CN2827255Y - 抹布结构改良 - Google Patents

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Abstract

本实用新型是一种抹布结构改良,尤指针对现有抹布组成的各纱布层在制程中经浆料定型,造成抹布在使用时纱布层释出含有荧光剂等化学物质的浆料会刺激或伤害皮肤的缺点,加以改良的创新结构;是主要由数层纱布层重迭而加以车缝结合成一复数纱布层的抹布,该抹布再经过脱浆处理,使抹布各纱布层在脱浆处理中形成自然绉折结构;以便可避免抹布残留含有荧光剂等化学物质的浆料在使用中释放出来造成肌肤的刺激伤害,同时抹布在擦拭使用时又以绉折表面凹凸空间可容纳脏污杂质,而能迅速将脏污抹除干净,具较佳的清洁效果的进步性。

Description

抹布结构改良
技术领域
本实用新型是主要涉及一种抹布结构的创新设计。
背景技术
如图1所示是为一现有抹布结构的立体示意图,该抹布10是由数层纱布层重迭而以缝线11缝结组合,并在四边车成布边12组成,而其中各纱布层在制造过程中为使其平整容易车缝施工,往往须先以浆料将各纱布层加工成一平整的纱布层,以便可方便缝结组合的施工。
然而如上所述现有由浆料处理的纱布层迭组缝结而成的平整抹布结构,往往在抹布沾水使用时浆料中的荧光剂及化学物质慢慢释出来,不但消费者在使用操作中手部肌肤沾到浆料也会受到其刺激与伤害,为其缺点之一。
其次,现有抹布释出的浆液也将会使抹布变得滑粘的质感,再加上现有抹布平整的纱布层都非常不利于抹布的清洁效果,为其缺点之二。
所以如何针对以上现有抹布容易造成消费者肌肤受到纱布层释出浆液刺激、伤害,又不利清洁效果的缺点加以改良设计者,是为本实用新型所欲行解决的困难点所在。
实用新型内容
本实用新型的主要目的,是在提供一种抹布结构改良,可避免抹布释出含有荧光剂等化学物质的浆液造成消费者肌肤受到的刺激伤害,具较佳的使用安全性。
本实用新型的次一目的,是在提供一种抹布结构改良,其可以表面自然形成的绉折空间可供容置脏污杂质,达到迅速抹除的较佳清洁效果。
为达到上述的目的,本实用新型是主要由数层纱布层重迭而加以车缝结合成一复数纱布层的抹布,该抹布再经过脱浆处理,使抹布各纱布层在脱浆处理中形成自然绉折结构。
附图说明
图1:是现有抹布的立体图;
图2:是本实用新型的立体示意图;
图3:是本实用新型的使用实施例平面示意图。
图式中各标号的意义如下:
10、20...抹布    11...缝线    12...布边    21...纱布层
211....绉折结构    22....车缝线    30....脏污表面
具体实施方式
以下,兹配合图式列举一具体实施例,详细介绍实用新型作的构造内容,及其所能达成的功能效益如后。
如图2所示为本实用新型的立体分解示意图,其是主要由数层纱布层21重迭而以车缝线22缝结组成一复数纱布层的抹布20,又将该抹布20施以脱浆处理,而使抹布20各纱布层21在脱浆处理中形成自然绉折结构211。
上述组成本实用新型抹布20的各纱布层21,虽然在制造过程中为求平整而易于组合施工,而先经一以浆料处理成平整状的前置作业,但本实用新型再经脱浆处理可将各纱布层21残留含有荧光剂等化学物质的浆料清除干净,而避免造成消费者肌肤受到的刺激与伤害,同时自然形成凹凸的绉折结构211。
如图3所示为本实用新型的使用操作示意图,本实用新型在抹布20在于脱浆过程中自然形成的绉折结构211,可在一脏污表面30进行清洁抹除作业时,则其绉折结构211的内凹空间恰可该脏污杂质容置,而迅速抹除完成清洁工作,达到较佳清洁效果。
如上所述本实用新型「抹布结构改良」,通过由脱浆处理清除抹布内含有荧光剂等化学物质的浆料,又使抹布自然形成绉折结构,可避免造成消费者肌肤受到的刺激伤害,具较佳的使用安全性,又以绉折空间可迅速抹除脏污的较佳清洁效果。
综上所述,当知本实用新型具有产业上利用性与进步性,且本实用新型未见于任何刊物,亦具新颖性,当符合专利法的规定。

Claims (1)

1.一种抹布结构改良,其特征在于,由数层脱浆的纱布层重迭,而加以车缝成具有自然绉折结构的抹布。
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