CS199389B1 - Expoziční olona pro zjišťování optimální dávky ultrafialového záření - Google Patents

Description

Vynález se týká expoziční olony pro zjišťování optimální dávky ultrafialového záření.

Při léčení některých onemocnění, při podpůrné léčbě nebo při prevenci proti některým chorobám a v neposlední řadě také díky módě se lidská pokožka často vystavuje působení ultrafialového záření. Zdrojem tohoto záření bývá bú3 přirozený zdroj, to jest slunce, nebo zdroj umělý, zpravidla rtuťová výbojka instalovaná obvykle před ploohou schopnou odrážet a do jisté míry i soustřeSovat ultrafialové záření emitované touto výbojkou.

Při ozařování lidské pokožky ultrafialovým zářením existuje reálná nebezpečí ohrožení zdraví ozařované osoby předávkováním záření, přičemž toto předávkování může podle jeho stupně vyvolat i velmi vážné poruchy zdraví. Toto nebezpečí je vysoká zejména při používání rtuťových výbojek jako zdrojů ultrafialového záření, neboť intenzita ultrafialového záření emitovaného těmito zdroji je vzhledem k jejich vzdálenosti od ozařovaná pokožky značná.

V současné době se v běžné praxi dávky pro aplikaci ultrafialového záření určují pouze odhadem, poněvadž objektivní měření těchto dávek je možná pouze pomocí poměrně složitých zařízení. Tento způsob určování dávek ultrafialového záření věak nese riziko předávkování ultrafialovým zářením ozařované osoby, nebo naopak dávkování nedostatečného,

199 389

189 389 která celý proces ozařování prodlužuje.

Uvedená nevýhody odstraňuje expoziční clona pro zjišťování optimální dávky ultrafialového záření podle vynálezu, jehož podstatou jo to, že je tvořena maskou opatřenou průchozími otvory a vedením, ve kterém je vůči masce přestavitelné uložena clona, přičemž f maska a clona jsou z materiálu neprostupného ultrafialovému záření.

Další podstatou ýynálezu je to, že maska je obdélníková, přičemž vedení je upraveno podél jejioh delších stran.

Doplnujíoím znakem vynálezu je to, že maska je kruhová a clona je ve tvaru pruhové výseče.

Rozvíjející znak vynálezu spočívá taká v tom, že průchozí otvory v masce jeou ve tvaru číslic.

Příkladné provedení expoziční clony podle vynélezu je znázorněno na výkrese, kde obr. 1 přestavuje pohled na expoziční clonu ve tvaru obdélníku, obr. 2 pohled ne expoziční clonu kruhového tvaru.

Expoziční olona podle obr. 1 je tvořena maskou χ tvaru obdélníku, která je opatřena průchozími otvory 2 a vedením fi například ve tvaru drážek upravených podél delších etran masky χ, ve kterém je přestevitelně uložena clona fi. Maska χ i clona fi jeou z materiálu neprostupného ultrafialovému záření.

Při přestavování clony fi vůči masce χ jejím přesouváním ve vedení fi jeou clonou fi postupně zakrývány nebo odkrývány průchozí otvory fi v masce χ. Tím je dosaženo při expozici pokožky ultrafialovým zářením přes masku 1 expozimětru odetupňovanýoh expozičních čaeů v místech jednotlivých průchozích otvorů fi masky 1.

Expoziční olona podle obr. 2 je kruhová. Maska χ má tvar kruhu a je po obvodě opa^; třena průchozími otvory fi. Clona fi je ve tvaru kruhové Výseče. Vedení fi pro clonu fi tvoří například nýt fi, který prochází otvory fi; v masce χ a cloně fi.

Clona fi ae vůči masoe X přestavuje otáčením kolem nýtu fi, čímž se postupně zakrývají nebo odkrývají průchozí otvory fi v masoe χ.

Maska 1 může být rovněž tvaru kruhové výseče, například půlkruhu, přičemž svým tvarem i rozměrem může odpovídat tvaru a rozměru clony fi.

Průchozí otvory 2 v masce χ, přes které se pokožka exponuje ultrafialovým zářením, jsou v obou příkladných provedeních expoziční clony podle vynálezu s výhodou číslice, to je každý z průchozích otvorů 2 je upraven do tvaru jedné číslice. Expoziční clona podle vynálezu ae před zjišťováním optimální dávky ultrafialového záření přiloží ne pokožku do místa a vo směru, ve kterém je žádoucí zjistit citlivost pokožky na ultrafialové záření a tím i případnou optimální dávku ultrafialového zářeni pro ozařování, přičemž všechny průchozí otvory fi v mŽísce 1 jsou například odkrýty. Zdroj ultrafialového záření ee pak umístí v obvyklá vzdálenosti od ozařované pokožky, které se exponuje pouze v místech průchozích otvorů 2 v masce 1. V odměřených časových intervalech se clona £ přestaví vůči masce 1 tak, že postupně zakrývá jednotlivé průchozí otvory 2 v masce 1»

Je možný taká opačný postup, to jest, že před započetím zjišťování jsou věechny průchozí otvory 2 v masce 1 donou J zakryty a při expozici pokožky ultrafialovým zářením se clonou £ postupně v odměřených časových intervalech odkrývají.

Po expozici pokožky .ultrafialovým zářením je možno velmi přehledně sledovat účinky působění ultrafialového záření na biochemickou a fyziologickou metabolickou aktivitu tkání a provokační a adaptační změny kožní soustavy v místech průchozích otvorů 2 v masce 1 expoziční clony, která je exponována s odstupňovanými expozičními dobami, a tím zjistit optimální dávku ultrafialového záření.

Tím, že otvory 2 v masce 1 mají tvar číslice, značně zpřehledňuje výsledky tohoto trestu, neboť číslice, kterých se alespoň část zobrazí na pokožce, mohou představovat nejen pořadí, v jakém byly zakrývány nebo odkrývány clonou £ při expozici, ale mohou taká svojí číselnou hodnotou přímo představovat příslušné použité expoziční doby.

Při použiti expoziční clony je vhodné ostatní pokožku ozařované osoby, které není kryté expoziční clonou, vhodně chránit před účinky ultrafialového záření, například oděvem, nebo s výhodou druhou, neznázoměnou maskou vhodné velikosti, opatřenou výřezem, ve kterém je umístěna expoziční clona podle vynálezu.

Claims (4)

1. PŘEDMÉT VYNÁLEZU

   1. Expoziční clona pro zjišťování optimální dávky ultrafialového záření, vyznačující ae tím, že je tvořena maskou (1) opatřenou průchozími otvory (2) a vedením (3) ve kterém je vůči masce (1) přestavitelné uložena clona (4), přičemž maska (1) a clona (4) jsou z materiálu neprostupného ultrafialovému záření.
2. 2. Expoziční clona podle bodu 1, vyznačující se tím, že maska (1) je obdélníková, přičemž vedení (3) je upraveno podél jejích delších stran.
3. 3· Expoziční clona podle bodu 1, vyznačující se tím, že maska (1) je kruhová a clona (4) je ve tvaru kruhové výseče.
4. 4· Expozoční clona podle kteréhokoliv z bodů 1 až 3, vyznačující se tím, že průchozí otvory (2) v masce (1) jsou ve tvaru číslic.