v horizontálnej odstredivke.
Po dokonalom odpaření rozpúšťadla sa z negativu vykopíruje obraz presvietenim zdrojom UVsvětla /4 000 WZ zo vzdialenosti 1 m po dobu 90 s. Vykopírovaný obraz sa temperuje pri 130 °Cpo dobu 5 min. Vyvolávanie sa prevádza rozpášťaním nczosieteného polymeru dífúznym procesom,rozpuštěním v trich1orety1éne. P r i k 1 a d 2
Svetlocitlivýna hmotu polymeruvolávania obrazu. roztok ako v příklade I, obsahujúci naviac 0,4 Z hmot. organického pigmentuza účelom zafarbenia polymérnej vrstvy, a tým zlepšcnia sledovania a vy-ňal Š i postup jc ako v příklade 1. Příklad 3
Svetlocitlivý roztok obsahujáci 2 Z hmot. chloroprénu v chloroforme a 5 Z hmot. vzhla-dom na polymer oligomérneho styrénu. Ovrstvenie sa uskutoční na dokonale očistenom povrchupodkladu tlačovej platné. Ďalsí postup ako v příklade 1. Př íklad 4
Svetlocitlivý roztok, obsahujáci 1 Z hmot. prírodného kaučuku v zmesi xylén-to 1uén-ety1-acetát /1:4:0,2/ a 1 Z hmot. zmesi oligomérneho styrénu. Ďalší postup ako v příklade 1. Výhodou navrhovaného postupu je jednoduchost přípravy sve11oci11 ivej kompozície, nízkácena a jednoduchá manipulácia. Navrhovaná kompozícia sa vyznačuje velkou ostrosťou kresby ,vysokou mechanickou pevnosťou získaného reliéfncho obrazu a jednoduchosťou vyvolávaného pro- cesu.
Claims (1)
- 3 205287 PREDMET VYNÁLEZU Sposob přípravy svetlocitlivej kopírovacej vrstvy pre fotomechanické negativné tlačovédošky, vyznačujúcí sa tým, že sa světlocitlivá polymérna vrstva připraví z polymérov butadiénu, chlorprénu alebo prírodného kaučuku za přítomnosti 1 až 15 Z hmot. oligomérneho styrénu. Severopnft*. n. p~ livod 7. Moel
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS356576A CS205287B1 (en) | 1976-05-28 | 1976-05-28 | Method of preparation of light sensitive copying layer for photomechanical negative printing plates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS356576A CS205287B1 (en) | 1976-05-28 | 1976-05-28 | Method of preparation of light sensitive copying layer for photomechanical negative printing plates |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS205287B1 true CS205287B1 (en) | 1981-05-29 |
Family
ID=5376104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS356576A CS205287B1 (en) | 1976-05-28 | 1976-05-28 | Method of preparation of light sensitive copying layer for photomechanical negative printing plates |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS205287B1 (cs) |
-
1976
- 1976-05-28 CS CS356576A patent/CS205287B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0329791B1 (en) | Photosensitive resin composition and color filter | |
| US3723120A (en) | Process for hardening photohardenable images | |
| US3330659A (en) | Photographic product and method of making same | |
| US4161405A (en) | Method of cationally polymerizing oxirane free materials with group VIa onium salts | |
| US3574657A (en) | Polymeric images formed by heat | |
| JPH029480A (ja) | 光硬化被膜を形成する方法 | |
| US4452879A (en) | Preparation of ozone resistant printing plates | |
| US3046125A (en) | Print-out photoresists and method of making same | |
| US3236647A (en) | Photographic reproduction process using photopolymerizable resins and new images obtained | |
| EP0320945A2 (en) | Process for the development of dry PS plates | |
| JPS6025061B2 (ja) | 感光性シリコ−ン樹脂組成物 | |
| KR940001554B1 (ko) | 사진평판의 스트리핑 방법 | |
| JPS5922219B2 (ja) | フレキソ印刷版用感光性樹脂組成物 | |
| US3467518A (en) | Photochemical cross-linking of polymers | |
| US3563749A (en) | Light-sensitive reproduction material | |
| US4188223A (en) | Amino-functional photopolymer compositions and photo-oxidation imaging processes employing same | |
| US4001017A (en) | Process for the photopolymerization of ethylenically unsaturated compounds | |
| US3836368A (en) | Photopolymerizable element comprising a conjugated diacetylene layer on the photopolymer layer | |
| KR940001549B1 (ko) | 고감도의 폴리아미드 에스테르 감광성 내식막 제제 | |
| JPH0612453B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| CS205287B1 (en) | Method of preparation of light sensitive copying layer for photomechanical negative printing plates | |
| US4234674A (en) | Amino-functional photopolymer compositions and photo-oxidation imaging processes employing same | |
| EP0316027A2 (en) | Photocurable resin composition | |
| EP0052806B1 (en) | Dot-enlargement process for photopolymer litho masks | |
| DE2816774A1 (de) | Photopolymerisierbares material |