CS199081B1 - Způsob zvýšení extrakce světla diodových elementů - Google Patents

Způsob zvýšení extrakce světla diodových elementů Download PDF

Info

Publication number
CS199081B1
CS199081B1 CS580177A CS580177A CS199081B1 CS 199081 B1 CS199081 B1 CS 199081B1 CS 580177 A CS580177 A CS 580177A CS 580177 A CS580177 A CS 580177A CS 199081 B1 CS199081 B1 CS 199081B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
diode elements
light
mixture
etching
increasing
Prior art date
Application number
CS580177A
Other languages
English (en)
Inventor
Eva Novotna
Dusan Nohavica
Original Assignee
Eva Novotna
Dusan Nohavica
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eva Novotna, Dusan Nohavica filed Critical Eva Novotna
Priority to CS580177A priority Critical patent/CS199081B1/cs
Publication of CS199081B1 publication Critical patent/CS199081B1/cs

Links

Landscapes

  • Weting (AREA)

Description

Vynálezem je způsob zvýšení extrakce světla diodových elementů.
Při výrobě elektroluminiscenčních diod zvýšená pozornost je věnována zvýšení hodnoty vnější kvantové účinnosti. Jak je známo, hodnota účinnosti se může zvýšit tím, že povrch intermetalických slitin, například ve formě polovodičových destiček určených k výrobě elektroluminiscenčních diod se předem chemicky opracuje. Přitom cílem chemické úpravy může být také jen změna vzhledu, například dosažení jasného lesku úplným nanebo částečným selektivním leptáním, to je rozpouštěním zpracovávaného materiálu pomocí chemických činidel až do určité hloubky od povrchu. Intermetalieká slitina se přitom současně očistí, a výčnělky jejího povrchu se zarovnají a zaoblí, zmenší, nebo i odstraní, lesk povrchu leptaného materiálu se zvýší, extrakce světla se zlepší a ztrátový proud na bočném povrchu se potlačí.
Z prostředků používaných k leptání je známa například směs kyseliny sírové, peroxidu vodíku a vody, nebo směs kyseliny dusičné a vody, dále směs kyseliny fluorovodíkové, peroxidu vodíku a vody a řada dalších. Dále je známo strukturní leptání pomocí směsi sestávající z kyseliny fluorovodíkové, kyseliny dusičné a dusičnanu stříbrného (Saul R.H.: J. Electrochem. Soc., Vol. 115 (1968) 11, 1184-1190). Je také známo leptání
199 081
199 081 vzorků fosfidu galia (Výzkumná zpráva VUST 62 009/1 (1972) 22-23) pomocí směsi kyseliny fluorovodíkové, kyseliny dusičné a dusičnanu stříbrného.
Prostředky k leptání mají vyhovovat určitým podmínkám. Tak například v případě polovodičových materiálů, například destiček z arsenidu galia, které jsou určeny k výrobě elektroluminiscenčních diod je zapotřebí leptadla, jehož použitím se podstatně zvýší kvantové účinnost zpracováváných diod, a které projevuje vyšší rychlost leptání než 100 mikrometrů za minutu, déle u kterého pracovní podmínky nejsou horší, a kterým lze zpracovávat nejen výchozí materiál, ale i polotovary, popřípadě hotové výrobky.
Uvedené podmínky splňuje tento vynález, týkající se způsobu zvýšení extrakce světla diodových elementů ze sloučenin arsenidu galia a z nich odvozených tuhých roztoků, namořením povrchu. Podstatou vynálezu je pracovní postup, při kterém se na povrch diodového elementu při teplotě 10 až 60 °C a při běžném tlaku působí 3 až 45 s. směsí 1 dílu kyseliny fluorovodíkové, 1,5 až 4,5 dílu kyseliny dusičné 1 až 2 dílů vody a 0,1 až 1 dílu dusičnanu stříbrného při pH 1,6 až 3.
Toto řešení využívá poznatuku, že polovodičovou sloučeninu lze chemickou směsí podle vynálezu naleptat tak, že při rychlosti leptání 100 až 150 mikrometrů za minutu se vnější kvantové účinnost vyrobených diod, měřené při proudové hustotě 1 až 2 A/cm , zvýší v průměru až o 100 %.
Výhodou postupu podle vynálezu je okolnost, že nehledě na přítomné kysličníky dusíku, které však běžně vznikají i při používání dosud známých leptadel obsahujících kyselinu dusičnou, při práci se nevyvíjejí žádné jiné škodlivé látky. Kysličníku dusíku, které při práci vzniknou, mohou být snadno odstraněny běžným odsávacím zařízení. Mohou být chemicky opracovány i hotové součástky, například diodové prvky upevněné na pozlacených pouzdrech, ačkoliv ve světové technice až dosud nebylo známo použití leptadla obsahujícího směs kyseliny fluorovodíkové, dusičné a dusičňanu stříbrného pro chemickou úpravu diodových elementů ze sloučenin arsenidu galia.
Následující příklady provedení objasňují podstatu vynálezu, aniž by ho jakýmkoliv způsobem omezovaly.
Příklad 1 až 10
Polovodičové destička z arsenidu galia s přechodem P-N se opatří napařenými kontakty, načež se na ni při teplotě +1Θ °C působí po dobu 15 a směsí 1 dílu kyseliny fluorovodíkové, 3 dílů kyseliny dusičné a 1 až 2 dílů vody s takovým množstvím 1 hmot. % dusič nanu stříbrného, že pH výsledného roztoku mé hodnotu 1,6. Povrch vzorků se opláchne redestilovanou vodou a vzorky se vysuší, načež se změří zkratový proud kalibrované fotodiody. Parametry zkoušek jsou uvedeny v tab. X.
199 081
Tab. I.
Pracovní proud ve všeoh příkladech 10 mA., doba leptání v příkladě 1 je 15 s, v příkladech 2 až 10 trvá 20 a.
Příklad Původní hodnoty Konečné hodnoty Koeficient
číslo diody v %'· diody v zlepšení:
1 1,1 1,7 1,54
2 0,65 1,3 2,0
3 0,85 1,8 2,1
4 1,0 2,0 2,0
5 1,1 1,9 1,72
6 1,15 2,3 2,0
7 1,3 1,9 1,72
8 1,4 3,0 2,14
9 1,5 3,8 2,53
10 1,8 3,1 1,72
Příklad 11
Opakuje se postup jako v příkladě 1, avšak a tím rozdílem, že se na povrch destičky
z arsenidu galia působí při teplotě + 30 °C po dobu 10 s směsným leptadlem o pH 2. Vnějáí kvantová účinnost stoupne cca o 100 %.
Příklad 12
Pracuje se jako v příkladě 1 s tou změnou, že teplota je 60 °C, doba působení 3 s a pH leptadla je 3. Vnějáí kvantová účinnost vzroste přibližně o 100 %.

Claims (1)

  1. Způsob zvýšení extrakce světla diodových elementů ze sloučenin arsenidu galia a z nich odvozených tuhých roztoků namořením povrchu, vyznačený tím, že se na povrch diodového elementu působí při teplotě 10 až 60 °C a při běžném tlaku po dobu 3 až 45 s směsi 1 dílu kyseliny fluorovodíkové, 1,5 až 4,5 dílu kyseliny dusičné, 1 až 2 dílů vody a 0,1 až 1 dílu dusičnanu stříbrného při pH 1,6 až 3.
CS580177A 1977-09-06 1977-09-06 Způsob zvýšení extrakce světla diodových elementů CS199081B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS580177A CS199081B1 (cs) 1977-09-06 1977-09-06 Způsob zvýšení extrakce světla diodových elementů

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS580177A CS199081B1 (cs) 1977-09-06 1977-09-06 Způsob zvýšení extrakce světla diodových elementů

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS199081B1 true CS199081B1 (cs) 1980-07-31

Family

ID=5403588

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS580177A CS199081B1 (cs) 1977-09-06 1977-09-06 Způsob zvýšení extrakce světla diodových elementů

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS199081B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1241898A (en) Soluble surfactant additives for ammonium fluoride/hydrofluoric acid oxide etchant solutions
US8652972B2 (en) Stabilized etching solutions for CU and CU/NI layers
EP0201808B1 (en) Soluble fluorinated cycloalkane sulfonate surfactant additives for NH4F/HF oxide etchant solutions
US4230522A (en) PNAF Etchant for aluminum and silicon
US9876128B2 (en) Texturing monocrystalline silicon substrates
JPS63211724A (ja) 貯蔵可能な半導体洗浄液、その製造方法及びその使用方法
DE102014111282A1 (de) Verfahren zum sauren Ätzen von Silizium-Wafern
CN113668067A (zh) 单晶硅片碱抛光用添加剂及其应用
US2974075A (en) Treatment of semiconductive devices
CS199081B1 (cs) Způsob zvýšení extrakce světla diodových elementů
JPS63274149A (ja) 半導体処理剤
KR100197339B1 (ko) 실리콘웨이퍼로부터 손상된 결정영역을 제거시키는방법
JPH0653262A (ja) 半導体デバイス等の金属表面からプラスチックのばり等を電解除去する方法及びその方法に使用する溶液組成物
Woodall et al. Photoelectrochemical passivation of GaAs surfaces
US4256520A (en) Etching of gallium stains in liquid phase epitoxy
US3272748A (en) Etching of silicon and germanium
US2740699A (en) Surface processing
US2578898A (en) Electrolytic removal of metallic coatings from various base metals
US4194954A (en) Electrolytic etch preparation of semiconductor surfaces
CA1316441C (en) Solutions of permonosulphuric acid
KR20020097002A (ko) 경금속 합금 표면을 정화 및 부동태화 하는 방법
US3891483A (en) Method for etching semiconductor surfaces
US2154469A (en) Bright dip
JPS6212311B2 (cs)
US3966880A (en) Method for producing alkali metal gold sulfite