CS204719B1 - Elektrolytická vodná lázeň pro katodické vylučováni kobaltu - Google Patents
Elektrolytická vodná lázeň pro katodické vylučováni kobaltu Download PDFInfo
- Publication number
- CS204719B1 CS204719B1 CS464479A CS464479A CS204719B1 CS 204719 B1 CS204719 B1 CS 204719B1 CS 464479 A CS464479 A CS 464479A CS 464479 A CS464479 A CS 464479A CS 204719 B1 CS204719 B1 CS 204719B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- cobalt
- cathodic deposition
- electrolytic aqueous
- aqueous bath
- electrolytic
- Prior art date
Links
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 title claims description 9
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 title claims description 9
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical group [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XFKKOXUFYOLJKZ-UHFFFAOYSA-L S(=O)(=O)(O)OC=1C(C(=O)[O-])=CC=CC1.[Co+2].S(=O)(=O)(O)OC=1C(C(=O)[O-])=CC=CC1 Chemical compound S(=O)(=O)(O)OC=1C(C(=O)[O-])=CC=CC1.[Co+2].S(=O)(=O)(O)OC=1C(C(=O)[O-])=CC=CC1 XFKKOXUFYOLJKZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N Mesotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- KDPAWGWELVVRCH-UHFFFAOYSA-N bromoacetic acid Chemical compound OC(=O)CBr KDPAWGWELVVRCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical class [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Vynález se týká elektrolytické vodné lázně pro katodické vylučování kobaltu.
Dosud známé elektrolyty pro katodické vylučování kobaltu používají různých kobaltnatých solí, např. síranu, chloridu, amidosulfonanu, fluoriboritanu nebo jejich směsí. Méně bývá používán pyrofosforečnan, octan a jiné anionty.
Hlavní nevýhodou většiny těchto elektrolytů jsou vysoká makropnutí (400 MPa) vyloučených povlaků, není-li použito inhibitorů pro jejich snížení. Např. aldehydy, ketony, thiosloučeniny, oxichinolin, butindiol apod. Při použití těchto inhibitorů se úroveň makropnutí snižuje až o 50 %, ale vznikají problémy s udržováním jejich potřebné koncentrace v elektrolytu a rozkladnými produkty těchto inhibitorů, které vznikají při elektrodovém ději.
Vysoké makropnutí vyloučených kobaltových povlaků je příčinou jejich praskání, zvláště při velkých tloušťkách.
Proto je snaha použít takových elektrolytů, které tyto inhibitory neobsahují, ale umožňují vylučovat povlaky s nízkým vnitřním pnutím. Jako nejvhodnější se ukázaly elektrolyty na basi amidosulfonanu nikelnatého — sulfamáty, ze kterých lze za vhodných podmínek vyloučit povlaky s nízkým makropnutím. Nevýhoda těchto elektrolytů spočívá v tom, že amidosulfonový aniont podléhá ve vodném kyšelém roztoku, ve kterém je prováděna elektrolysa, hydrolyse na síran amonný, čímž se podstatně zvyšuje úroveň vnitřního pnutí a snižuje se rozpustnost sulfanátu kobaltnatého. Překročí-li teplota při elektrolyse 50 °C, dochází rovněž k rozkladu elektrolytu. Odstranění síranových iontů z elektrolytu je velmi drahé a časově náročné.
Výše uvedené nevýhody odstraňuje elektrolytická vodná lázeň podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že sestává z 0,1 až 1,0 M sulfosalicylanu kobaltnatého rozpuštěného v 1000 ml vody.'
Zvláště výhodná je elektrolytická vodná lázeň podle vynálezu, která obsahuje dále přídavek 0,01 až 0,1 M sloučenin, které obsahují v molekule halogenidy, 0,001 až 0,1 M povrchově aktivního smáčedla a 0,1 až 0,5 M ústojné — pufrační látky, a to jednotlivě nebo ve vzájemné kombinaci.
Elektrolytická vodná lázeň pro katodické vylučování kobaltu podle vynálezu umožňuje vylučovat povlaky s velmi nízkým makropnutím 20 až 100 MPa, bez použití inhibitorů. Povlaky lze vylučovat při proudových hustotách 1 až 10 A/dm2 a při teplotě lázně 20 až 90 °C.
Je možné použít i přídavek slabých kyselin, které udržují pH elektrolytu a neovlivňují kvalitu a vnitřní pnutí kobaltových po204719 vlaků, např. kyseliny borité, citrónové, vinné nebo jejich solí.
Rozmezí pH elektrolytu je 2,0 až 5,6. Při nižším pH než 2,0 se snižuje katodový proudový výtěžek.
Mikrotvrdost vrstev vyloučených z navrhovaného elektrolytu se pohybuje v rozmezí 200 až 450.
Pro odstranění vodíkového pittingu lze použít povrchově aktivních látek. Např. anioaktivních a neionogenních smáčedel. Pro zlepšení rozpustnosti kobaltových anod se použije látek, které obsahují halogenidy. Např. chlorid, bromid, a jodid sodný, halogenkarbonóvá kyseliny.
Vynález je dále objasněn na třech příkladech provedení, jimiž ovšem jeho rozsah není omezen ani vyčerpán.
Příklad 1:
1000 ml voda
1,0 M sulfosalicylan kobaltnatý
0,5 M kyselina boritá
0,1 M bromid draselný pH 4 až 5,0 teplota 60 °C proudová hustóta 10,0 A/dm2 mikrotvrdost 400
P ř í k 1 a d 2 :
1000 ml voda
1,0 M sulfosalicylan kobaltnatý
0,5 M kyselina citrónová » 33'
0,1 M monobromoctová kyselina»'
0,001 M dllsopropyl naftalenšulfonan sodný pH 2,8 až 4,5 teplota 60 °C proudová hustota 10,0 A/dm2 mikrotvrdost 450
Příklad 3:
1000 ml voda
0,75 M sulfosalicylan kobaltnatý
0,5 M vinná kyselina
0,1 M jodid. draselný
0,001 M Slovaton — smáčedlo pH 2,8 až 4,7 teplota 40 až 60 °C proudová hustota 50 Á/dm2 mikrotvrdost 200
Claims (2)
- PŘEDMĚT1. Elektrolytická vodná lázeň pro katodické vylučování kobaltu, vyznačujíc! se tlm, že sestává z 0,1 až 1,0 M sulřosalicylanu kobaltnatého rozpuštěného v 1000 ml vody.
- 2. Elektrolytická vodná lázeň pro katodické vylučování kobaltu podle bodu 1, vyVYNALEZU značující se tím, že obsahuje přídavek 0,01 až 0,1 M sloučenin, které obsahují v molekule halogenidy, 0,001 až 0,1 M povrchově aktivního smáčedla a 0,1 a 0,5 M ústojné — pufrační látky, a to jednotlivě nebo ve vzájemné kombinaci.Tisk 54/82 — Cena 2,40 Kčs
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS464479A CS204719B1 (cs) | 1979-07-03 | 1979-07-03 | Elektrolytická vodná lázeň pro katodické vylučováni kobaltu |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS464479A CS204719B1 (cs) | 1979-07-03 | 1979-07-03 | Elektrolytická vodná lázeň pro katodické vylučováni kobaltu |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS204719B1 true CS204719B1 (cs) | 1981-04-30 |
Family
ID=5389669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS464479A CS204719B1 (cs) | 1979-07-03 | 1979-07-03 | Elektrolytická vodná lázeň pro katodické vylučováni kobaltu |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS204719B1 (cs) |
-
1979
- 1979-07-03 CS CS464479A patent/CS204719B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4054494A (en) | Compositions for use in chromium plating | |
| US4093521A (en) | Chromium electroplating | |
| US3784454A (en) | Additive for the electrodeposition of copper | |
| US4013523A (en) | Tin-gold electroplating bath and process | |
| EP0035667B1 (en) | Trivalent chromium electroplating solution and bath | |
| US4053374A (en) | Chromium electroplating baths | |
| CA1105873A (en) | Trivalent chromium plating bath | |
| US4251331A (en) | Baths and additives for the electroplating of bright zinc | |
| US20070221506A1 (en) | Electroplating method | |
| US4543167A (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
| JPS5887290A (ja) | クロム電気メツキ液 | |
| US3833485A (en) | Electroplating chromium and chromium alloys | |
| Ward et al. | The electrodeposition of chromium from trivalent salts | |
| CS204719B1 (cs) | Elektrolytická vodná lázeň pro katodické vylučováni kobaltu | |
| US2750336A (en) | Chromium plating | |
| US1849293A (en) | Process of electrodepositing indium | |
| US4422908A (en) | Zinc plating | |
| US4155817A (en) | Low free cyanide high purity silver electroplating bath and method | |
| US3453186A (en) | Additives for tin electroplating bath | |
| US2581490A (en) | Electrolytic process of stripping metallic coatings from a ferrous metal base | |
| EP0088192B1 (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
| USRE29749E (en) | Trivalent chromium electroplating baths and electroplating therefrom | |
| FI62347B (fi) | Galvaniseringsbad | |
| US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
| US2802779A (en) | Electrodeposition of nickel and nickel alloys |