CS199389B1

CS199389B1 - Exposure diaphragm for detection of the optimal dose of ultraviolet radiation

Info

Publication number: CS199389B1
Application number: CS575877A
Authority: CS
Inventors: Ladislav Cirok
Original assignee: Ladislav Cirok
Priority date: 1977-09-05
Filing date: 1977-09-05
Publication date: 1980-07-31

Description

Vynález se týká expoziční olony pro zjišťování optimální dávky ultrafialového záření.The invention relates to exposure olons for detecting an optimal dose of ultraviolet radiation.

Při léčení některých onemocnění, při podpůrné léčbě nebo při prevenci proti některým chorobám a v neposlední řadě také díky módě se lidská pokožka často vystavuje působení ultrafialového záření. Zdrojem tohoto záření bývá bú3 přirozený zdroj, to jest slunce, nebo zdroj umělý, zpravidla rtuťová výbojka instalovaná obvykle před ploohou schopnou odrážet a do jisté míry i soustřeSovat ultrafialové záření emitované touto výbojkou.In the treatment of certain diseases, in supportive treatment or in the prevention of certain diseases, and not least thanks to fashion, human skin is often exposed to ultraviolet radiation. The source of this radiation is either a natural source, that is, the sun, or an artificial source, usually a mercury vapor lamp usually installed in front of a platform capable of reflecting and to some extent concentrating the ultraviolet radiation emitted by the lamp.

Při ozařování lidské pokožky ultrafialovým zářením existuje reálná nebezpečí ohrožení zdraví ozařované osoby předávkováním záření, přičemž toto předávkování může podle jeho stupně vyvolat i velmi vážné poruchy zdraví. Toto nebezpečí je vysoká zejména při používání rtuťových výbojek jako zdrojů ultrafialového záření, neboť intenzita ultrafialového záření emitovaného těmito zdroji je vzhledem k jejich vzdálenosti od ozařovaná pokožky značná.There is a real danger to the health of the person being exposed to ultraviolet radiation by irradiating the human body with ultraviolet radiation, and this overdose may, depending on its degree, cause very serious health disorders. This danger is particularly high when using mercury vapor lamps as ultraviolet radiation sources, since the intensity of ultraviolet radiation emitted by these sources is considerable because of their distance from the irradiated skin.

V současné době se v běžné praxi dávky pro aplikaci ultrafialového záření určují pouze odhadem, poněvadž objektivní měření těchto dávek je možná pouze pomocí poměrně složitých zařízení. Tento způsob určování dávek ultrafialového záření věak nese riziko předávkování ultrafialovým zářením ozařované osoby, nebo naopak dávkování nedostatečného,At present, in practice, the doses for the application of ultraviolet radiation are determined only by estimation, since objective measurement of these doses is only possible with relatively complex devices. However, this method of determining the doses of ultraviolet radiation carries the risk of overdose of the ultraviolet radiation of the person to be irradiated, or vice versa, insufficient dosage,

199 389199 389

189 389 která celý proces ozařování prodlužuje.189 389 which prolongs the entire irradiation process.

Uvedená nevýhody odstraňuje expoziční clona pro zjišťování optimální dávky ultrafialového záření podle vynálezu, jehož podstatou jo to, že je tvořena maskou opatřenou průchozími otvory a vedením, ve kterém je vůči masce přestavitelné uložena clona, přičemž f maska a clona jsou z materiálu neprostupného ultrafialovému záření.The aforementioned disadvantages are eliminated by an exposure iris for detecting the optimum dose of ultraviolet radiation according to the invention, which consists of a mask provided with through holes and a guide in which the iris is adjustable relative to the mask, wherein the mask and the iris are made of material impermeable to ultraviolet radiation.

Další podstatou ýynálezu je to, že maska je obdélníková, přičemž vedení je upraveno podél jejioh delších stran.Another object of the invention is that the mask is rectangular, with the guide extending along its longer sides.

Doplnujíoím znakem vynálezu je to, že maska je kruhová a clona je ve tvaru pruhové výseče.An additional feature of the invention is that the mask is circular and the orifice is in the form of a strip segment.

Rozvíjející znak vynálezu spočívá taká v tom, že průchozí otvory v masce jeou ve tvaru číslic.An evolving feature of the invention is that the through holes in the mask are in the form of numbers.

Příkladné provedení expoziční clony podle vynélezu je znázorněno na výkrese, kde obr. 1 přestavuje pohled na expoziční clonu ve tvaru obdélníku, obr. 2 pohled ne expoziční clonu kruhového tvaru.An exemplary embodiment of an exposure iris according to the invention is shown in the drawing, wherein Fig. 1 represents a rectangular-type exposure iris, Fig. 2 is a circular-shape exposure iris.

Expoziční olona podle obr. 1 je tvořena maskou χ tvaru obdélníku, která je opatřena průchozími otvory 2 a vedením fi například ve tvaru drážek upravených podél delších etran masky χ, ve kterém je přestevitelně uložena clona fi. Maska χ i clona fi jeou z materiálu neprostupného ultrafialovému záření.The exposure olon of FIG. 1 is formed by a rectangular mask χ, which is provided with through holes 2 and a guide f1, for example in the form of grooves arranged along the longer sides of the mask χ, in which the aperture f1 is visibly located. The mask χ and the diaphragm fi are made of material impermeable to ultraviolet radiation.

Při přestavování clony fi vůči masce χ jejím přesouváním ve vedení fi jeou clonou fi postupně zakrývány nebo odkrývány průchozí otvory fi v masce χ. Tím je dosaženo při expozici pokožky ultrafialovým zářením přes masku 1 expozimětru odetupňovanýoh expozičních čaeů v místech jednotlivých průchozích otvorů fi masky 1.When adjusting the diaphragm fi with respect to the mask χ by moving it in the guide fi, the through-holes fi in the mask χ are gradually covered or uncovered by the diaphragm fi. As a result, when the skin is exposed to ultraviolet radiation through the exposure mask 1 of the exposure meter, the exposures of the exposures are staggered at the locations of the individual through holes of the fi mask 1.

Expoziční olona podle obr. 2 je kruhová. Maska χ má tvar kruhu a je po obvodě opa^; třena průchozími otvory fi. Clona fi je ve tvaru kruhové Výseče. Vedení fi pro clonu fi tvoří například nýt fi, který prochází otvory fi; v masce χ a cloně fi.The exposure olon of FIG. 2 is circular. The mask χ has the shape of a circle and is circumferentially opa ^; friction through through holes fi. The diaphragm fi is in the shape of a circular sector. The guide fi for the diaphragm fi is formed, for example, by a rivet fi which passes through the holes fi; in mask χ and aperture fi.

Clona fi ae vůči masoe X přestavuje otáčením kolem nýtu fi, čímž se postupně zakrývají nebo odkrývají průchozí otvory fi v masoe χ.The diaphragm fi ae relative to the meat X adjusts by rotating around the rivet fi, thereby gradually covering or exposing the through holes fi in the meat χ.

Maska 1 může být rovněž tvaru kruhové výseče, například půlkruhu, přičemž svým tvarem i rozměrem může odpovídat tvaru a rozměru clony fi.The mask 1 may also be in the form of a circular sector, for example a semicircle, and its shape and size may correspond to the shape and dimension of the diaphragm.

Průchozí otvory 2 v masce χ, přes které se pokožka exponuje ultrafialovým zářením, jsou v obou příkladných provedeních expoziční clony podle vynálezu s výhodou číslice, to je každý z průchozích otvorů 2 je upraven do tvaru jedné číslice. Expoziční clona podle vynálezu ae před zjišťováním optimální dávky ultrafialového záření přiloží ne pokožku do místa a vo směru, ve kterém je žádoucí zjistit citlivost pokožky na ultrafialové záření a tím i případnou optimální dávku ultrafialového zářeni pro ozařování, přičemž všechny průchozí otvory fi v mŽísce 1 jsou například odkrýty. Zdroj ultrafialového záření ee pak umístí v obvyklá vzdálenosti od ozařované pokožky, které se exponuje pouze v místech průchozích otvorů 2 v masce 1. V odměřených časových intervalech se clona £ přestaví vůči masce 1 tak, že postupně zakrývá jednotlivé průchozí otvory 2 v masce 1»The apertures 2 in the mask χ through which the skin is exposed to ultraviolet radiation are in both exemplary embodiments the exposure shields according to the invention preferably numeral, i.e. each of the apertures 2 is in the form of one digit. The exposure shield of the present invention and prior to determining the optimum dose of ultraviolet radiation will place the skin at a location and in a direction in which it is desirable to determine the sensitivity of the skin to ultraviolet radiation and hence a possible optimum dose of ultraviolet radiation for irradiation. for example, uncovered. The ultraviolet light source ee is then positioned at a conventional distance from the irradiated skin, which is exposed only at the apertures 2 of the mask 1. At measured intervals, the aperture 6 is adjusted relative to the mask 1 so that it gradually covers the individual apertures 2 in the mask 1.

Je možný taká opačný postup, to jest, že před započetím zjišťování jsou věechny průchozí otvory 2 v masce 1 donou J zakryty a při expozici pokožky ultrafialovým zářením se clonou £ postupně v odměřených časových intervalech odkrývají.Such a reverse procedure is possible, that is, prior to the detection, all the through holes 2 in the mask 1 are covered and exposed to ultraviolet radiation, the orifice 6 gradually exposes at measured intervals.

Po expozici pokožky .ultrafialovým zářením je možno velmi přehledně sledovat účinky působění ultrafialového záření na biochemickou a fyziologickou metabolickou aktivitu tkání a provokační a adaptační změny kožní soustavy v místech průchozích otvorů 2 v masce 1 expoziční clony, která je exponována s odstupňovanými expozičními dobami, a tím zjistit optimální dávku ultrafialového záření.After exposure of the skin to ultraviolet radiation, the effects of ultraviolet radiation on the biochemical and physiological metabolic activity of the tissues and the provocation and adaptation changes of the skin system at the through-holes 2 in the mask 1 of the exposure shade can be clearly observed. determine the optimal dose of ultraviolet radiation.

Tím, že otvory 2 v masce 1 mají tvar číslice, značně zpřehledňuje výsledky tohoto trestu, neboť číslice, kterých se alespoň část zobrazí na pokožce, mohou představovat nejen pořadí, v jakém byly zakrývány nebo odkrývány clonou £ při expozici, ale mohou taká svojí číselnou hodnotou přímo představovat příslušné použité expoziční doby.Because the apertures 2 in the mask 1 have the form of a digit, it greatly clarifies the outcome of this punishment, since the digits at least a portion of which is displayed on the skin may represent not only the order in which they were concealed or exposed value directly represent the respective exposure periods used.

Při použiti expoziční clony je vhodné ostatní pokožku ozařované osoby, které není kryté expoziční clonou, vhodně chránit před účinky ultrafialového záření, například oděvem, nebo s výhodou druhou, neznázoměnou maskou vhodné velikosti, opatřenou výřezem, ve kterém je umístěna expoziční clona podle vynálezu.When using an exposure shield, it is appropriate to protect the other skin of the irradiated person not covered by the exposure shield with suitable protection from the effects of ultraviolet radiation, for example, by clothing or preferably with a second, not shown mask of appropriate size.

Claims

SUBJECT OF THE INVENTION

An exposure iris for detecting an optimal dose of ultraviolet radiation, characterized in that it comprises a mask (1) provided with through holes (2) and a guide (3) in which the iris (4) is displaceably mounted relative to the mask (1). (1) and the diaphragm (4) are made of a material impermeable to ultraviolet radiation.

Exposure screen according to claim 1, characterized in that the mask (1) is rectangular, the guide (3) being arranged along its longer sides.

Exposure screen according to claim 1, characterized in that the mask (1) is circular and the screen (4) is in the shape of a circular sector.

The exposure iris diaphragm according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the through holes (2) in the mask (1) are in the form of numbers.